JPH0470843A

JPH0470843A - 情報記録媒体及び静電情報記録再生方法

Info

Publication number: JPH0470843A
Application number: JP2186030A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Iijima; 飯嶋　正行
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1990-07-12
Filing date: 1990-07-12
Publication date: 1992-03-05

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、静電情報を可視情報として得ることのできる
情報記録媒体及びその静電情報記録再生方法に関する。

〔従来の技術〕

従来の情報記録媒体としては、まず真空中で熱可塑性樹
脂層の表面に電子ビームにより情報電荷を施し、帯電後
に熱加熱性樹脂を加熱して軟化させ、その表面に帯電量
に対応した凹凸部からなるフロスト像を形成するものが
知られている。

方、真空系を必要としない記録媒体としては、電極上に
光導電性層、熱可塑性樹脂層とを順次積層したもの、又
は熱可塑性と光導電性を有する単層構造のサーモプラス
チック記録媒体が知られ、その記録にあたってはコロナ
帯電等による初期全面帯電後、像露光し、再度全面帯電
したものを加熱現像、或いは溶剤蒸気中で現像すること
により像露光に対応したフロスト像を形成するものも知
られている。

しかしながら、上記の情報記録媒体の内、真空中での画
像形成を行うものは装置が大型である上、使用する熱可
塑性樹脂によってはフロスト像を形成させるのが困難で
あるものが多く、また光導電層を有する情報記録媒体に
おける可視像は、透過或いは反射により読み取られるも
のであるが、透過による場合は光導電層の光吸収が大き
い場合には透過光が微弱となるため、光に対する感度を
低くする、或いは読み取る際に用いられる波長とは異な
る波長を用いて記録する等の方法がとられている。

一方、反射により読み取る際は、凹凸が形成された表面
の散乱光と、光導電層と熱可塑性樹脂層との界面からの
反射光との差がコントラストとして読み取られる。しか
し、光導電層は光吸収性であり、界面からの反射も熱可
塑性樹脂と光導電層との屈折率がほぼ等しいことから少
ないため、充分なコントラストで読み取ることはできな
いという問題がある。そのため、情報記録媒体の電極層
を光反射性として用いるこ七ができるが、この場合には
光導電層の吸収に関して、透過で検出する場合と同様の
問題が生じる。

また、熱可塑性樹脂層全面に帯電を付与することから、
熱現像あるいは溶剤蒸気による現像を行う際に、露光さ
れていない部分においても帯電の影響が生じ、これがノ
イズとなり、高品質の像を得ることができない。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、静電情報を感度よく可視情報として記録する
ことができ、情報再生にノイズの少ない情報記録媒体及
び静電情報記録再生方法の提供を課題とする。

〔課題を解決するたとの手段］本発明の情報記録媒体は、電極層上に光導電層、熱可塑
性樹脂を順次設けた情報記録媒体であって、該熱可塑性
樹脂層が誘電体ミラー層を介して光導電層上に積層され
たことを特徴とする。

また、本発明の静電情報記録再生方法は、電極層上に光
導電層、誘電体ミラー層、熱可塑性樹脂層が順次積層さ
れた情報記録媒体と、対向電極とを配置し、両電極間に
電圧を印加しつつ露光して静電情報記録を行った後、加
熱或いは溶剤雰囲気中で可視化することを特徴とする。

以下、本発明の情報記録媒体及び静電情報記録再生方法
について説明する。

第１図は、本発明の情報記録媒体の断面を模式的に説明
するための図で、図中３は情報記録媒体、１１は熱可塑
性樹脂層、１２は誘電体ミラー層、１３は電極層、１４
は光導電層、１５は支持体である。

第１図に示すように、本発明の情報記録媒体は、電極層
１３上に、光導電層１４、誘電体ミラー層１２、熱可塑
性樹脂層１１を積層して構成される。

熱可塑性樹脂層１１は、ロジンエステル、水添ロジン、
二塩基酸変性ロジンエステル、重合ロジンエステル、ロ
ジンアルコール、ビンソール、ビンソールエステルガム
、ロジンアミン、重合ロジン等ろロジン系誘導体或いは
スチレン、α−メチルスチレン及びビニルトルエン等の
芳香族系樹脂或いは脂肪族系石油樹脂、或いはα、β−
ピネン重合体、リモネン重合体等のテルペン系樹脂、こ
の他、ビニル系の重合体等、更にこれらを変性した誘導
体、更にこれらを混合した樹脂が利用できこれらの熱可
塑性樹脂は、熱可塑性樹脂層１１表面に情報電荷が付与
され、加熱或いは溶剤蒸気等により軟化して凹凸が生じ
る温度（軟化点より若干低い温度）において充分な絶縁
性（１０”Ω・ｃｍ以上）及び電荷保持性能を有してお
り、変形が起こる以前に静電荷がリークしないこと、又
、軟化時の粘度が変形を起こすに足りるほど低いこと等
が挙げられる。

凹凸変形が起こる温度での絶縁性或いは電荷保持性能に
関しては、熱刺激電流を測定することにより簡便に知る
ことができる。中でも、ピネン重合体を用いた場合には
薄膜化が可能となり、高解像度の７０スト像を得ること
ができる。

ピネン重合体は、モノテルペン炭化水素であるα−ピネ
ン、又はβ−ピネンの重合体であり、その分子量は５０
０〜１００００のものが好ましく、分子量が５００未満
であると成形性がなく、１００００を越えるとフロスト
像形成が困難となる。

ピネン重合体の軟化点は６０℃〜１６０℃のものが好ま
しい。

７−ピネンから得られるピネン重合体は、例えば理化パ
ーキュレス■製、゛商品名ピコライトＡ−１１５（軟化
点（環球法）１３２℃、分子量１０００、ガラス転移温
度６４．０℃）、またβ−ピネンから得られる重合体は
、例えば理化パーキュレス■製、商品名ピコライトＳ−
１１５（軟化点１３７℃、分子量３０００）等で市販さ
れているものを使用することができる。

ピネン重合体は、キシレン、トルエン、ベンゼン、クロ
ロホルム、ジクロロエタン、ｎ−ベキ＋１−ン等の溶媒
に溶解し、ブレードコーティング、ディッピング、スピ
ンナーコーティング等の塗布方法により、誘電体ミラー
層１２上に塗布形成される。

その乾燥後膜厚は０．１μｍ〜５μｍとするとよく、膜
厚が０．１μｍ未満であれば表面電位が乗らない、或い
は熱現像前に電荷がリークしてしまい、熱現像による凹
凸形成ができないし、また５μｍを越えると高い表面電
位を乗せないと凹凸形成ができない、或いは塗布する際
に樹脂の結晶化が起こり、剥離が生じ塗布できない等の
問題が生じるので好ましくない。

この熱可塑性樹脂層が積層される誘電体ミラー上層１２
は、硫化亜鉛、弗化マグネシウム等の光屈折率を相違す
る物質層を交互に積層して形成される絶縁性光干渉層で
あり、光導電層を通過してきた情報光を反射し、光導電
層に充分な光吸収性能を付与し、高感度でキャリアを生
成することができるものである。又、読み取りに際して
は反射光量を大きくすることができるので、高コントラ
ストの読み取りが可能となるものである。

光導電層１４は、光が照射されると照射部分で光キャリ
ア（電子、正孔）が発生し、それらのキャリアが層幅を
移動することができる導電性層であり、特に電界が存在
する場合にその効果が顕著である層である。光導電材料
、および光導電層の形成方法について説明する。

（Ｉ）シリコン光導電層 ■シリコン単体 ■不純物をドーピングしたもの、・’Ｂ５Ａｌ、Ｇａ、Ｉ　ｎＳＴ　１等をドーピングに
よりＰ型（ホール輸送型）にしたもの、・Ｐ、Ａｇ、Ｓ
ｂ、Ｂｉ等をドーピングによりＮ型（電子輸送型）にし
たもの、がある。

光導電層の形成方法としては、シランガス、不純物ガス
を水素ガスなどと共に低真空中に導入しく　１０−”　
〜Ｉ　Ｔｏｒｒ）　、グロー放電により加熱、或いは加
熱しない電極基板上に堆積して成膜するか、単に加熱し
た電極基板上に熱化学的に反応形成するか、或いは固体
原料を蒸着、スパッター法により成膜し、単層、或いは
積層で使用する。膜厚は１〜５０μｍである。

（ＩＩ）セレン光導電層 ■セレン単体 ■セレンテルル ■ひ素セレン化合物（ＡｓａＳｅｉ） ■ひ素セレン化合物＋Ｔｅがある。

この光導電層は蒸着、スパッター法により作製する。ま
た上記■〜■を組み合わせ、積層型光導電層としてもよ
い。膜厚はシリコン光導電層と同様である。

（Ｉ［Ｉ）硫化カドミウム　（（：ｄＳ　）光導電層こ
の光導電層は、コーティング、蒸着、スパッタリング法
により作製する。蒸着の場合はＣｄＳの固体粒をタング
ステンボードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、ＥＢ
（エレクトロンビーム）蒸着により行う。またスパッタ
リングの場合はＣｄＳターゲットを用いてアルゴンプラ
ズマ中で基板上に堆積させる。この場合、通常はアモル
ファス状態でＣｄＳが堆積されるが、スパッタリング条
件を選択することにより結晶性の配向膜（膜厚方向に配
向）を得ることもできる。コーティングの場合は、Ｃｄ
Ｓ粒子（粒径１〜１００μｍ）をバインダー中に分散さ
せ、溶媒を添加して基板上にコーティングするとよい。

。（ＩＶ）酸化亜鉛（Ｚｎ　Ｏ）光導電層この光導電層は
コーティング法、或いはＣＶＤ法で作製される。コーテ
ィング法としては、２ｎＳ粒子（粒径１〜１００μｍ）
をバインダー中に分散させ、溶媒を添加して基板上にコ
ーティングを行って得られる。またＣＶＤ法としては、
ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属と酸素ガスを
低真空中（１０−２〜ｌ　Ｔｏｒｒ）で混合し、加熱し
た電極基板（１５０〜４００℃）上で化学反応させ、酸
化亜鉛膜として堆積させる。この場合も膜厚方向に配向
した膜が得られる。

（Ｖ）有機光導電層有機光導電層としては、単層系光導電層、機能分離型光
導電層とがある。

（イ）単層系光導電層単層系光導電層は、下記の電荷発生物質と電荷輸送物質
の混合物からなっている。

〈電荷発生物質〉光を吸収して電荷を生じ易い物質であり、例えば、アゾ
系顔料、ビスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、フタロシ
アニン系顔料、ペリレン系顔料、ビリリウム系染料、シ
アニン系染料、メチン系染料が使用される。

〈電荷輸送物質系〉電離した電荷の輸送特性がよい物質であり、例えばヒド
ラゾン系、ピラゾリン系、ポリビニルカルバゾール系、
カルバゾール系、スチルベン系、アントラセン系、ナフ
タレン系、トリジフェニルメタン系、アジン系、アミン
系、芳香族アミン系等がある。

また、電荷発生系物質と電荷輸送系物質により錯体を形
成させ、電荷移動錯体としてもよい。

通常、光導電層は電荷発生物質の光吸収特性で決まる感
光特性を有するが、電荷発生物質と電荷輸送物質とを混
ぜて錯体をつくると、光吸収特性が変わり、例えばポリ
ビニルカルバゾール（ＰＶＫ）は紫外域でしか感ぜず、
トリニトロフルオレノン（Ｔ　Ｎ　Ｆ　’）は４００ｎ
ｍ波長近傍しか感じないが、ＰＶＫ−ＴＮＦ錯体は６５
０ｎｍ波長域まで感じるようになる。

このような単層系光導電層の膜厚は、１０〜５０μｍが
好ましい。

（ロ）機能分離型光導電層電荷発生物質は光を吸収し易いが、光をトラップする性
質があり、一方、電荷輸送物質は電荷の輸送特性はよい
が、光吸収特性はよくない。そのため両者を分離し、そ
れぞれの特性を十分に発揮させようとするものであり、
電荷発生層と電荷輸送層を積層したタイプである。

〈電荷発生層〉電荷発生層を形成する物質としては、例えばアゾ系、ビ
スアゾ系、トリスアゾ系、フタロシアニン系、酸性ザン
セン染料系、シアニン系、スチリル色素系、ビリリウム
色素系、ペリレン系、メチン系、ａ−３ｅ　５ａ−Ｓｉ
　、アズレニウム塩系、スクアリウム環系等がある。

く電荷輸送層〉電荷輸送層を形成する物質としては、例えばヒドラゾン
系、ピラゾリン系、ＰＶＫ系、カルバゾール系、オキサ
ゾール系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系
、トリフェニルメタン系、多環芳香族化合物系等がある
。

機能分離型光導電層の作製方法としては、まず電荷発生
物質を溶剤に溶かして、電極上に塗布し、次に電荷輸送
層を溶剤に溶かして電荷輸送層に塗布し、電荷発生層を
０．１〜１０μｍ１電荷輸送層を１０〜５０μｍの膜厚
とするとよい。

なお、単層系、機能分離型の何れの場合にも、バインダ
ーとしてシリコーン樹脂、スチレン−ブタジェン共重合
体樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、飽和又は不飽和
ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニル
アセタール樹脂、フェノール樹脂、ポリメチルメタアク
リレート（ＰＭＭＡ）樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド
樹脂等を電荷発生材料と電荷発生材料各１部に対し、０
．１〜１０部添加して付着し易いようにする。コーティ
ング法としては、ディッピング法、蒸着法、スパッター
法等を使用することができる。

このような光導電層１４は電荷注入防止層を介して電極
１３上に積層されてもよい。

電荷注入防止層は、電圧印加時の暗電流（電極からの電
荷注入）、すなわち露光していないにもかかわらず恰も
露光したように感光層中を電荷が移動する現象を防止す
るために設けるものである。

この電荷注入防止層は、いわゆるトンネリング効果を利
用した層と整流効果を利用した層との二種類のものがあ
る。

このような電荷注入防止層は無機絶縁性膜、有機絶縁性
高分子膜、絶縁性単分子膜等の単層、あるいはこれらを
積層して形成され、無機絶縁性膜としては、例えば＾８
２０３．８２０３、Ｂ＋２０３、ＣｄＳ　。

ＣａＯ，ＣｅＧ２、ＣｒＪｓ　、Ｃｏ０１ＧｅＧ２、ｌ
（ｆ［１２、Ｆｅ２（Ｉｓ、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯ１Ｍｎ
Ｏ７、Ｎｄ２Ｏ３、ＮｂｚＯｓ　、ＰｂＯ。

５ｂｓＯｓ　、５ｉｏ２．３ｅＯｚ、Ｔａ−０ｓ　、Ｔ
＋０−１１１０３　、Ｖ、Ｏ５、Ｙ２Ｏ５、Ｙ２Ｏ３，
１ｒＯｘ、ＢａＴｉ０．、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ１２ＴＩＯ５
、Ｃａｎ−３ｒＯ、Ｃａ０−Ｙ２０ａ、Ｃｒ−３ｉＯ１
ＬｉＴａ０３、ＰｂＴｉＯｓ、ＰｂＺｒＯｓ、ＺｒＤｚ
−Ｃｏ　、ＺｒＯ２−３＋０２　、Ａｌ１１　、　ＢＮ
、　ＮｂＮ、ＳｉＪ、　、ＴａＮ　、　ＴｉＮ　、　Ｖ
ＮＳＺｒＮ　、　ＳｉＣ、ＴｉＣ。

ＷＣＳＡｌ、Ｃａ等をグロー放電、蒸着、スパッタリン
グ等により形成される。尚、この層の膜厚は電荷の注入
を防止する絶縁性と、トンネル効果の点を考慮して使用
される材質ごとに決められる。

次ぎに、整流効果を利用した電荷注入防止層は、整流効
果を利用して電極基板の極性と逆極性の電荷輸送能を有
する電荷輸送層を設ける。即ち、このような電荷注入防
止層は無機光導電層、有機光導電層、有機無機複合型光
導電層で形成され、その膜厚は０．１〜１０μｍ程度で
ある。具体的には、電極がマイナスの場合はＢ、ＡＩ、
Ｇａ、Ｉｎ等をドープしたアモルファスシリコン光導電
層、アモルファスセレン、またはオキサジアゾール、ピ
ラゾリン、ポリビニルカルバゾール、スチルベン、アン
トラセン、ナフタレン、トリジフェニルメタン、トリフ
ェニルメタン、アジン、アミン、芳香族アミン等を樹脂
中に分散して形成した有機光導電層、電極がプラスの場
合は、Ｐ、Ｎ、Ａｓ。

５ｂＳＢｉ等をドープしたアモルファスシリコン光導電
層、ＺｎＯ光導電層等をグロー放電、蒸着、スパッタリ
ング、ＣＶＤ、コーティング等の方法により形成される
。これらの光導電層は、電極側の極性を同じ極性のキャ
リアーを発生する光導電性材料により形成する必要があ
る。電極をマイナスとする場合はＢ、ＡＩ、Ｇａ、Ｉｎ
等をドープしたシリコン光導電層、電極がプラスの場合
は、ＰＳＮ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂ　ｉ等をドープしたシリコ
ン光導電層、セレン光導電層、有機光導電層等をグロー
放電、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、コーティング等
の方法により形成される。

また、電極は支持体に支持されていてもよく、支持体と
して金属板が使用される場合を除いて支持体上に形成さ
れ、比抵抗値が１０６０・ｃｍ以下であれば限定されな
く、無機金属導電膜、無機金属酸化物導電膜、四級アン
モニウム塩等の有機導電膜等を使用することができる。

例えば、酸化インジウム−酸化錫（Ｉｎ２０３Ｓｎ０２
）（ＩＴＯ）膜、酸化錫膜等の透明電極や、Ａｕ％ＡＩ
、Ａｇ５Ｎｉ、Ｃｒ等を蒸着、またはスパッタリングで
作製する電極、テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）
　、ポリアセチレン等のコーティングによる有機電極、
また表面が熱酸化処理されたシリコン基板を使用するこ
とができる。

特に情報記録媒体における電極として、表面熱酸化シリ
コン基板等の電極からの逆電荷の注入を防止するような
層を設けた基板を使用すると、熱可塑性樹脂層の膜厚を
薄くすることができ、よりフロスト像を高品位、高解像
性のものとすることができる。

支持体としては、情報記録媒体を支持することができる
ある程度の強度を有していれば、厚み、材質は特に制限
がなく、例えば厚み１ｍｍ程度の可撓性のあるプラスチ
ックフィルム、或いは硝子、プラスチックシート等が使
用される。

尚、支持体の他方の面には、必要に応じて反射防止効果
を有する層を積層するか、また反射防止効果を発現しう
る膜厚に支持体等を調整するか、更に両者を組み合わせ
ることにより反射防止性を付与してもよい。

第２図は情報記録方法を説明するための図で、図中１は
対向電極である。

まず、対向電極１は、情報記録媒体における電極形成材
料と同じものを使用でき、支持体上に積層するか又は金
属板等も使用できるものであり、１０μｍ程度の空隙を
介して情報記録媒体３と対向配置される。

次いで、電源■により電極１．１３間に電圧を印加し、
情報記録媒体３側より情報光が入射すると、光が入射し
た部分の光導電層では誘電体ミラー層１２により効率よ
く光キャリアが発生、生じた光キャリアは対向電極ｌと
の電界により誘電体ミラー層に蓄積され、電極Ｉとの間
に形成される電界により、熱可塑性樹脂層表面に対向電
極からの放電電荷が付与されるものである。

この情報記録方法は、面状アナログ記録が可能で、高解
像の静電潜像が熱可塑性樹脂層表面に得られ、また静電
潜像は後述する現像手段により７０スト像として可視化
される。

本発明の情報記録媒体への情報入力方法としては静電カ
メラによる方法、またレーザーによる記録方法がある。

静電カメラは、通常のカメラに使用されている写真フィ
ルムの代わりに、対向電極１と情報記録媒体３とにより
記録部材を形成するもので、機械的なシャッタも使用し
うるし、また電気的なシャッタも使用しうるものである
。

また、プリズム及びカラーフィルターにより光情報を、
Ｒ，Ｇ、Ｂ光成分に分離し、平行光として取り出しＲ，
Ｇ、Ｂ分解した情報記録媒体３セツトで１コマを形成す
るか、または１平面上にＲｌＧ、Ｂ像を並べて１セツト
で１コマとすることにより、カラー撮影することもでき
る。

またレーザーによる記録方法としては、光源きしてはア
ルゴンレーザー（５１４，４８８ｎｍ）、ヘリウム−ネ
オンレーザ−（６３３ｎｍ）　、半導体レーザー（７８
０ｎｍ、８１０ｎｍ等）が使用でき、対向電極と情報記
録媒体を面状で表面同士を密着させるか、一定の間隔を
おいて対向させ電圧印加する。この状態で画像信号、文
字信号、コード信号、線画信号に対応したレーザー露光
をスキャニングにより行うものである。画像のようなア
ナログ的な記録は、レーザーの光強度を変調して行い、
文字、コード、線画のようなデジタル的な記録は、レー
ザー光の０Ｎ−ＯＦＦ制御により行う。また画像におい
て網点形成されるものには、レーザー光にドツトジェネ
レーター０Ｎ−ＯＦＦ制御をかけて形成するものである
。

以上、対向電極を使用して静電情報を記録する場合につ
いて記載したが、本発明の情報記録媒体への静電情報記
録方法は、他にも例えば、コロナ帯電、電極針ヘッド、
或いはイオン流ヘッドを用いた静電記録、レーザープリ
ンター等の光プリンター等による記録方式を使用しても
よい。

このようにして情報電荷が記録された情報記録媒体は、
加熱等の現像手段によりフロスト像として可視化される
。

加熱方法としては、抵抗加熱法、又はオーブン等による
加熱手段により行うとよい。

加熱温度或いは加熱時間は、樹脂の種類及び軟化点によ
り異なる。特に加熱温度については樹脂が完全に軟化し
てしまう温度より高くなると電荷が減衰してしまい、静
電力が働かなくなると同時にレベリングの効果により１
度現れた凹凸が消えてしまう。よって樹脂の軟化点より
若干低めの温度で加熱するのがよい。

例えば、ピネン重合体記録層が軟化点１１５℃であるβ
−ピネン重合体からなる時には、加熱温度は９０℃〜１
１０℃、好ましくは９５℃〜１００℃で１分間〜３分間
加熱するとよい。加熱温度が９０℃未満であると樹脂は
軟化せず、充分なフロスト像を形成せず、また１１０℃
を越えると樹脂の粘度が低くなりすぎて像がぼける、或
いは像の消去が同時に行われてしまうという問題が生じ
る。また加熱時間が長いと軟化した樹脂の流動性により
やはり像がぼけるので好ましくない。

また、静電潜像を形成した情報記録媒体を加熱現像する
代わりに、例えばキシレン、アセトン、メチルエチルケ
トン、トルエン等の溶剤蒸気を満たした密閉容器中に放
置することによっても同様にフロスト像を形成すること
ができる。

フロスト像として現像された情報は、目視により読み取
り、或いは反射型の投影機により拡大して読み取ること
ができるが、レーザースキャン或いはＣＣＤを用いて反
射により読み取りをすることでより高精度で情報を読み
取ることができる。

〔作用及び発明の効果〕

本発明の情報記録媒体は、誘電体ミラー層を光導電層と
熱可塑性樹脂層との間に設けることにより高感度、高コ
ントラスト、高品質の可視像を形成すると共に、広い波
長範囲で高精度の読み取りができるものである。

従来の光導電層上に熱可塑性樹脂層を積層した媒体は、
感光体の光吸収性能を犠牲にすることで読み取りできる
ようにしていたのに対し、本発明の情報記録媒体は、誘
電体ミラー層を光導電層と熱可塑性樹脂層との間に設け
ることにより、光導電層に充分な光吸収性能を付与でき
、高感度のフロスト像を記録できる。

また、読み取りの際には反射光量を大きくできることか
ら高コントラストの読み取りができ、記録波長と読み取
り波長を別にする必要がなく、記録波長領域或いは読み
取り波長領域に制限がないものである。

更に、本発明の静電情報記録再生方法は、未露光部分の
ノイズが少ないことから、高品質の可視像が得られるも
のである。

以下、実施例を説明する。

〔実施例１〕電荷発生材料として上記構造を有するビスアゾ系顔料３
部とポリビニルアセタール樹脂１部を、ジオキサン：シ
クロヘキサン＝１＝１の混合溶媒で固形分２％とした１
００ｇ溶液をボールミルで十分に分散させた溶液を、Ｉ
ＴＯ透明電極（膜厚：約５００＾、抵抗値２８００７口
）を有するガラス基板上の１７０面側に２ミルのギャッ
プのブレードコーターで塗布し、１００℃、１時間乾燥
して膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。

次に、電荷輸送材料としてＰ−ジエチルアミノベンズア
ルデヒド−Ｎ−フェニル−ベンジルヒビラフ２１５部止
ポリカーボネート樹脂（三菱ガス化学ニューピロンＳ−
１００）　１０ｔａＢとを、ジクロロメタン：１．１．
２−トリクロロエタン−４：６の混合溶媒にて固形分１
７．８％に調整し、この溶液を２ミルのギャップ厚のブ
レードコーターで、上記電荷発生層上に塗布し、８０℃
、２時間乾燥して膜厚１０μｍの電荷輸送層を形成した
。

更に、この感光体上にＺｎＳ　（屈折率２．３７）及び
ＭｇＦｚ　（屈折率１．３８）を交互に積層し、さらに
最上層にＺｎＳを積層した誘電体ミラー層を形成した。

次に、ロジンエステル樹脂（理化パーキュレス■製、ス
テベライトエステル１０）　Ｌｏｇをトルエン１０ｇ中
に溶解した５部ｗｔ％溶液を調整し、上記誘電体ミラー
層上にスピンコーターを用いて、４０００ｒｐｍで２０
秒間回転させる事で塗布した。６０℃のオーブン中で約
２時間乾燥し、膜厚的３μｍの熱可塑性樹脂層を設け、
本発明の情報記録媒体を作製した。

この情報記録媒体とＩＴＯ透明電極（膜厚コ約５００Ａ
、抵抗値二８０Ω／口）を有するガラス基板とヲ、ｌ！
厚１０μｍのポリエステルフィルムをスペーサーとし、
熱可塑性樹脂層とＩＴＯ層とを対向させて設置した。

次に、両電極間に情報記録媒体側を正、電極側を負とし
て直流電圧７５０Ｖを印加すると同時に、グレイスケー
ルを情報記録媒体側から０．１秒間投影露光することで
グレイスケールに対応した正電荷の静電潜像が情報記録
媒体上に形成された。

静電潜像が形成された媒体を、６０℃のオーブン中で５
分間加熱することでグレイスケールに対応したフロスト
像が得られた。この媒体を反射光によりに確認したとこ
ろグレイスケールの低露光量側でも充分なコントラスト
が得られ、像が確認できた。

〔比較例１〕実施例１で作製した情報記録媒体において、誘電体ミラ
ー層を設けないことのみを相違させて情報記録媒体を作
製し、実施例１同様に露光および熱現像を行った。この
媒体においては、グレイスケールの高露光量側で像は確
認できたが、低露光量側では像の確認が困難であった。

〔実施例２〕実施例１における情報記録媒体において、ロジンエステ
ル樹脂に代えてβ−ピネン重合体（理化パーキュレス■
製、ピコライトＳ−１１５＞　　９　ｇをキシレン４１
ｇ中に溶解した１８ｗｔ％溶液を調整し、誘電体ミラー
層上にスピンコータ〜を用いて、２０００ｒｐｍで２０
秒間回転させる事で塗布した。６０℃のオーブン中で約
２時間乾燥し、膜厚約５００（１人の熱可塑性樹脂層を
設け、本発明の情報記録媒体を作製した。

この情報記録媒体を実施例１同様に、静電潜像を情報記
録媒体上に形成し、次いで媒体を９５℃のオーブン中で
加熱することでグレイスケールに対応したフロスト像が
得られた。これらの媒体においてもグレイスケールの低
露光量側で充分なコントラストが得られ、像が確認でき
た。

〔実施例３〕実施例１における電荷発生層と電荷輸送層の積層順序を
逆にして、後は実施例１同様にして情報記録媒体を作製
した。

この情報記録媒体について、実施例Ｉ同様の記録方法に
より（但し、電極側を正として像露光）静電潜像を情報
記録媒体上に形成し、次いで媒体を６０℃のオーブン中
で加熱することでグレイスケールに対応したフロスト像
を得た。

この媒体においてもグレイスケールの低露光量側で充分
なコントラストが得られ、像が確認できた。

また、この情報記録媒体におけるロジンエステルに代え
て、β−ピネン重合体を実施例２同様に積層し、情報記
録媒体を作製した。

この情報記録媒体について、実施例１同様の記録方法に
より（但し、電極側を正として像露光）静電潜像を情報
記録媒体上に形成し、次いで媒体を９５℃のオーブン中
で加熱することでグレイスケールに対応したフロスト像
を得た。

〔実施例４〕ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール１０ｇ（西南香料■製）
　、２．４．７−ドリニトロフルオレノン１０ｇ、ポリ
エステル樹脂２ｇ（バインター：バイロン２００、東洋
紡■製）、テトラヒドロフラン９０ｇの組成を有する混
合液を暗所で作製し、ＩＴＯ透明電極（膜厚：約５０Ｏ
Ａ、抵抗値：８０Ω／口）を有するガラス基板（１ｍｍ
厚）のＩＴＯ面側に、ドクターブレードを用いて塗布し
、６０℃で約１時間通風乾燥し、膜厚約１０μｍの光導
電層を積層した。完全に乾燥を行うために更に１日自然
乾燥を行った。

更に、この光導電層上に、ＺｎＳ　（屈折率２．３７）
及びＭｇＦ２（屈折率１．３８＞を交互に積層し、さら
に最上層にＺｎＳを積層した誘電体ミラー層を形成した
。

ロジンエステル樹脂（理化ハーキニレス■製、ステベラ
イトエステル１０）　Ｌｏｇをトル１７１０ｇ中に溶解
した５０ｗｔ％溶液を調整し、上記誘電体ミラー層上に
スピンコーターを用いて、４０００ｒｐｍで２０秒間回
転させる事で塗布した。６０℃のオーブン中で約２時間
乾燥し、膜厚約３μｍの熱可塑性樹脂層を設け、本発明
の情報記録媒体を作製した。

次に、実施例３同様にして情報記録を行い、実施例３同
様の結果を得た。

この媒体においてもグレイスケールの低露光量側で充分
なコントラストが得られ、像がｍｔａできた。

〔実施例５〕実施例２で作製した情報記録媒体を用いて、グレイスケ
ールの代わりにライン＆スペースが設けられたクロムマ
スク板を用いて実施例１と同様に露光、現像してフロス
ト像を得た。この媒体を顕微鏡により正反射で読み取っ
たところ、６，６μｍまで解像していることが確認でき
た。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の模式断面図、第２図
は、対向電極を使用した情報記録方法を説明するための
図である。図中１は対向電極、３は情報記録媒体、１１は熱可塑性
樹脂層、１２は誘電体ミラー層、１３は電極層、１４は
光導電層、１５は支持体を示す。出　　願　　人　　大日本印刷株式会社代理人　弁理士
　　内１）回度（外７名）第２

Claims

【特許請求の範囲】

（１）電極層上に光導電層、熱可塑性樹脂を順次設けた
情報記録媒体であって、該熱可塑性樹脂層が誘電体ミラ
ー層を介して光導電層上に積層されたことを特徴とする
情報記録媒体。
（２）電極層上に光導電層、誘電体ミラー層、熱可塑性
樹脂層が順次積層された情報記録媒体と、対向電極とを
配置し、両電極間に電圧を印加しつつ露光して静電情報
記録を行った後、加熱或いは溶剤雰囲気中で可視化する
ことを特徴とする静電情報記録再生方法。
（３）上記可視化された静電情報記録を、透過光又は反
射光により再生することを特徴とする静電情報記録再生
方法。