JP2000149832A - 平面型表示装置 - Google Patents

平面型表示装置

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JP2000149832A
JP2000149832A JP10320884A JP32088498A JP2000149832A JP 2000149832 A JP2000149832 A JP 2000149832A JP 10320884 A JP10320884 A JP 10320884A JP 32088498 A JP32088498 A JP 32088498A JP 2000149832 A JP2000149832 A JP 2000149832A
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JP10320884A
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Kazuo Kikuchi
一夫 菊地
Yukinobu Iguchi
如信 井口
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Sony Corp
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Sony Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2329/00Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
    • H01J2329/86Vessels
    • H01J2329/8625Spacing members
    • H01J2329/863Spacing members characterised by the form or structure
    • HELECTRICITY
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  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 平面型表示装置を構成する相対向する基板間
に配置されるスペーサから蛍光面に向かう反射による電
子、あるいは2次電子の減少を図り、発光表示の安定
化、画質の向上を図る。 【解決手段】 第1および第2の基板1および2が、所
要の高さを有するスペーサ13を介して所要の間隔を保
持して対向され、これら第1および第2の基板1および
2の対向部の周辺部が気密的に封止されてこれら第1お
よび第2の基板間に気密的偏平空間が形成され、第1の
基板1側に電子放出部4が配置され、第2の基板2側に
蛍光面5が形成され、電子放出部4から取り出された電
子が、加速されて蛍光面に照射され、この蛍光面5を励
起発光して目的とする発光表示を行うようにした平面型
表示装置であって、そのスペーサ表面に微細凹凸14が
形成された構成として、ペーサから蛍光面に向かう反射
による電子、あるいは2次電子の減少を図り、発光表示
の安定化、画質の向上を図る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平面型表示装置に
関わる。
【0002】
【従来の技術】従来の平面型表示装置は、例えば図6に
その一部を断面とする斜視図を示すように、それぞれ例
えばガラス基板によって構成される第1および第2の基
板1および2が、補強用のスペーサ3を介して、互いに
所要の間隔を保持して対向され、これら相対向する基板
1および2の周辺部が例えばガラスフリットによって気
密的に封着されて、両基板1および2間に、気密的偏平
空間が形成され、第1の基板1側に電子放出部4が配置
され、第2の基板2側に蛍光面5が形成されて成る。
【0003】第1の基板1上には、それぞれ例えばスト
ライプ状の複数の第1および第2の電極11および12
が、互いに交叉する方向に平行配列され、互いの交叉部
が絶縁層7を介して電気的に絶縁されて形成される。
【0004】そして、例えばこれら第1および第2の電
極11および12の交叉部に対応して、それぞれ電子放
出部4が構成される。これら電子放出部4は、冷陰極構
成を有し、図7にその要部の一部を断面とする斜視図を
示すように、第1および第2の電極11および12の交
叉部に、絶縁層7と上層の第2の電極12とを貫通する
透孔8が形成され、これら透孔8内において、下層の第
1の電極11上に、例えば円錐状のいわゆるスピント型
の電界放出型のカソード9が配置されて成る。
【0005】第2の基板2側の蛍光面5上には、薄膜導
電層によるメタルバック層6が形成され、このメタルバ
ック層6に、高電圧の加速電圧の例えば5kVが供給さ
れる。そして、第1および第2の電極11および12の
選択された電極間に所要の電圧が印加されることによっ
て、この交叉部に配置された電子放出部4の各カソード
9から電子を取出し、これを上述の加速電圧によって加
速させてメタルバック層6を突き抜けて蛍光面5に衝撃
させて、この部分を励起発光させて、目的とする発光表
示を行う。
【0006】このような平面型表示装置においては、上
述した第1および第2の基板1および2間に形成される
気密的偏平空間内は、高真空度に保持されるものであ
り、第1および第2の基板1および2には、ほぼ大気圧
が掛かる。そこで、この大気圧に対して基板1および2
が耐圧を有することができるように、例えばそれぞれ平
面板より成る複数の補強用のスペーサ3を、その板面方
向が基板1および2の板面方向と直交するように平行配
列して介在させる。
【0007】ところが、この補強用スペーサ3は、両基
板1および2にそれぞれ配置された電極間の絶縁のため
に絶縁体によって構成すると、電子放出部4から放射さ
れ、加速されて高いエネルギーを有する電子の一部が、
スペーサ3に衝突し、2次電子を放出することによっ
て、スペーサ3の表面が正に不安定に帯電し、これによ
って、蛍光面に向かうべき電子の通路に不安定な電界を
与え、これによって、本来蛍光面に向かうべき電子を迷
走させるなどの不都合が生じ、発光むらや、揺らぎを生
じ画質の低下を来す。
【0008】このような不都合を回避するものとして、
例えば特開平−106456号公開公報に開示されたよ
うに、スペーサ表面に高抵抗膜を形成する構造の提案が
なされている。この構成によれば、スペーサにおける上
述した不安定な帯電を有効に回避できる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成としても、発光表示が不安定となったり発光む
らを生じる場合がある。
【0010】本発明者等は、その原因が、やはり上述し
た第1および第2の基板1および2間に介在させたスペ
ーサの存在にあることを究明した。すなわち、このよう
に、表面に高抵抗膜が設けられて帯電を回避するように
したスペーサを配置する場合においても、このスペーサ
に直接的に向かう電子、あるいは蛍光面側、例えばメタ
ルバック層、そのほかの部位から反射して、蛍光面に到
来する電子が、スペーサ表面で反射することによって、
あるいはこの電子の衝撃によってスペーサ表面から発生
した2次電子が蛍光面に向かい、これによって発光むら
等を発生させるものであることを究明した。
【0011】本発明においては、この究明に基いて、ス
ペーサからの反射による電子、あるいは2次電子が、蛍
光面に向かうことを有効に回避して、発光表示の安定
化、画質の向上を図る。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明による平面型表示
装置においては、第1および第2の基板が、所要の高さ
を有するスペーサを介して所要の間隔を保持して対向さ
れ、これら第1および第2の基板の対向部の周辺部が気
密的に封止されてこれら第1および第2の基板間に気密
的偏平空間が形成され、第1の基板側に電子放出部が配
置され、第2の基板側に蛍光面が形成され、電子放出部
から取り出された電子が、加速されて蛍光面に照射さ
れ、この蛍光面を励起発光して目的とする発光表示を行
うようにした平面型表示装置であって、そのスペーサ表
面に微細凹凸面が形成された構成とする。すなわち、本
発明構成は、スペーサに向かって到来した電子や、これ
による2次電子がスペーサ表面で散乱して、蛍光面側に
向かう確率を減ずる。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
して説明するが、本発明は、この形態に限られるもので
はない。図1は、本発明による平面型表示装置の一例の
要部の一部を断面とした斜視図を示し、図2は、その要
部の断面図を示す。この例では、それぞれ例えばガラス
基板によって構成される第1および第2の基板1および
2が、補強用のスペーサ13を介して、互いに所要の間
隔を保持して対向され、これら相対向する基板1および
2の周辺部が例えばガラスフリットによって気密的に封
着されて、両基板1および2間に、気密的偏平空間が形
成され、第1の基板1側に電子放出部4が配置され、第
2の基板2側に蛍光面5とメタルバック層6が形成され
て成る。
【0014】第1の基板1上には、それぞれ例えばスト
ライプ状の複数の第1および第2の電極11および12
が、互いに交叉する方向に平行配列され、少なくとも互
いの交叉部がSiO2 等の絶縁層7を介して電気的に絶
縁されて形成される。
【0015】そして、例えばこれら第1および第2の電
極11および12の各交叉部に対応して、それぞれ冷陰
極構成を有する電子放出部4が構成される。これら電子
放出部4は、例えば良く知られている各電子放出素子に
よって構成される。例えば導電薄膜に通電がなされて形
成された表面伝導型放出素子構成とするとか、あるいは
図7で説明した例えば円錐形の尖鋭形状とされたいわゆ
るスピント型の電界放出型素子構成とするとか、あるい
は金属/絶縁層/金属構成によるいわゆるMIM型の電
子放出素子構成とすることができる。
【0016】第2の基板2側の蛍光面5は、例えばカラ
ー表示による平面型表示装置を構成する場合には、例え
ば赤、緑および青の各蛍光体R、GおよびBが、所定の
配列順序をもって形成され、例えばこれら蛍光体間に光
吸収層によるいわゆるブラックマトリックス10が形成
される。蛍光面5上には、薄膜導電層によるメタルバッ
ク層6が形成され、このメタルバック層6に、高電圧の
加速電圧の例えば5kVが供給される。
【0017】そして、第1および第2の基板1および2
間に、両基板1および2間の間隔を所定の間隔に保持し
た状態で、両基板1および2間の気密的空間を、外圧
(大気圧)に抗して保持する補強用の複数のスペーサ1
3を所要の間隔に植立させる。このスペーサ13は、例
えば図1に示すように、板状として、その板面が、第1
および第2の基板1および2の板面と直交するように配
置する構成とすることができる。あるいは、例えば円柱
状、角柱状等として、その軸心方向が第1および第2の
基板1および2の板面方向と直交するように配置する構
成とすることもできる。これらスペーサ13は、例えば
ブラックマトリクス10の配置部において、それぞれ各
基板1および2間に配置する。
【0018】スペーサ13は、その表面に微細凹凸面1
4を形成する。また、このスペーサ13の表面は、所要
の電気伝導性を有する構成とする。このスペーサ13
は、例えばガラス板から成る絶縁性のスペーサ本体13
1の表面に、表面の抵抗が109 〜1012Ω/□とされ
た例えば酸化クロム層による高抵抗被膜132が形成さ
れた構成とすることができる。そして、このスペーサ1
3の、全表面すなわち電子放出部4から蛍光面5に向か
う電子の通路に臨む全表面において、微細凹凸面14を
形成する。
【0019】あるいは、図3に示すように、スペーサ1
3の、蛍光面5を有する第2の基板2側に片寄った位置
に限定的に微細凹凸面14を形成することもできる。
【0020】スペーサ13の微細凹凸面14は、例えば
スペーサ本体131の表面自体に微細凹凸面を形成し、
このスペーサ本体131自体の表面に形成した高抵抗被
膜132が、スペーサ本体131の表面に形成した微細
凹凸面の凹凸を踏襲して、この高抵抗被膜132が微細
凹凸面状に形成されるようにして、スペーサ13の表面
微細凹凸面14が形成されるようにすることもできる。
【0021】あるいは、図4に示すように、絶縁性スペ
ーサ本体131の表面は滑面とし、この表面に形成した
高抵抗被膜132が、上述した微細凹凸面14を有する
構成とすることができる。
【0022】また、微細凹凸面14の形状は、図5Aに
示すように、断面矩形状とすることもできるし、図5B
に示すように、断面鋸歯状とすることも、また図示しな
いがランダムな凹凸面とすることができるなど、種々の
形状とすることができる。
【0023】そして、スペーサ13の両端面には、例え
ばCr等の導電層15が被着され、スペーサ13を、両
基板1および2間に挟み込んだ状態で、これら導電層1
5が、例えば第2の電極12およびメタルバック層5に
電気的に接続しするようになされる。そして、微細凹凸
面14の凹凸の最大高さRmax は、0.3μm≦Rmax
≦10μmとする。これは、Rmax が、0.3μm未満
では、表面抵抗が高くなって、所要の抵抗値が得難くな
ることに因り、また10μmを超えると、スペーサ自体
の強度い支障を来すことに因る。
【0024】そして、このスペーサ本体131あるいは
高抵抗被膜132に対する微細凹凸面14の形成は、例
えば化学的エッチング、スパッタリング、サンドブラス
ト等によって形成することができる。
【0025】尚、図3〜図5において、図1および図2
と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略す
る。
【0026】この構成による平面型表示装置において
も、第1および第2の電極群11および12の選択され
た電極間に所要の電圧を印加されることによって、この
交叉部に配置された電子放出部4から電子を取出し、こ
れを上述の加速電圧によって加速させてメタルバック層
6を突き抜けて蛍光面5に衝撃させて、この部分を励起
発光させて、目的とする発光表示を行う。
【0027】そして、本発明構成によれば、スペーサ1
3の表面に微細凹凸面14が形成されていることによっ
て、たとえ、スペーサ13に電子が到来して反射が生じ
ても、この反射電子、あるいは新たに発生した2次電子
は、微細凹凸面14によって散乱あるいは吸収されるこ
とから、蛍光面5に向かう電子を減少ないしは回避する
ことができる。
【0028】また、このスペーサ13の表面に所要の高
抵抗を有する導電性を付与させることによって、このス
ペーサ13に電子が衝撃することによって2次電子が発
生することによる帯電を防止することができる。
【0029】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、スペ
ーサ13の表面に微細凹凸面14が形成されていること
によって、たとえ、スペーサ13に電子が到来して反射
が生じても、この反射電子、あるいは新たに発生した2
次電子は、微細凹凸面14によって散乱されることか
ら、蛍光面5に向かう電子を減少ないしは回避すること
ができることから、蛍光面5が本来の電子以外の電子に
よって不要の発光を発生させることを回避できることか
ら、この不要な発光による表示画面の不安定化、画質の
低下を回避できる。
【0030】また、スペーサ13の表面に所要の高抵抗
を有する導電性を付与させることによって、このスペー
サ13に電子が衝撃することによって2次電子が発生す
ることによる帯電を防止することができることから、こ
の帯電による電界の乱れを回避することができ、より表
示画面の安定化、画質の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による平面型表示装置の一例の要部の一
部を断面とした斜視図である。
【図2】本発明による平面型表示装置の一例の要部の断
面図である。
【図3】本発明による平面型表示装置の他の一例の要部
の断面図である。
【図4】本発明による平面型表示装置の他の一例の要部
の断面図である。
【図5】AおよびBは、それぞれ本発明による平面型表
示装置の例のスペーサの断面図である。
【図6】従来の平面型表示装置の一例の要部を断面とし
た斜視図である。
【図7】図6に示した平面型表示装置の要部の一部を断
面とした斜視図である。
【符号の説明】
1・・・第1の基板、2・・・第2の基板、3・・・ス
ペーサ、4・・・電子放出部、5・・・蛍光面、6・・
・メタルバック、7・・・絶縁層、8・・・透孔、9・
・・カソード、11・・・第1の電極、12・・・第2
の電極、13・・・スペーサ、14・・・微細凹凸面、
131・・・スペーサ本体、132・・・高抵抗被膜

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1および第2の基板が、所要の高さを
    有するスペーサを介して所要の間隔を保持して対向さ
    れ、上記第1および第2の基板の対向部の周辺部が気密
    的に封止されて該第1および第2の基板間に気密的偏平
    空間が形成され、上記第1の基板側に電子放出部が配置
    され、上記第2の基板側に蛍光面が形成され、上記電子
    放出部から取り出された電子が、加速されて上記蛍光面
    に照射されて該蛍光面を励起発光して目的とする発光表
    示を行うようにした平面型表示装置であって、 上記スペーサ表面に微細凹凸面が形成されて成ることを
    特徴とする平面型表示装置。
  2. 【請求項2】 上記スペーサが、絶縁性スペーサ本体の
    表面に高抵抗被膜が形成されて成ることを特徴とする請
    求項1に記載の平面型表示装置。
  3. 【請求項3】 上記スペーサが、絶縁性スペーサ本体の
    表面に高抵抗被膜が形成された構成を有し、上記絶縁性
    スペーサ本体の表面に微細凹凸が形成されて該微細凹凸
    の存在によって上記高抵抗被膜の表面に微細凹凸面が生
    じるようになされたことを特徴とする請求項1に記載の
    平面型表示装置。
  4. 【請求項4】 上記スペーサが、絶縁性スペーサ本体の
    表面に高抵抗被膜が形成された構成を有し、該高抵抗被
    膜表面に微細凹凸面が形成されたことを特徴とする請求
    項1に記載の平面型表示装置。
  5. 【請求項5】 上記スペーサの表面の抵抗が109 〜1
    12Ω/□とされたことを特徴とする請求項1に記載の
    平面型表示装置。
  6. 【請求項6】 上記スペーサが、絶縁性スペーサ本体の
    表面に高抵抗被膜が形成された構成を有し、該高抵抗被
    膜の表面の抵抗が109 〜1012Ω/□とされたことを
    特徴とする請求項1に記載のに記載の平面型表示装置。
  7. 【請求項7】 上記微細凹凸面の微細凹凸の最大高さR
    max が、 0.3μm≦Rmax ≦10μmとされたことを特徴とす
    る請求項1に記載の平面型表示装置。
  8. 【請求項8】 上記微細凹凸面が、上記スペーサの上記
    第2の基板側に片寄った位置に限定的に形成されたこと
    を特徴とする請求項1に記載の平面型表示装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6657368B1 (en) * 1998-09-08 2003-12-02 Canon Kabushiki Kaisha Electron beam device, method for producing charging-suppressing member used in the electron beam device, and image forming apparatus
KR100763392B1 (ko) * 2005-07-19 2007-10-05 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법
JP2010073542A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Sony Corp 平面型表示装置並びにスペーサ

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