JPH0472620U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0472620U JPH0472620U JP11574490U JP11574490U JPH0472620U JP H0472620 U JPH0472620 U JP H0472620U JP 11574490 U JP11574490 U JP 11574490U JP 11574490 U JP11574490 U JP 11574490U JP H0472620 U JPH0472620 U JP H0472620U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactor
- reduced pressure
- gas flow
- nozzle
- boat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 1
Description
第１図は本考案装置の第１実施例の構成を示す
簡略縦断面図、第２図は第２実施例の構成を示す
簡略縦断面図、第３図は従来のホツトウオール式
縦型減圧ＣＶＤ装置の第１例の構成を示す簡略縦
断面図、第４図は同じく第２例の構成を示す簡略
縦断面図である。 １……ヒータ、２……反応炉、３……ガス注入
口、４……多孔ノズル、５……ボート、６……ウ
エーハ、７……排気口、８……ノズル孔。
簡略縦断面図、第２図は第２実施例の構成を示す
簡略縦断面図、第３図は従来のホツトウオール式
縦型減圧ＣＶＤ装置の第１例の構成を示す簡略縦
断面図、第４図は同じく第２例の構成を示す簡略
縦断面図である。 １……ヒータ、２……反応炉、３……ガス注入
口、４……多孔ノズル、５……ボート、６……ウ
エーハ、７……排気口、８……ノズル孔。
Claims (1)
- ボート５に多数枚のウエーハ６を平行に載置し
て処理を行うホツトウオール型減圧ＣＶＤ装置に
おいて、反応ガスを反応炉２内に供給するために
設けた多孔ノズル４を、該ノズル４のガス流れ方
向が反応炉２内のガス流れ方向と反対方向になる
ように設置せしめてなることを特徴とする減圧Ｃ
ＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11574490U JPH0472620U (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11574490U JPH0472620U (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0472620U true JPH0472620U (ja) | 1992-06-26 |
Family
ID=31863535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11574490U Pending JPH0472620U (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0472620U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6018541B2 (ja) * | 1975-11-10 | 1985-05-10 | 株式会社日立製作所 | マーキング装置 |
| JPS62113419A (ja) * | 1985-11-12 | 1987-05-25 | Nec Corp | 気相エピタキシヤル成長装置 |
| JPS6453543A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Ulvac Corp | Gas nozzle |
-
1990
- 1990-11-02 JP JP11574490U patent/JPH0472620U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6018541B2 (ja) * | 1975-11-10 | 1985-05-10 | 株式会社日立製作所 | マーキング装置 |
| JPS62113419A (ja) * | 1985-11-12 | 1987-05-25 | Nec Corp | 気相エピタキシヤル成長装置 |
| JPS6453543A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Ulvac Corp | Gas nozzle |