JPH0464408A - 粉体と水の連続混練方法 - Google Patents
粉体と水の連続混練方法Info
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- JPH0464408A JPH0464408A JP17820390A JP17820390A JPH0464408A JP H0464408 A JPH0464408 A JP H0464408A JP 17820390 A JP17820390 A JP 17820390A JP 17820390 A JP17820390 A JP 17820390A JP H0464408 A JPH0464408 A JP H0464408A
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Landscapes
- Preparation Of Clay, And Manufacture Of Mixtures Containing Clay Or Cement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は従来は取扱が困難な粉体と水の混練に関する分
野、特に水硬性に限らずセメント、石膏、セラミックス
原料を用いてコンクリート、モルタノベセメント製品、
石膏製品、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイ
ル、瓦、キャスタブル耐火物製造時の連続混練操作に関
する。
野、特に水硬性に限らずセメント、石膏、セラミックス
原料を用いてコンクリート、モルタノベセメント製品、
石膏製品、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイ
ル、瓦、キャスタブル耐火物製造時の連続混練操作に関
する。
〈従来の技術〉
従来粉体を水と混練操作する場合は、所定の量の粉体と
水を容器に投入して混練し、その後排出するという操作
を繰り返す。すなわちバッチ処理が行われている。
水を容器に投入して混練し、その後排出するという操作
を繰り返す。すなわちバッチ処理が行われている。
かかる従来のバッチ処理方式の混練方法で大容量の処理
を行う場合、通常混線容器を大形化するかバッチ回数を
増やす方法が取られる。しかしバッチ回数のみ増やす対
処法は混練容器への投入及び排出に要する時間が混練時
間に比して増えるため効率的でない。このた約混練容器
は大型化される。
を行う場合、通常混線容器を大形化するかバッチ回数を
増やす方法が取られる。しかしバッチ回数のみ増やす対
処法は混練容器への投入及び排出に要する時間が混練時
間に比して増えるため効率的でない。このた約混練容器
は大型化される。
粉体と水の混練装置では、生成されたスラリーは内壁お
よび攪拌設備に付着しやすく洗浄しにくい。特に水硬性
を有するスラリーては放置すると固化付着し洗浄が困難
である。
よび攪拌設備に付着しやすく洗浄しにくい。特に水硬性
を有するスラリーては放置すると固化付着し洗浄が困難
である。
混練容器が大型化すると接液面積の増加及び構造の複雑
化により洗浄操作は一段と困難となる。
化により洗浄操作は一段と困難となる。
運転・停止頻度の多い場合は、洗浄操作が円滑な運転・
停止動作の障害となる。設備の大型化は付着残留物及び
洗浄水量の増加をもたらし、廃棄物発生量を増加させる
。
停止動作の障害となる。設備の大型化は付着残留物及び
洗浄水量の増加をもたらし、廃棄物発生量を増加させる
。
またバッチ処理方式は一般に自動化が困難であるが、洗
浄が困難である事は混練設備の自動化をさらに困難とす
る。
浄が困難である事は混練設備の自動化をさらに困難とす
る。
以上のごと〈従来のバッチ処理方式では、汚れ、固まり
、面倒な洗浄といった取扱いにくさが伴い、こうした作
業環境が悪いことや多くの人手を要するという欠点があ
り、これらを改善するたぬの自動化も前述のごとく困難
であった。
、面倒な洗浄といった取扱いにくさが伴い、こうした作
業環境が悪いことや多くの人手を要するという欠点があ
り、これらを改善するたぬの自動化も前述のごとく困難
であった。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明はかかる従来の粉体と水の混練装置における欠点
を改良した混練方法を提供することを目的とする。
を改良した混練方法を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
本発明は、コンクリート、モルタノベセメント製品、石
膏製品、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイル
、瓦、キャスタブル耐火物の製造における原料粉体と水
との混練に際し、原料粉体と水とを投入する投入口と、
投入口より連続的に投入された前記粉体と水とを混練す
る混練槽と、混練槽内に投入された前記粉体と水とを攪
拌する攪拌混練手段と、前記投入口とは反対側に設けら
れ、攪拌混練されたスラリーをそこを通して排出し、か
つ攪拌槽内の滞留スラリー量を可変とするスラリー排出
手段とを用いることを比率制御する粉体と水の混練方法
であり、原料粉体と水とを投入する投入口に接続される
原料粉体の供給ホッパー及び水タンクから、それぞれの
流入量を連続的に比率制御する投入制御手段をさらに用
い、前記投入制御手段が前記粉体の供給ホッパーの重量
変化率にしたがって、それぞれの流入量を比率制御した
り、原料粉体と水とを混練する混練槽に洗浄水を加圧噴
射させて、前記混練槽を洗浄するスプレー手段を用いる
方法がその態様としてあげられる。
膏製品、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイル
、瓦、キャスタブル耐火物の製造における原料粉体と水
との混練に際し、原料粉体と水とを投入する投入口と、
投入口より連続的に投入された前記粉体と水とを混練す
る混練槽と、混練槽内に投入された前記粉体と水とを攪
拌する攪拌混練手段と、前記投入口とは反対側に設けら
れ、攪拌混練されたスラリーをそこを通して排出し、か
つ攪拌槽内の滞留スラリー量を可変とするスラリー排出
手段とを用いることを比率制御する粉体と水の混練方法
であり、原料粉体と水とを投入する投入口に接続される
原料粉体の供給ホッパー及び水タンクから、それぞれの
流入量を連続的に比率制御する投入制御手段をさらに用
い、前記投入制御手段が前記粉体の供給ホッパーの重量
変化率にしたがって、それぞれの流入量を比率制御した
り、原料粉体と水とを混練する混練槽に洗浄水を加圧噴
射させて、前記混練槽を洗浄するスプレー手段を用いる
方法がその態様としてあげられる。
以下、図面を参照して本発明の説明を行う。第1図は本
発明に従う粉体と水の連続混練方法の系統図を示す。本
連続混練方法では、前記粉体が蓄えである粉体供給ホッ
パー1と混練用の水を蓄えている水タンク2と、混練す
べき粉体の量を計量する計量ホッパー3と、混練装置9
と、水・粉体比率制御装置5と、混練装置9に加圧洗浄
水を噴射させて混線装置9の内壁及び攪拌軸10に付着
したスラリーを洗浄除去する洗浄スプレィノズル12か
らなる。さらに計量ホッパー3にはそこから粉体の所定
量を混練装置9に供給する粉体フィーダ4が設けられて
いる。粉体フィーダ4は、スクリュー状の回転駆動型の
フィーダであり、回転数を制御することにより供給量を
コントロールすることができる。そしてこのセメントフ
ィーダ4の回転数を制御する粉体フィーダ回転数制御器
7が設けられ、この粉体フィーダ回転数制御器7は水・
粉体比率制御器5によりコントロールされている。
発明に従う粉体と水の連続混練方法の系統図を示す。本
連続混練方法では、前記粉体が蓄えである粉体供給ホッ
パー1と混練用の水を蓄えている水タンク2と、混練す
べき粉体の量を計量する計量ホッパー3と、混練装置9
と、水・粉体比率制御装置5と、混練装置9に加圧洗浄
水を噴射させて混線装置9の内壁及び攪拌軸10に付着
したスラリーを洗浄除去する洗浄スプレィノズル12か
らなる。さらに計量ホッパー3にはそこから粉体の所定
量を混練装置9に供給する粉体フィーダ4が設けられて
いる。粉体フィーダ4は、スクリュー状の回転駆動型の
フィーダであり、回転数を制御することにより供給量を
コントロールすることができる。そしてこのセメントフ
ィーダ4の回転数を制御する粉体フィーダ回転数制御器
7が設けられ、この粉体フィーダ回転数制御器7は水・
粉体比率制御器5によりコントロールされている。
一方、水タンク2の供給口には水供給量制御弁6が設け
られ、この水供給量制御弁6も水・粉体比率制御装置5
に接続され、これにより供給流量が制御されている。
られ、この水供給量制御弁6も水・粉体比率制御装置5
に接続され、これにより供給流量が制御されている。
そして、混練装置9の排出口の下方にはセメント製品、
石膏製品、陶磁器、碍子、レンガ、タイノベ瓦の成型器
13が配置されている。
石膏製品、陶磁器、碍子、レンガ、タイノベ瓦の成型器
13が配置されている。
混練装置9には、供給された粉体を送り出すスクリュー
形状部10aと粉体と水を回転攪拌する攪拌翼10bを
備えた攪拌軸10が設けられている。この攪拌軸10は
1本でもまた複数設けても良い。攪拌翼10aは一般的
にパドルタイプを使用することができる。供給された粉
体と水はスクリュー形状部10aを経て攪拌翼10bに
至り攪拌混練されてスラリーとなる。スクリュー形状部
10aには常にスクリュー回転方向の推進力が作用する
ため、生成されたスラリーが供給部へ逆流することはな
い。
形状部10aと粉体と水を回転攪拌する攪拌翼10bを
備えた攪拌軸10が設けられている。この攪拌軸10は
1本でもまた複数設けても良い。攪拌翼10aは一般的
にパドルタイプを使用することができる。供給された粉
体と水はスクリュー形状部10aを経て攪拌翼10bに
至り攪拌混練されてスラリーとなる。スクリュー形状部
10aには常にスクリュー回転方向の推進力が作用する
ため、生成されたスラリーが供給部へ逆流することはな
い。
攪拌翼10b部ではスラリーは回転攪拌され、逆流も発
生するため均一なスラリーを形成することが可能となる
。
生するため均一なスラリーを形成することが可能となる
。
また、この混練装置には、混練の終了したスラリーを前
記成型器13に供給するためのスラリー堰11が前記粉
体と水の供給部の反対側に設けられている。混練の終了
したスラリーはスラリー堰11をオーバーフローして、
前記成型器13に供給される。
記成型器13に供給するためのスラリー堰11が前記粉
体と水の供給部の反対側に設けられている。混練の終了
したスラリーはスラリー堰11をオーバーフローして、
前記成型器13に供給される。
スラリー堰11は上下に堰の高さを変えることができ、
この堰11の高さを変えることにより混練槽内の滞留ス
ラリー量を変えることができる。供給粉体及び水の量と
、排出スラリー量は同じであるから、滞留スラリー量を
変えることでスラリーの滞留時間すなわち混練時間をコ
ントロールすることができる。混練槽内の滞留スラリー
量を可変にする方法としては、弁状の排出手段で、スラ
リー排出部の有効開放面積を変える方法によっても良い
。
この堰11の高さを変えることにより混練槽内の滞留ス
ラリー量を変えることができる。供給粉体及び水の量と
、排出スラリー量は同じであるから、滞留スラリー量を
変えることでスラリーの滞留時間すなわち混練時間をコ
ントロールすることができる。混練槽内の滞留スラリー
量を可変にする方法としては、弁状の排出手段で、スラ
リー排出部の有効開放面積を変える方法によっても良い
。
前記成型器13には供給されたスラリーの液面を検知す
る液面検知器I4と、液面制鍵器15が設けられている
。そして、成型器13内のスラリー液面が所定のレベル
になったことを示す信号に基づいてスラリー堰11の堰
の高さを変更させ、成型器13へのスラリー注入を停止
させる。また成型器13の重量を計測し、所定の重量に
なったことを示す信号にもとすいてスラリー堰11の高
さを変更する方法によっても良い。
る液面検知器I4と、液面制鍵器15が設けられている
。そして、成型器13内のスラリー液面が所定のレベル
になったことを示す信号に基づいてスラリー堰11の堰
の高さを変更させ、成型器13へのスラリー注入を停止
させる。また成型器13の重量を計測し、所定の重量に
なったことを示す信号にもとすいてスラリー堰11の高
さを変更する方法によっても良い。
計量ホッパー3には、その重量を計測する重量測定器8
が設けられている。二の計量ホンパー3の排出口には粉
体フィーダ4の受は入れ口が接続されている。この重量
測定器8は、百分の1秒車位でその重量を計測し、重量
信号を水、粉体比率制御装置5に送る。水・粉体比王制
装置5はマイクロコンピュータにより構成されている。
が設けられている。二の計量ホンパー3の排出口には粉
体フィーダ4の受は入れ口が接続されている。この重量
測定器8は、百分の1秒車位でその重量を計測し、重量
信号を水、粉体比率制御装置5に送る。水・粉体比王制
装置5はマイクロコンピュータにより構成されている。
水・粉体比率制御装置5は前記重量信号を微分すること
により計量ホッパー3の重量の時間変化率、すなわち粉
体の供給速度を知ることができる。この微分処理により
得られた粉体供給速度に基づいて、粉体フィーダ回転数
制御器7及び水供給量制御弁を制御し、粉体と水の混合
比を一定に保つ。
により計量ホッパー3の重量の時間変化率、すなわち粉
体の供給速度を知ることができる。この微分処理により
得られた粉体供給速度に基づいて、粉体フィーダ回転数
制御器7及び水供給量制御弁を制御し、粉体と水の混合
比を一定に保つ。
このように計量ホッパ3の重量を計測しつつ制御してい
るのは、コンクリート、モルタル、セメント製品、石膏
製品、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイル、
瓦、キャスタブル耐火物の製造においては、粉体と水の
混練比率は製品の品質管理上、誤差4ないし5%程度の
高精度に押えなければならないからである。
るのは、コンクリート、モルタル、セメント製品、石膏
製品、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイル、
瓦、キャスタブル耐火物の製造においては、粉体と水の
混練比率は製品の品質管理上、誤差4ないし5%程度の
高精度に押えなければならないからである。
前記の製造において製品の均質性、緻密性、表面美観は
水・粉体の混合比により著しく影響を受ける。このよう
な高精度での連続粉体供給は、般の粉体供給方法では達
成できない。これは、粉体の場合には一般に嵩比重がし
ばしば変動すること及び従来の粉体連続定量供給法では
搬送機の支持部で滑りが発生するため、たとえ、搬送機
の回転数を定められた回転数対供給量比で制御したとし
ても単位時間当りの供給量は10ないし20%程度の変
動をしてしまうからである。これに対し、百分の1秒車
位で粉体供給量変化を測定し、この検知信号にもとすき
粉体と水の供給量をコントロルすることにより、正確な
比率制御は実現できる。
水・粉体の混合比により著しく影響を受ける。このよう
な高精度での連続粉体供給は、般の粉体供給方法では達
成できない。これは、粉体の場合には一般に嵩比重がし
ばしば変動すること及び従来の粉体連続定量供給法では
搬送機の支持部で滑りが発生するため、たとえ、搬送機
の回転数を定められた回転数対供給量比で制御したとし
ても単位時間当りの供給量は10ないし20%程度の変
動をしてしまうからである。これに対し、百分の1秒車
位で粉体供給量変化を測定し、この検知信号にもとすき
粉体と水の供給量をコントロルすることにより、正確な
比率制御は実現できる。
混練装置9には、洗浄スプレィノズル12が設けられて
いる。洗浄スプレィノズルからは、加圧水が混練装置9
の内壁及び攪拌軸10に向かって放出できるようになっ
ている。水硬性を有するスラリーの場合は、混練装置9
の内壁及び攪拌軸10に付着したスラリーが固化する前
に定期的に洗浄スフレイノズル12より加圧水を放出し
て洗浄操作を行う。水硬性でないスラリーの場合は、運
転停止時または製品グレード切り替え時に同様の洗浄操
作を行う。従来のハツチ処理法では、洗浄スプレィノズ
ルによる洗浄では十分な洗浄効果が得られなかった。バ
ッチ処理法では混練に必要な全粉体と水を受は入れる槽
が必要なため混練装置が大型化する。大型化すると均一
な攪拌を得るためにバッフルが槽の内部に設けられる。
いる。洗浄スプレィノズルからは、加圧水が混練装置9
の内壁及び攪拌軸10に向かって放出できるようになっ
ている。水硬性を有するスラリーの場合は、混練装置9
の内壁及び攪拌軸10に付着したスラリーが固化する前
に定期的に洗浄スフレイノズル12より加圧水を放出し
て洗浄操作を行う。水硬性でないスラリーの場合は、運
転停止時または製品グレード切り替え時に同様の洗浄操
作を行う。従来のハツチ処理法では、洗浄スプレィノズ
ルによる洗浄では十分な洗浄効果が得られなかった。バ
ッチ処理法では混練に必要な全粉体と水を受は入れる槽
が必要なため混練装置が大型化する。大型化すると均一
な攪拌を得るためにバッフルが槽の内部に設けられる。
このように槽が大型化し、かつ構造が複雑になると洗浄
スプレィノズルの設置場所に制約を受けること、及び洗
浄液が到達しにくい櫂の内壁部が存在することになるた
め、洗浄スプレィノズルにより自動洗浄することが困難
となる。
スプレィノズルの設置場所に制約を受けること、及び洗
浄液が到達しにくい櫂の内壁部が存在することになるた
め、洗浄スプレィノズルにより自動洗浄することが困難
となる。
本連続混練法では、混練に必要な金粉体と水を受は入れ
る必要はない。混練に必要な混練時間、すなわち滞留時
間は30秒から2分であるためハツチ処理法に比し槽の
容量は10分の1から40分の1と小さくとれる。また
構造も混練槽と混練軸の組合せのみで良く簡単な形状を
とれる。このため、本連続混練法では洗浄スプレィノズ
ルによる自動洗浄が実現できる。
る必要はない。混練に必要な混練時間、すなわち滞留時
間は30秒から2分であるためハツチ処理法に比し槽の
容量は10分の1から40分の1と小さくとれる。また
構造も混練槽と混練軸の組合せのみで良く簡単な形状を
とれる。このため、本連続混練法では洗浄スプレィノズ
ルによる自動洗浄が実現できる。
次に本連続混練法の各利用分野での使用法を記す。第2
図はセメント、モルタノベセメント製品の製造工程図を
示す。粉体原料としては、セメント、骨材、粉体添加材
が用いられる。
図はセメント、モルタノベセメント製品の製造工程図を
示す。粉体原料としては、セメント、骨材、粉体添加材
が用いられる。
粉体原料は所定の比率の水と混練されスラリーとなる。
粉体と水の混合比はセメントの水和に必要な量とスラリ
ーの成型に必要な流動性を考慮して決定される。水量が
多すぎると流動性は良好となるが、スラリー成分が分離
しやすくなる。また水和に必要な水分以外の余剰水は蒸
散するため製品の緻密性が損なわれる。このため、混練
時の粉体・水混合比は高精度の管理が要求される。
ーの成型に必要な流動性を考慮して決定される。水量が
多すぎると流動性は良好となるが、スラリー成分が分離
しやすくなる。また水和に必要な水分以外の余剰水は蒸
散するため製品の緻密性が損なわれる。このため、混練
時の粉体・水混合比は高精度の管理が要求される。
混練されたスラリーは成型機に注入されるか、または土
木、建築物の建設現場において所定の形状に施工された
型枠中に投入される。また型枠を設けず直接床に流し込
み床仕上材とすることもある。あるいは、掘削された地
中のピットに注入し固化材として使用することもある。
木、建築物の建設現場において所定の形状に施工された
型枠中に投入される。また型枠を設けず直接床に流し込
み床仕上材とすることもある。あるいは、掘削された地
中のピットに注入し固化材として使用することもある。
成型または、後者の方法で使用のいずれの場合も、スラ
リーは一定期間養生、すなわち水和反応を行うことによ
りセメント製品またはコンクリート、モルタルになる。
リーは一定期間養生、すなわち水和反応を行うことによ
りセメント製品またはコンクリート、モルタルになる。
本製造工程では混練と養生の2工程が製品品質に影響を
及ぼす。本粉体と水の連続混練方法は第1図に示す方法
によりコンクリート、モルタノペセメント製品の製造工
程中、セメント等粉体原料と水の混練工程に用いられる
。なお、混練に用いられる水は単なる水に限らず、減水
剤、保水剤、セメント硬化調整剤、膨張剤、合成樹脂エ
マルジョンなどの一般的に用いられる添加剤、混和剤で
あればいずれが混合されていてもさしつかえない。
及ぼす。本粉体と水の連続混練方法は第1図に示す方法
によりコンクリート、モルタノペセメント製品の製造工
程中、セメント等粉体原料と水の混練工程に用いられる
。なお、混練に用いられる水は単なる水に限らず、減水
剤、保水剤、セメント硬化調整剤、膨張剤、合成樹脂エ
マルジョンなどの一般的に用いられる添加剤、混和剤で
あればいずれが混合されていてもさしつかえない。
第3図は石膏製品、石膏仕上材の製造工程を示す。粉体
原料としては、石膏及び粉体添加材が用いられる。粉体
原料は所定の比率の水と混練されスラリーとなる。粉体
と水の混合比は石膏の水和に必要な量とスラリーの成型
に必要な流動性を考慮して決定される。水量がが多すぎ
ると流動性は良好となるが、スラリー成分が分離しやす
くなる。
原料としては、石膏及び粉体添加材が用いられる。粉体
原料は所定の比率の水と混練されスラリーとなる。粉体
と水の混合比は石膏の水和に必要な量とスラリーの成型
に必要な流動性を考慮して決定される。水量がが多すぎ
ると流動性は良好となるが、スラリー成分が分離しやす
くなる。
また水和に必要な水分以外の余剰水は蒸散するため製品
の緻密性が損なわれるのはセメントと同様である。従っ
て石膏の場合も混練時の粉体・水混合比は高精度の管理
が要求される。混練されたスラリーは成型機に注入され
るか、または土木、建築物の建設現場において直接床に
流し込み床仕上材とする。成型または、後者の方法で使
用のいずれの場合も、スラリーは一定期間養生、すなわ
ち水和反応を行うことにより石膏製品または石膏床仕上
材となる。本製造工程では混練と養生の2工程が製品品
質に影響を及ぼす。本粉体と水の混練方法は第1図に示
す方法により石膏製品、石膏床仕上材の製造工程中、石
膏等粉体原料と水の混練工程に用いられる。なお、混練
に用いられる水は単なる水に限らず、減水剤、保水剤、
石膏硬化調整剤、膨張剤、合成樹脂エマルジョンなどの
一般的に用いられる添加剤、混和剤であればいずれが混
合されていてもさしつかえない。
の緻密性が損なわれるのはセメントと同様である。従っ
て石膏の場合も混練時の粉体・水混合比は高精度の管理
が要求される。混練されたスラリーは成型機に注入され
るか、または土木、建築物の建設現場において直接床に
流し込み床仕上材とする。成型または、後者の方法で使
用のいずれの場合も、スラリーは一定期間養生、すなわ
ち水和反応を行うことにより石膏製品または石膏床仕上
材となる。本製造工程では混練と養生の2工程が製品品
質に影響を及ぼす。本粉体と水の混練方法は第1図に示
す方法により石膏製品、石膏床仕上材の製造工程中、石
膏等粉体原料と水の混練工程に用いられる。なお、混練
に用いられる水は単なる水に限らず、減水剤、保水剤、
石膏硬化調整剤、膨張剤、合成樹脂エマルジョンなどの
一般的に用いられる添加剤、混和剤であればいずれが混
合されていてもさしつかえない。
第4図はセラミックス製品、すなわち陶磁器、碍子、レ
ンガ、タイル、瓦、キャスタブル耐火物の製造工程図を
示す。粉体原料としては可塑性原料としてカオリン、粘
土、雲母、蝋石、ベントナイト、滑石が用いられる。ま
た非可塑性原料として長石、珪石、珪砂、石英、陶石、
石灰石、マグネサイト、ドロマイト、炭酸バリウム、炭
酸ストロンチウム、シリマナイト、ムライト、アルミナ
、ジルコン、ジルコニア、ルチル、酸化第2鉄、ベリリ
ア等が用いられる。
ンガ、タイル、瓦、キャスタブル耐火物の製造工程図を
示す。粉体原料としては可塑性原料としてカオリン、粘
土、雲母、蝋石、ベントナイト、滑石が用いられる。ま
た非可塑性原料として長石、珪石、珪砂、石英、陶石、
石灰石、マグネサイト、ドロマイト、炭酸バリウム、炭
酸ストロンチウム、シリマナイト、ムライト、アルミナ
、ジルコン、ジルコニア、ルチル、酸化第2鉄、ベリリ
ア等が用いられる。
これらのうち粉砕が必要な原料については、湿式または
乾式の粉砕処理がとられる。一般に非可塑性原料並びに
可塑性原料の中、蝋石、滑石は粉砕処理が行われる。粉
砕処理が行われた粉体及びカオリン、粘土等の粉体は所
定の比率の水と混練されスラリーとなる。粉体と水の混
合比は多数の粉体原料がスラリー中で均一分散すること
と、混練以降の加工工程に必要な流動性を考慮して決定
される。水量が多すぎるとスラリーの粘度が低下し粉体
原料の分離が起こる。また水分が少なすぎると粘度が上
昇し粉体原料の均一分散が損なわれる。
乾式の粉砕処理がとられる。一般に非可塑性原料並びに
可塑性原料の中、蝋石、滑石は粉砕処理が行われる。粉
砕処理が行われた粉体及びカオリン、粘土等の粉体は所
定の比率の水と混練されスラリーとなる。粉体と水の混
合比は多数の粉体原料がスラリー中で均一分散すること
と、混練以降の加工工程に必要な流動性を考慮して決定
される。水量が多すぎるとスラリーの粘度が低下し粉体
原料の分離が起こる。また水分が少なすぎると粘度が上
昇し粉体原料の均一分散が損なわれる。
このため、混練時の粉体・水混合比は高精度の管理が要
求される。混練されたスラリーは成型後、乾燥させた後
加熱により焼成されてセラミックス製品、すなわち陶磁
器、碍子、レンガ、タイル、瓦、キャスタブル耐火物等
となる。本製造工程では原料の調整、すなわち混練及び
成型、焼成の3工程が製品品質に最も影響を及ぼす。本
粉体と水の連続混練方法は第1図に示す方法によりセラ
ミックス製品の製造工程中、原料の調整すなわち混練工
程に用いられる。なお混練に用いられる水は単なる水に
限らず、解膠剤、凝膠剤、保護コロイド、有機結合剤、
潤滑剤、減摩剤、乾燥促進剤、発泡剤などの一般に用い
られる添加剤、混和剤であればいずれが混合されていて
もさしつがえない。
求される。混練されたスラリーは成型後、乾燥させた後
加熱により焼成されてセラミックス製品、すなわち陶磁
器、碍子、レンガ、タイル、瓦、キャスタブル耐火物等
となる。本製造工程では原料の調整、すなわち混練及び
成型、焼成の3工程が製品品質に最も影響を及ぼす。本
粉体と水の連続混練方法は第1図に示す方法によりセラ
ミックス製品の製造工程中、原料の調整すなわち混練工
程に用いられる。なお混練に用いられる水は単なる水に
限らず、解膠剤、凝膠剤、保護コロイド、有機結合剤、
潤滑剤、減摩剤、乾燥促進剤、発泡剤などの一般に用い
られる添加剤、混和剤であればいずれが混合されていて
もさしつがえない。
〈実施例〉
以下の実施例により本発明を例示するがそれによって本
発明の趣旨に何等制限を受けるものではない。
発明の趣旨に何等制限を受けるものではない。
実施例1
第1図に示す連続混練方法において、混練装置9の容量
を15β、攪拌軸1oの長さ対外形寸法比を4.5にと
った。また洗浄スフライノズル12を設置し、20kg
/c[11の加圧水を噴射できる構造とした。
を15β、攪拌軸1oの長さ対外形寸法比を4.5にと
った。また洗浄スフライノズル12を設置し、20kg
/c[11の加圧水を噴射できる構造とした。
本装置を用いて以下のセメント組成物と水の混練を行っ
た。
た。
すなわち ボルトランドセメンン) 100重量部、砂
100重量部からなる粉体に対し水60重量部を加える
。粉体及び水を本装置を用いて連続的に混練を行ったと
ころ、所定のスラリーを得るに必要な混練時間すなわち
スラリーの滞留時間は50秒であつ一ロ 従って一時間当りの混練処理能力は151x36001
50 = 10801!を得た。
100重量部からなる粉体に対し水60重量部を加える
。粉体及び水を本装置を用いて連続的に混練を行ったと
ころ、所定のスラリーを得るに必要な混練時間すなわち
スラリーの滞留時間は50秒であつ一ロ 従って一時間当りの混練処理能力は151x36001
50 = 10801!を得た。
従来のバッチ処理法で混練する場合、混練槽の容量は5
001を要した。これは、バッチ処理においては、粉体
原料を投入時徐々に投入しないと水と混合しにくい。こ
のため原料の投入に時間を要し、原料の投入・混練・ス
ラリー排出の1バ7チサイクルに30分程度を要する。
001を要した。これは、バッチ処理においては、粉体
原料を投入時徐々に投入しないと水と混合しにくい。こ
のため原料の投入に時間を要し、原料の投入・混練・ス
ラリー排出の1バ7チサイクルに30分程度を要する。
従って、1時間に2サイクル程度が限度となることによ
る。以上より、本連続混練方法によると、従来のバッチ
処理法の約30分の1の容量に設備をコンパクト化でき
た。
る。以上より、本連続混練方法によると、従来のバッチ
処理法の約30分の1の容量に設備をコンパクト化でき
た。
次に混練終了後、洗浄スプレィノズル12より加圧水を
噴射し、混練装置9の内壁及び攪拌軸1oに付着したス
ラリーの洗浄を行った。洗浄に要した時間は4分で、付
着スラリーは除去された。バッチ処理法においては、混
練槽の構造が複雑なため洗浄スプレィノズルによって同
様に洗浄したが混練線種バッフル部、及び混練槽底部の
コーナー隅部に付着スラリーが残った。このたと洗浄ス
プレィノズルによる自動洗浄は困難であった。また洗浄
時間は混練槽の開放及び復帰時間を含め工時間を要した
。
噴射し、混練装置9の内壁及び攪拌軸1oに付着したス
ラリーの洗浄を行った。洗浄に要した時間は4分で、付
着スラリーは除去された。バッチ処理法においては、混
練槽の構造が複雑なため洗浄スプレィノズルによって同
様に洗浄したが混練線種バッフル部、及び混練槽底部の
コーナー隅部に付着スラリーが残った。このたと洗浄ス
プレィノズルによる自動洗浄は困難であった。また洗浄
時間は混練槽の開放及び復帰時間を含め工時間を要した
。
実施例2
実施例1に示す混練装置を用いて以下の組成の磁器原料
粉体と水の混練を行った。
粉体と水の混練を行った。
すなわち カオリン100重量部、長石5o重量部、石
英50重量部からなる粉体に対し水70重量部を加える
。長石及び石英はあらがじめ粉砕しておく。
英50重量部からなる粉体に対し水70重量部を加える
。長石及び石英はあらがじめ粉砕しておく。
粉体及び水を本装置を用いて混練を行ったところ、所定
のスラυ−を得るに必要な混練時間すなわちスラリーの
滞留時間は150秒であった。従って一時間当りの混練
処理能力は151 x36(1(1/160337、5
7を得た。従来のバッチ処理法で混練する場合、混練槽
の容量は約1701を要した。これは、実施例1と同様
の理由によりバッチ処理法では1時間に2サイクルのバ
ッチ処理が限度のためである。以上より、本連続混練方
法では、従来のバッチ処理法の約11分の1の容量に設
備をコンパクト化できた。
のスラυ−を得るに必要な混練時間すなわちスラリーの
滞留時間は150秒であった。従って一時間当りの混練
処理能力は151 x36(1(1/160337、5
7を得た。従来のバッチ処理法で混練する場合、混練槽
の容量は約1701を要した。これは、実施例1と同様
の理由によりバッチ処理法では1時間に2サイクルのバ
ッチ処理が限度のためである。以上より、本連続混練方
法では、従来のバッチ処理法の約11分の1の容量に設
備をコンパクト化できた。
次に混練終了後、洗浄スプレィノズル12より加圧水を
噴射し、混練装置9の内壁及び攪拌$11110に付着
したスラリーの洗浄を行った。洗浄に要した時間は3分
で、付着スラリーは除去された。パンチ処理法において
は実施例1と同様に、洗浄スプレィノズルによる自動洗
浄は困難であった。
噴射し、混練装置9の内壁及び攪拌$11110に付着
したスラリーの洗浄を行った。洗浄に要した時間は3分
で、付着スラリーは除去された。パンチ処理法において
は実施例1と同様に、洗浄スプレィノズルによる自動洗
浄は困難であった。
〈発明の効果〉
本発明の混練方法では、連続混練方法をとることにより
コンパクトでかつ簡易な構造で大容量の混練が可能であ
る。
コンパクトでかつ簡易な構造で大容量の混練が可能であ
る。
更に本発明の混練方法では、粉体と水の混合比を実際に
供給した粉体の重量を測定しつつ行うため、連続的で正
確な比率制御可能な混練方法が実現できる。
供給した粉体の重量を測定しつつ行うため、連続的で正
確な比率制御可能な混練方法が実現できる。
更に本発明の混練方法では、洗浄スプレィノズルにより
自動的に混練槽内に付着したスラリーを洗浄できるので
、省力化及び作業環境の改善が可能となる。
自動的に混練槽内に付着したスラリーを洗浄できるので
、省力化及び作業環境の改善が可能となる。
第1図は本発明に従う粉体と液体の連続混練方法の系統
図、第2図は本発明の混練方法の用途を示すコンクリー
ト、モルタル、セメント製品の製造工程図、第3図は同
様に本発明の混練方法の用途を示す石膏製品、石膏仕上
材の製造工程図、第4区は同様に本発明の用途を示すセ
メント製品の製造工程図である。 1・・・粉体供給ホッパー 2・・・水タンク、3・・
・計量ホッパー 4・・・粉体フィーダ、5・・・水・
粉体比率制御装置、6・・・水供給量制御弁、7・・・
粉体フィーダ回転数制御器、8・・・重量測定器、9・
・・混練装置、10・・・攪拌軸、10a・・・スクリ
ュウ形状部、10b・・・攪拌翼、11・・・スラリー
堰、12・・・洗浄スプレィノズル、13・・・成型器
、14・・・液面検知器、15・・・液面制御器第1図 連続混練方法の系統図 第2図
図、第2図は本発明の混練方法の用途を示すコンクリー
ト、モルタル、セメント製品の製造工程図、第3図は同
様に本発明の混練方法の用途を示す石膏製品、石膏仕上
材の製造工程図、第4区は同様に本発明の用途を示すセ
メント製品の製造工程図である。 1・・・粉体供給ホッパー 2・・・水タンク、3・・
・計量ホッパー 4・・・粉体フィーダ、5・・・水・
粉体比率制御装置、6・・・水供給量制御弁、7・・・
粉体フィーダ回転数制御器、8・・・重量測定器、9・
・・混練装置、10・・・攪拌軸、10a・・・スクリ
ュウ形状部、10b・・・攪拌翼、11・・・スラリー
堰、12・・・洗浄スプレィノズル、13・・・成型器
、14・・・液面検知器、15・・・液面制御器第1図 連続混練方法の系統図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、コンクリート、モルタル、セメント製品、石膏製品
、石膏床仕上材、陶磁器、碍子、レンガ、タイル、瓦、
キャスタブル耐火物の製造における原料粉体と水との混
練に際し、原料粉体と水とを投入する投入口と、投入口
より連続的に投入された前記粉体と水とを混練する混練
槽と、混練槽内に投入された前記粉体と水とを攪拌する
攪拌混練手段と、前記投入口とは反対側に設けられ、攪
拌混練されたスラリーをそこを通して排出し、かつ攪拌
槽内の滞留スラリー量を可変とするスラリー排出手段と
を用いることを特徴とする粉体と水の混練方法。 2、原料粉体と水とを投入する投入口に接続される原料
粉体の供給ホッパー及び水タンクから、それぞれの流入
量を連続的に比率制御する投入制御手段をさらに用い、
前記投入制御手段が前記粉体の供給ホッパーの重量変化
率にしたがって、それぞれの流入量を比率制御する請求
項1記載の粉体と水の混練方法。 3、原料粉体と水とを混練する混練槽に洗浄水を加圧噴
射させて、前記混練槽を洗浄するスプレー手段を用いる
請求項1または2記載の粉体と水の混練方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17820390A JPH0464408A (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 粉体と水の連続混練方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17820390A JPH0464408A (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 粉体と水の連続混練方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0464408A true JPH0464408A (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=16044379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17820390A Pending JPH0464408A (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 粉体と水の連続混練方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0464408A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1990
- 1990-07-04 JP JP17820390A patent/JPH0464408A/ja active Pending
Cited By (10)
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