JPH0473837A - 電子放出素子 - Google Patents
電子放出素子Info
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- JPH0473837A JPH0473837A JP2184055A JP18405590A JPH0473837A JP H0473837 A JPH0473837 A JP H0473837A JP 2184055 A JP2184055 A JP 2184055A JP 18405590 A JP18405590 A JP 18405590A JP H0473837 A JPH0473837 A JP H0473837A
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- collector
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- electron
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- 230000035939 shock Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
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- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
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- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は電界放出型の電子放出素子(FieldEa+
1ssion Cathodes、以下FECとも呼ぶ
。)に関するものである。本発明の電子放出素子は、各
種表示装置、マイクロ真空管、光源、増幅素子、高速ス
イッチング素子、センサー等における電子源として存用
である。
1ssion Cathodes、以下FECとも呼ぶ
。)に関するものである。本発明の電子放出素子は、各
種表示装置、マイクロ真空管、光源、増幅素子、高速ス
イッチング素子、センサー等における電子源として存用
である。
電界放出型の電子放出素子の代表的な構造例である縦型
の構造を第3図に示す。図中100は、不純物が高濃度
にトープされて高伝導率をもつ基板であり、この基板1
00上に形成された5in2の絶縁層101中に形成さ
れたキャビティ102内には、電子放出部としてMOか
らなるエミッタ103が形成されている。さらにこのエ
ミッタ103を囲んでゲート電極104となるMO薄膜
が絶縁層101上に被着されている。
の構造を第3図に示す。図中100は、不純物が高濃度
にトープされて高伝導率をもつ基板であり、この基板1
00上に形成された5in2の絶縁層101中に形成さ
れたキャビティ102内には、電子放出部としてMOか
らなるエミッタ103が形成されている。さらにこのエ
ミッタ103を囲んでゲート電極104となるMO薄膜
が絶縁層101上に被着されている。
この電子放出素子によれば、例えば基板100に対して
ゲート電1104を数10Vから数100■の範囲でバ
イアスすることにより、エミッタ103の先端とゲート
電極104間に106V/cm〜tO’V/cm程度の
電界を生じさせ、エミッタ103の先端よりトータルと
して数100mAの電子放出を得ることができる。
ゲート電1104を数10Vから数100■の範囲でバ
イアスすることにより、エミッタ103の先端とゲート
電極104間に106V/cm〜tO’V/cm程度の
電界を生じさせ、エミッタ103の先端よりトータルと
して数100mAの電子放出を得ることができる。
第4図には、このような電子放出素子を電子源に利用し
た従来の表示装置の概略斜視図を示す(特開昭61−2
21783号参照)。
た従来の表示装置の概略斜視図を示す(特開昭61−2
21783号参照)。
第4図において、絶縁体基板110上には、列111の
方向に沿って複数の導電膜112が設けられ、該導電膜
112上には円錐形電界放射エミッタ113および絶縁
層114が設けられている。この絶縁層114上で、且
つ行115の方向に沿って複数のゲート116が設けら
れている。
方向に沿って複数の導電膜112が設けられ、該導電膜
112上には円錐形電界放射エミッタ113および絶縁
層114が設けられている。この絶縁層114上で、且
つ行115の方向に沿って複数のゲート116が設けら
れている。
このゲート116の円錐形電界放射エミッタ113に対
面する位置には孔が設けられている。
面する位置には孔が設けられている。
方、透明基板117には、前記絶縁体基板110と対向
する面に、透明導電膜118、蛍光体層119がそれぞ
れへ夕状に積層被着され、コレクタとしての表示部12
0が形成されている。
する面に、透明導電膜118、蛍光体層119がそれぞ
れへ夕状に積層被着され、コレクタとしての表示部12
0が形成されている。
そして絶縁体基板110及び透明基板117は、図示し
ない側面部材とともに、真空外囲器を構成している。
ない側面部材とともに、真空外囲器を構成している。
以上の如く構成された表示装置の動作は以下の通りであ
る。
る。
前記透明導電膜118には常時正の電位が印加されてい
る。表示信号に応答して、各列111及び各行115の
導電膜112とゲート116間に、所定の電位差を付与
する。該電位差が付与されたゲート116と前記円錐形
電界放射エミッタ113の間に適当な電界が形成され、
円錐形状の先端部より電子が放出される。該電子は、ゲ
ート116の孔から放出され、対面する蛍光体層119
に射突し、コレクタとしての表示部120において該蛍
光体層119が発光する。
る。表示信号に応答して、各列111及び各行115の
導電膜112とゲート116間に、所定の電位差を付与
する。該電位差が付与されたゲート116と前記円錐形
電界放射エミッタ113の間に適当な電界が形成され、
円錐形状の先端部より電子が放出される。該電子は、ゲ
ート116の孔から放出され、対面する蛍光体層119
に射突し、コレクタとしての表示部120において該蛍
光体層119が発光する。
以上の動作により、表示信号に応じた画像が表示される
。
。
第5図は、特開昭64−33833号で開示された電界
放圧型電子放出素子の他の構造例である横型の構造図で
ある。
放圧型電子放出素子の他の構造例である横型の構造図で
ある。
絶縁基板200上には、中央に突端部201を備えたエ
ミッタ202が設けられている。このエミッタ202に
隣接して、前記突端部201に対応する開口部203を
備えたゲート204が設けられている。そして、このゲ
ート204を間にして前記エミッタ202と反対側の絶
縁基板200上には、ゲート204と平行にコレクタと
しての2次電子放出電極205が設けられている。
ミッタ202が設けられている。このエミッタ202に
隣接して、前記突端部201に対応する開口部203を
備えたゲート204が設けられている。そして、このゲ
ート204を間にして前記エミッタ202と反対側の絶
縁基板200上には、ゲート204と平行にコレクタと
しての2次電子放出電極205が設けられている。
ここで、エミッタ202とケート204の間、及びゲー
ト204と2次電子放出電極205との間にそれぞれ所
定の電位差を付与すると、エミッタ202の突端部20
1から放出された電子がゲート204の開口部203を
経て2次電子放出電極205に射突し、このコレクタと
しての2次電子放出電極205がらは2次電子が放出さ
れる。
ト204と2次電子放出電極205との間にそれぞれ所
定の電位差を付与すると、エミッタ202の突端部20
1から放出された電子がゲート204の開口部203を
経て2次電子放出電極205に射突し、このコレクタと
しての2次電子放出電極205がらは2次電子が放出さ
れる。
(発明が解決しようとする課題)
前述したような従来の電子放出素子によれば、例えば1
0−5〜10−’To r r程度の低真空度で駆動す
ると、次のような不都合が生じていた。
0−5〜10−’To r r程度の低真空度で駆動す
ると、次のような不都合が生じていた。
即ち、電界放出電子は、コレクタに到達するまでの走行
運動途中やコレクタ等に射突した際に電離衝突によって
イオンを生成する。このイオンが、負電圧のエミッタの
先端に損傷を与えたり、又はスパッタ膜を形成すること
でエミッタの先端を汚染する。そして、このようなエミ
ッタの損傷や汚染が低真空度におけるFECの寿命特性
を著しく短いものにしていた。
運動途中やコレクタ等に射突した際に電離衝突によって
イオンを生成する。このイオンが、負電圧のエミッタの
先端に損傷を与えたり、又はスパッタ膜を形成すること
でエミッタの先端を汚染する。そして、このようなエミ
ッタの損傷や汚染が低真空度におけるFECの寿命特性
を著しく短いものにしていた。
本発明の電子放出素子は、エミッタとゲートとコレクタ
を有する電子放出素子において、前記エミッタの先端か
ら前記コレクタを直接見込めないような構造のシールド
電極を前記ゲートと前記コレクタの間に設けたことを特
徴としている。
を有する電子放出素子において、前記エミッタの先端か
ら前記コレクタを直接見込めないような構造のシールド
電極を前記ゲートと前記コレクタの間に設けたことを特
徴としている。
また本発明によれば、前記電子放出素子において、前記
シールド電極に印加される電圧を、前記エミッタに印加
される電圧以上で前記コレクタに印加される電圧よりも
小さい値としてもよい。
シールド電極に印加される電圧を、前記エミッタに印加
される電圧以上で前記コレクタに印加される電圧よりも
小さい値としてもよい。
電界放出電子がコレクタに射突した際に発生したイオン
は、シールド電極に遮られてエミッタの先端には届かな
い。
は、シールド電極に遮られてエミッタの先端には届かな
い。
本発明の第1実施例を第1図によって説明する。本実施
例は、縦型のFEC1を有する蛍光表示素子2に関する
ものである。
例は、縦型のFEC1を有する蛍光表示素子2に関する
ものである。
絶縁性の基板3の上面にはエミッタ電極4が形成され、
その上にはSin、の絶縁層5が形成されている。この
絶縁層5中に形成されたキャビティ6内には、Moから
なるコーン形状のエミッタ7が多数形成され、前記エミ
ッタ電極4と接続導通している。さらに、前記絶縁層5
上にはM。
その上にはSin、の絶縁層5が形成されている。この
絶縁層5中に形成されたキャビティ6内には、Moから
なるコーン形状のエミッタ7が多数形成され、前記エミ
ッタ電極4と接続導通している。さらに、前記絶縁層5
上にはM。
薄膜からなるゲート8が被着されている。このゲート8
には、前記各エミッタ7と対応する位置に電子が通過す
るための丸孔9がそれぞれ形成されている。
には、前記各エミッタ7と対応する位置に電子が通過す
るための丸孔9がそれぞれ形成されている。
前記基板3の上方には、基板3と平行に第2の絶縁性の
基板10が設けられている。この基板10と前記基板3
は、図示しない側面板とともに箱形の密封外囲器を構成
しており、その内部は奏真空状態に排気されている。
基板10が設けられている。この基板10と前記基板3
は、図示しない側面板とともに箱形の密封外囲器を構成
しており、その内部は奏真空状態に排気されている。
この第2の基板10の内面には、コレクタ11が形成さ
れている。本実施例は蛍光表示素子2に関するものであ
り、前記コレクタ11は基板1゜に被着されたコレクタ
電極12と、その上面に設けられた蛍光体13によって
構成されている。
れている。本実施例は蛍光表示素子2に関するものであ
り、前記コレクタ11は基板1゜に被着されたコレクタ
電極12と、その上面に設けられた蛍光体13によって
構成されている。
次に、本実施例の蛍光表示素子2か有するFEC1は、
エミッタ7とコレクタ11の間にシールド電8i14を
備えている。このシールド電極14は多数の開口部15
を有する板状の電極であるが、各エミッタ7か開口部1
5を介してコレクタ11に直接晒されることがないよう
に、エミッタ7の真上には開口部15がこないようにな
っている。即ち、この開口部15を有するシールド電極
14は、各エミッタ7の先端からコレクタ11を直接見
込めないように位置及び形状か構成されている。
エミッタ7とコレクタ11の間にシールド電8i14を
備えている。このシールド電極14は多数の開口部15
を有する板状の電極であるが、各エミッタ7か開口部1
5を介してコレクタ11に直接晒されることがないよう
に、エミッタ7の真上には開口部15がこないようにな
っている。即ち、この開口部15を有するシールド電極
14は、各エミッタ7の先端からコレクタ11を直接見
込めないように位置及び形状か構成されている。
シールド電極14とエミッタ7の関係を本実施例に即し
てより具体的に説明すれば、シールド電極14の隣り合
う2つの開口部15.15においてそれぞわ対角線を想
定した場合、両開口部15.15の中間下方で両対角線
は交叉する。本実施例では図中破線でこの対角線が示し
であるが、エミッタ7の先端が両破線よりも上方に位置
するようになっている。なお、電子放出効率を考慮して
、エミッタ7の先端とゲート8の上面は同じ高さになっ
ている。
てより具体的に説明すれば、シールド電極14の隣り合
う2つの開口部15.15においてそれぞわ対角線を想
定した場合、両開口部15.15の中間下方で両対角線
は交叉する。本実施例では図中破線でこの対角線が示し
であるが、エミッタ7の先端が両破線よりも上方に位置
するようになっている。なお、電子放出効率を考慮して
、エミッタ7の先端とゲート8の上面は同じ高さになっ
ている。
このように、本実施例によれば、各エミッタ7の先端か
らコレクタ11を直接見込めないような位置及び形状と
なるようにシールド電極14を構成しているので、少く
ともコレクタ11から飛来するイオンから各エミッタ7
の先端を守ることができる。
らコレクタ11を直接見込めないような位置及び形状と
なるようにシールド電極14を構成しているので、少く
ともコレクタ11から飛来するイオンから各エミッタ7
の先端を守ることができる。
次に、本発明の第2実施例を第2図によって説明する。
本実施例は、横型のFEC20に関するものである。
図中21はくし歯状のエミッタ、22はゲート、23は
コレクタであり、絶縁性の基板上に配設されている。こ
れらの基本的な構成は従来と同じである。本実施例のF
EC20は、ゲート22とコレクタ23の間にシールド
電極24を有している。シールド電極24の高さは、ゲ
ート22及びコレクタ23の高さよりも大きく、エミッ
タ21の先端から直接コレクタ23を見込むことがてき
ない。このため、第1実施例と同様、コレクタ23から
飛来するイオンによってエミ・・Iり21の先端が損傷
したり汚染したりすることは確実に防止される。
コレクタであり、絶縁性の基板上に配設されている。こ
れらの基本的な構成は従来と同じである。本実施例のF
EC20は、ゲート22とコレクタ23の間にシールド
電極24を有している。シールド電極24の高さは、ゲ
ート22及びコレクタ23の高さよりも大きく、エミッ
タ21の先端から直接コレクタ23を見込むことがてき
ない。このため、第1実施例と同様、コレクタ23から
飛来するイオンによってエミ・・Iり21の先端が損傷
したり汚染したりすることは確実に防止される。
なお、以上2つの実施例においては、シールド電極14
.24に印加される電圧は、前記エミッタ7.21に印
加される電圧以上であり、かつコレクタ11.23に印
加される電圧よりも小さければよい。またケート8.2
2およびシールド電極への電子流をできるたけ減らし、
コレクタ11.23への流入効率をFげるために、第1
実施例においては、ケート8上に帯状の絶縁層と導体層
を形成した構造とし、該導体層に電圧を印加することに
より電子流を偏向させ、開口部を電子流が通りやすくな
るようにしてもよい。
.24に印加される電圧は、前記エミッタ7.21に印
加される電圧以上であり、かつコレクタ11.23に印
加される電圧よりも小さければよい。またケート8.2
2およびシールド電極への電子流をできるたけ減らし、
コレクタ11.23への流入効率をFげるために、第1
実施例においては、ケート8上に帯状の絶縁層と導体層
を形成した構造とし、該導体層に電圧を印加することに
より電子流を偏向させ、開口部を電子流が通りやすくな
るようにしてもよい。
また、第2実施例においては、エミッタ21等か配設さ
れている絶縁性基板と対向する基板に、全面へ夕状に導
体を被着し、該導体に電圧を印加することにより電子流
を該対向基板側へ幾分偏向させることにより、電子ン荒
がシールド電極24に衝突することなく、コレクタ23
へ到達てきるようにすることも可能である。
れている絶縁性基板と対向する基板に、全面へ夕状に導
体を被着し、該導体に電圧を印加することにより電子流
を該対向基板側へ幾分偏向させることにより、電子ン荒
がシールド電極24に衝突することなく、コレクタ23
へ到達てきるようにすることも可能である。
(発明の効果〕
本発明によれば、ケートとコレクタの間にシールド電極
を設けであるので、従来問題とされていたイオン衝撃に
よるエミッタ先端の損傷を大幅に軽減させることができ
、FECの低真空度雰囲気での寿命を伸ばすことができ
る。
を設けであるので、従来問題とされていたイオン衝撃に
よるエミッタ先端の損傷を大幅に軽減させることができ
、FECの低真空度雰囲気での寿命を伸ばすことができ
る。
第1図は本発明の第1実施例を示す断面図、第2図は同
第2実施例を示す斜視図、第3図は従来の縦型の電子放
出素子の断面図、第4図は従来の縦型の電子放出素子を
用いた表示装置の構造説明図、第5図は従来の横型の電
子放出素子の斜視図である。 1.20・・・電子放出素子(FEC)、7.21・・
・エミッタ、 8.22−・・ケート、 11.23−・・コレクタ、 +4.24=−シールド電極。 第 図 /
第2実施例を示す斜視図、第3図は従来の縦型の電子放
出素子の断面図、第4図は従来の縦型の電子放出素子を
用いた表示装置の構造説明図、第5図は従来の横型の電
子放出素子の斜視図である。 1.20・・・電子放出素子(FEC)、7.21・・
・エミッタ、 8.22−・・ケート、 11.23−・・コレクタ、 +4.24=−シールド電極。 第 図 /
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エミッタとゲートとコレクタを有する電子放出素子
において、前記エミッタの先端から前記コレクタを直接
見込めないような構造のシールド電極を前記ゲートと前
記コレクタの間に設けた電子放出素子。 2、前記シールド電極に印加される電圧が、前記エミッ
タに印加される電圧以上で前記コレクタに印加される電
圧よりも小さい値とされた請求項1記載の電子放出素子
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18405590A JP2950378B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 電子放出素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18405590A JP2950378B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 電子放出素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0473837A true JPH0473837A (ja) | 1992-03-09 |
JP2950378B2 JP2950378B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=16146590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18405590A Expired - Lifetime JP2950378B2 (ja) | 1990-07-13 | 1990-07-13 | 電子放出素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2950378B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05274997A (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | Agency Of Ind Science & Technol | 電界放出素子 |
US5594296A (en) * | 1993-12-27 | 1997-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron source and electron beam apparatus |
WO2007023945A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 放電プラズマ生成補助装置 |
-
1990
- 1990-07-13 JP JP18405590A patent/JP2950378B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05274997A (ja) * | 1992-03-27 | 1993-10-22 | Agency Of Ind Science & Technol | 電界放出素子 |
US5594296A (en) * | 1993-12-27 | 1997-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron source and electron beam apparatus |
WO2007023945A1 (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Matsushita Electric Works, Ltd. | 放電プラズマ生成補助装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2950378B2 (ja) | 1999-09-20 |
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