JPH046814Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、排ガス中の塵を捕集して清浄なガス
として排出するためのガス集塵装置に関する。

（従来技術） ガス集塵装置の一形式として第３図に示すよう
に、ハウジング１内に配設されて同ハウジング１
内を被処理ガスの流入口１ａおよび捕集塵の排出
口１ｂを有する下室R₁と処理ガスの流入口１ｃ
を有する上室R₂とに区画するフイルタ用支持プ
レート２と、この支持プレート２に気密的かつ吊
下状に支持されて前記下室R₁に突出する筒状の
多数のフイルタ３ａ，３ｂ…と、逆洗用ガスが供
給されるメインパイプ４から突出して前記各フイ
ルタ３ａ，３ｂ…の上端開口部の上方に臨み前記
パイプ４に供給される逆洗用ガスを噴出させる多
数の逆洗用ノズル５ａ，５ｂ…を備えてなるガス
集塵装置がある。

この種形式のガス集塵装置においては、排ガス
が流入口１ａから下室R₁内に供給されて各フイ
ルタ３ａ，３ｂ…を外周側から内周側へ透過して
上室R₂に至り、流出口１ｃから外部へ排出され
る。この間、排ガス中の塵は各フイルタ３ａ，３
ｂ…の外周にて捕集され、各フイルタ３ａ，３ｂ
…の外周における塵の付着量が多くなつた時点
で、排ガスの供給を停止しまたは供給を継続した
状態で、電磁バルブ４ａを開いてメインパイプに
清浄な高圧の逆洗用ガスを供給し、同時に各電磁
バルブ６ａ，６ｂ…を間欠的に開いて各ノズル５
ａ，５ｂ…から各フイルタ３ａ，３ｂ…の上端開
口部を通して内部に逆洗用ガスを噴射するように
なつている。これにより、捕集塵は各フイルタ３
ａ，３ｂ…の外周から脱落して排出口１ｂから外
部へ排出される。

（考案が解決しようとする課題） ところで、上記した従来のガス集塵装置におい
ては、各ノズル５ａ，５ｂ…はメインパイプ４の
長手方向の異なる位置から突出しかつ同一内径、
同一長さに形成されていることから、各ノズル５
ａ，５ｂ…から噴出する逆洗用ガスの噴出量がそ
れぞれ異なり、各フイルタ３ａ，３ｂ…において
洗浄状態が異なる問題がある。

従つて、本考案の目的は、各フイルタ３ａ，３
ｂ…の洗浄状態を略均等にしてガス中の塵の捕集
効果を向上させることにある。

（課題を解決するための手段） 本考案は上記した形式のガス集塵装置におい
て、前記各ノズルを異なる開口径に形成してこれ
ら各ノズルのガス噴出量を略一定としたことを特
徴とするものである。

（考案の作用・効果） かかる構成によれば、各ノズルにおける逆洗用
ガスの噴出量が略一定であつて各フイルタの内周
側から外周側への透過するガス量が均等になり、
このため各フイルタは略均等な洗浄状態となる。
従つて、当該ガス集塵装置においては集塵効果が
向上する。

（実施例） 以下本考案の一実施例を図面に基づいて説明す
るに、第１図には本考案に係るガス集塵装置が示
されている。当該集塵装置のハウジング１０はハ
ウジング下部１１とハウジング上部１２とを一体
的に組付けてなる物で、これら両部１１，１２は
金属製の外殻１１ａ，１２ａの内周を耐火物１１
ｂ，１２ｂにてライニングして形成されている。
ハウジング下部１１とハウジング上部１２との接
合部にはフイルタ用の支持プレート１３の週縁部
が介装されていて、同支持プレート１３はハウジ
ング１０内を下室R₁と上室R₂とに区画している。
下室R₁を構成するハウジング下部１１には、そ
の下方側部に被処理ガスの流入口１１ｃが設けら
れ、かつその中央底部に捕集塵の排出口１１ｄが
設けられている。一方、上室R₂を構成するハウ
ジング上部１２には、その一側部に処理ガスの流
出口１２ｃが設けられ、かつその他側部にメイン
パイプの挿通孔１２ｄが複数設けられている。支
持プレート１３には多数のフイルタ１４ａ，１４
ｂ…が挿通されており、各フイルタ１４ａ，１４
ｂ…はその上端開口部の首部にて支持プレート１
３に気密的に吊下されて下室R₁内に突出してい
る。各フイルタ１４ａ，１４ｂ…はセラミツク質
の筒状の多孔質体であり、その外周面にフイルタ
膜を備えている。本実施例において、各フイルタ
１４ａ，１４ｂ…は第２図に示すように千鳥配列
に支持されている。

しかして、逆洗機構２０は複数のメインパイプ
２１ａ，２１ｂ…と、各メインパイプ２１ａ，２
１ｂ…に突設された多数のノズル２２a₁，２２a₂
…，２２b₁，２２b₂…と、電磁バルブ２３とから
なる。各メインパイプ２１ａ，２１ｂ…は逆洗用
のガスが供給されるもので、ハウジング上部１２
の各挿通孔１２ｄに挿通されて上室R₂の上部に
延び、各挿通孔１２ｄの外側開口縁部にて固定さ
れている。各メインパイプ２１ａ，２１ｂ…は各
フイルタ１４ａ，１４ｂ…の直線上の各群の上方
に位置し、フイルタ１４ａ群の上端開口部の上方
には各ノズル２２a₁，２２a₂…が臨みかつフイル
タ１４ｂ群の上端開口部の上方には各ノズル２２
b₁，２２b₂…が臨んでいる。各ノズル２２a₁，２
２a₂…，２２b₁，２２b₂…においては、各メイン
パイプ２１ａ，２１ｂ…の基端部側から先端部側
に行くにしたがつてノズル径が漸次小さく形成さ
れている。

かかる構成の集塵装置においては通常排出口１
１ｄおよび電磁バルブ２３が閉じていて、高温の
排ガスが流入口１１ｃから下室R₁内に供給され
る。下室R₁内に供給された排ガスは各フイルタ
１４ａ，１４ｂ…の外周側から内周側へ透過し、
上室R₂に至つて流出口１２ｃから流出される。
この間、排ガス中の塵は各フイルタ１４ａ，１４
ｂ…の外周に捕集されて付着し、排ガスは清浄化
されて流出口１２ｃから流出する。

しかして、各フイルタ１４ａ，１４ｂ…の外周
の塵の付着量が多くなつた時点で、排ガスの供給
を停止しまた継続した状態で電磁バルブ２３を間
欠的に数回開放する。これにより、各メインパイ
プ２１ａ，２１ｂ…内へ高圧の逆洗用ガスが間欠
的に供給されて各ノズル２２a₁，２２a₂…，２２
b₁，２２b₂…から各フイルタ１４ａ，１４ｂ…内
へ間欠滴に噴出され、各フイルタ１４ａ，１４ｂ
…の内周側から外周側へ透過する。このため、各
フイルタ１４ａ，１４ｂ…の外周に付着する塵は
脱落して下室R₁の底部に留まり、排出口１１ｄ
を開放することにより外部へ排出される。

ところで、本実施例においては、各ノズル２２
a₁，２２a₂…，２２b₁，２２b₂…を各メインパイ
プ２１ａ，２１ｂ…の基端部側から先端部側に行
くにしたがつてそのノズル径を漸次小さくして、
間欠的に噴出する逆洗用ガスを各ノズル共略一定
としている。このため、各フイルタ１４ａ，１４
ｂ…を透過する逆洗用ガスが略同量となり、各フ
イルタ１４ａ，１４ｂ…は略均等な洗浄状態とな
つて集塵効果を向上させる。

なお、本実施例においては、各メインパイプ２
１ａ，２１ｂ…をハウジング１０内の上室R₂の
上方に配設して各ノズル２２a₁，２２a₂…，２２
b₁，２２b₂…の長さを極めて短くし、かつ電磁バ
ルブ２３を各メインパイプ２１ａ，２１ｂ…にの
み設けているにすぎないため、装置特に逆洗機構
２０を従来に比し小さくかつ簡単化することがで
き、これにより装置全体を小型化できるととも
に、逆洗時の電磁バルブ２３の作動制御も容易で
ある。

なお、本実施例においては、各ノズルの内径を
互に変えてそれらの逆洗用ガスの噴出量を略一定
にする例について示したが、かかる手段に換えて
各ノズル内をベンチユリー形状としてその絞りを
互に変えるようにしてもよく、かつ各ノズルの長
さを互に変えるようにしてもよい。また、各フイ
ルタとしては適宜の材質のものを採用することが
できるとともに、それらの配列も適宜変更するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例に係る集塵装置の縦
断面図、第２図は同装置におけるフイルタおよび
メインパイプの配列関係を示す平面図、第３図は
従来の集塵装置の縦断面図である。 符合の説明、１０……ハウジング、１１ｃ……
流入口、１１ｄ……排出口、１２ｃ……流入口、
１３……支持プレート、２１ａ，２１ｂ……メイ
ンパイプ、２２a₁，２２a₂，２２b₁，２２b₂……
ノズル、２３……電磁バルブ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ハウジング内に配設されて同ハウジング内を被
   処理ガスの流入口および捕集塵の排出口を有する
   下室と処理ガスの流出口を有する上室とに区画す
   るフイルタ用支持プレートと、この支持プレート
   に気密的かつ吊下状に支持されて前記下室に突出
   する筒状の多数のフイルタと、逆洗用ガスが供給
   されるメインパイプから突出して前記各フイルタ
   の上端開口部の上方に臨み前記パイプに供給され
   る逆洗用ガスを噴出させる多数の逆洗用ノズルを
   備えてなるガス集塵装置において、前記各ノズル
   を異なる開口径に成形して、これら各ノズルのガ
   ス噴出量を略一定としたことを特徴とするガス集
   塵装置。