JPH0471225A - 気相成長装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は気相成長装置に関し、特にプラズマ気相成長装
置に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種のプラズマ気相成長装置は、チャンバー内
に設けられ半導体基板を保持するサセプターと、このサ
セプターに対向する電極とから主に構成されていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のプラズマ気相成長装置は、電極とサセプ
ター間の距離が固定されているため、チャンバー内を清
浄にするためのエツチングによるサセプターの消耗によ
り、電極とサセプター間の距離が変化する。このため半
導体基板に形成される膜のばらつきが大きくなり、半導
体装置の信頼性及び歩留りを低下させるという欠点があ
る。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の気相成長装置は、チャンバー内に設けられ半導
体基板を保持するサセプターと、このサセプターを上下
動させるためのモーターと、前記サセプターに対向して
設けられた電極と、この電極と前記サセプターとの間隔
を測定するためのレーザ変位計と、このレーザ変位計か
らの信号により前記モーターを制御するモーター制御部
とを含むものである。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例の模式断面図である。

第１図において、チャンバー６内には半導体基板を保持
するためのサセプター３が設けられており、このサセプ
ター３はモーター５により上下方向に動くように構成さ
れている。そしてこのサセプター３上には、ガス導入ロ
アに接続する電極１が設けられている。更にこの電極１
の中心部にはレーザ変位計が設けられており、そしてこ
のレーザ変位計２には、モーター５を制御する、メモリ
ーや比較回路等からなるモーター制御部４が接続されて
いる。

このように構成された本実施例によれば、電極１上に固
定されたレーザー変位計２は、サセプター３との距離を
測定し、その変位差の信号をモーター制御部４に送る。

モーター制御部４はこの信号により変位差を計算したの
ち、モーター５を制御し、サセプター３を上下動させて
変位差をなくす様にする。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、電極とサセプター
間の距離を常に一定に保つことができるため、半導体基
板上に形成される膜の厚さのばらつきを小さくできると
いう効果がある。従って半導体装置の信頼性及び歩留り
を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の模式断面図である。 １・・・電極、２・・・レーザ変位計、３・・・サセプ
ター　４・・・モーター制御部、５・・・モーター　６
・・・チャンバー　７・・・ガス導入口。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　チャンバー内に設けられ半導体基板を保持するサセプ
   ターと、このサセプターを上下動させるためのモーター
   と、前記サセプターに対向して設けられた電極と、この
   電極と前記サセプターとの間隔を測定するためのレーザ
   変位計と、このレーザ変位計からの信号により前記モー
   ターを制御するモーター制御部とを含むことを特徴とす
   る気相成長装置。