JPH0465389A - 単結晶の育成方法 - Google Patents

単結晶の育成方法

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Publication number
JPH0465389A
JPH0465389A JP17411490A JP17411490A JPH0465389A JP H0465389 A JPH0465389 A JP H0465389A JP 17411490 A JP17411490 A JP 17411490A JP 17411490 A JP17411490 A JP 17411490A JP H0465389 A JPH0465389 A JP H0465389A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
crucible
crystal
seed crystal
melt
Prior art date
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Pending
Application number
JP17411490A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Ishibashi
浩之 石橋
Ichiji Kiyohito
清人 一司
Masato Yoshida
誠人 吉田
Kenzo Susa
憲三 須佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP17411490A priority Critical patent/JPH0465389A/ja
Publication of JPH0465389A publication Critical patent/JPH0465389A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ヒ化ガリウム、シリコンなどの半導体単結晶
、ゲルマニウム酸ビスマス、タングステン酸カドミウム
、タングステン酸亜鉛、ケイ酸ガドリニウム等の酸化物
単結晶の育成方法に関する。
(従来の技術) 高純度、高品質の単結晶の育成に適する方法として、チ
ョクラルスキー法がある。
チョクラルスキー法は第2図に示すようにるつは5中の
原料を高周波加熱等で融解したのち種結晶2を融液4に
接触させ、温度を制御しつつ回転しながら引き上げ、種
結晶につづく結晶を成長させる方法である。引き上げ中
は、通常結晶又はるつは系の重量変化を検出し、それを
電源にフィードバックして融液の温度を精密にコントロ
ールし、成長した単結晶6の直径を自動制御する方法が
とられている。
(発明か解決しようとする課題) 上述のチョクラルスキー法は、円柱状の単結晶か得られ
製品の採取効率が良いものの、成長した単結晶の重量変
化等を測定し、るつほの温度を強制的に変えて単結晶の
直径を制御しなければならす、単結晶内部に温度変化に
よる歪か発生し易いという問題があった。
又単結晶の製造に於いては、育成された単結晶をるつぼ
から取り出す作業か容易であることか必要である。
本発明は、単結晶内部に温度変化による歪の発生がない
単結晶が育成できると共に、るつぼからの取り出し作業
が容易な単結晶の育成方法を提供するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、るつぼ内の原料融液に種結晶を接触させ、種
結晶を引き上げながら種結晶につづく結晶を成長させる
単結晶の育成方法において、るつぼの底部に対する開口
部の開き角度を1°以上とすると共に、単結晶の育成が
完了する前に種結晶の引き十げを途中で停止し、その後
はるつぼの温度をゆるやかに制御して単結晶の成長を引
き続き行うようにしたものである。第1図(f)は、本
発明で使用するるつぼの断面形状を示すもので、θはる
つぼの底部に対する開き角度であり、θは1°以上とな
るようにする。
本発明は、単結晶の育成が完了する前に種結晶の引き上
げを途中で停止するが、全体の融液の10〜20%が単
結晶として育成した段階で停止するのが好ましい。しか
し・、原料の種類、単結晶の成長方位、るつほの直径等
装置上の制約等を勘案して種結晶の引き上げを停止する
時期が決められる。
種結晶の引き上げを停止した後は、るつほの温度をゆる
やかに制御、例えば1時間に10〜200度の温度勾配
でるつばの温度をゆるやかに冷却する等を行い単結晶の
成長を引き続き行う。
種結晶を引き上げるとはるつほの移動に対して相対的に
種結晶を引き上げることを意味し、また種結晶の引き上
げを停止するとは、るつほの移動に対して相対的に種結
晶を停止することを意味する。
種結晶を引き上げている時は、種結晶及び/又はるつぼ
を回転していても良い。種結晶をるつほに対して相対的
に回転するのが好ましい。
種結晶の引き上げを停止した後、育成したip結晶かる
つぼ壁に達するまでは、種結晶をるつほに対して相対的
に回転してもよく、回転を停止してもよい。育成した単
結晶がるつは壁に達した後は、種結晶をるつほに対して
相対的に回転できなくなるが、種結晶とるつぼを同方向
、同回転速度で回転しても良い。
種結晶の引き上げ停止後は、成長単結晶部分をるつは壁
まで到達させ、さらに全ての融液を単結晶化させること
が円柱状の単結晶が得られ製品の採取効率が良いので望
ましい。
実施例 第1図は、本発明の一実施例を説明するための単結晶の
育成状況の時間的変化を模式的に示した断面図である。
以下第1図を使用して本発明の一実施例を説明する。
原料であるGaAs多結晶に、封止剤であるB203 
を第1図(f)に示すような直径100t+onで底部
にする開口部の開き角度が15°の窒化ホウ素製るつぼ
に入れ加熱して融かした。第1図(a)で示したように
種結晶保持具1で保持したGaAs単結晶から切り出し
た種結晶2を8203の液体封止剤3を通してGaAs
の原料融液4の表面に付着した。第1図(b)で示した
ように原料融液4の温度を制御するとともに種結晶2を
回転しながら引き上げ、単結晶6を成長させた。そして
成長した単結晶の直径が第1図(e)で示したように約
70mmになった所で種結晶2の引き上げと回転を停止
した。その後ゆるやかに温度を下げ、第1図(d)に示
したように成長した単結晶はるつぼ内壁に到達した。さ
らに、ゆるやかに温度を下げ、第1図(e)に示したよ
うに全ての原料を結晶化した。その後室温まで除冷し、
育成した単結晶を取り出した。得られたGaAs単結晶
は、直径94mmで歪の少ない、割れの無い良質な単結
晶であった。またるつぼからの単結晶の取り出しは容易
でるつほが割れることがなかった。
上述の実施例は液体封止剤を使用する場合でについての
ものであるか、本発明は、液体封止剤を必要としない単
結晶の育成の場合にも適応できる。
上述の実施例ではるつぼを固定[7て単結晶を育成した
が、るつぼを移動する場合にも本発明は適応できる。
またるつほの断面形状は必すしも円形でなくてもよく、
所望の単結晶断面形状に応じて矩形、正方形、楕円形な
どの形状のるつぼを使用することができる。
(発明の効果) 本発明の単結晶の育成方法によれば、単結晶をるつほか
ら取り出す際に、単結晶やるつほを割ることなく、容易
に単結晶を取り出すことができる。
さらに本発明の単結晶の育成方法によれば、育成中の温
度変化をゆるやかにすることができ、温度変化による歪
の発生を制御することができる。
またチョクラルスキー法に比べて、同じ直径のるつぼか
ら直径の大きな単結晶を容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(f)は本発明の簡略断面図、第2図は
従来の方法を示す断面図である。 符号の説明 1 種結晶保持具   2 種結晶 4 原料融液     5 るつは 6 成長した単結晶

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、るつぼ内の原料融液に種結晶を接触させ、種結晶を
    引き上げながら種結晶につづく結晶を成長させる単結晶
    の育成方法において、るつぼの底部に対する開口部の開
    き角度を1°以上とすると共に、単結晶の育成が完了す
    る前に種結晶の引き上げを途中で停止し、その後はるつ
    ぼの温度をゆるやかに制御して単結晶の成長を引き続き
    行うことを特徴とする単結晶の育成方法。
JP17411490A 1990-06-29 1990-06-29 単結晶の育成方法 Pending JPH0465389A (ja)

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JP17411490A JPH0465389A (ja) 1990-06-29 1990-06-29 単結晶の育成方法

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JP17411490A JPH0465389A (ja) 1990-06-29 1990-06-29 単結晶の育成方法

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JPH0465389A true JPH0465389A (ja) 1992-03-02

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