JPH0461958A - Method for adhering to base plate liquid having volume controlled per unit area of liquid - Google Patents

Method for adhering to base plate liquid having volume controlled per unit area of liquid

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JPH0461958A
JPH0461958A JP17284290A JP17284290A JPH0461958A JP H0461958 A JPH0461958 A JP H0461958A JP 17284290 A JP17284290 A JP 17284290A JP 17284290 A JP17284290 A JP 17284290A JP H0461958 A JPH0461958 A JP H0461958A
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liquid
substrate
slot
coating
outlet opening
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JP17284290A
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Japanese (ja)
Inventor
J Choinski Edward
エドワード・ジエイ・チヨインスキイ
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EPICOR TECHNOL Inc
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EPICOR TECHNOL Inc
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a method producing at a low cost, with a high efficiency and high productivity by performing a previously measured 'patch' coating which allows a liquid layer of a controlled volume per a unit area to adhere to an individual surface or a substrate in a predetermined shape and a predetermined thickness. CONSTITUTION: A positive pulse descends precipitously in a slot of a coating liquid adhering apparatus, comes out of the surface of an exit opening of the slot of the coating liquid adhering apparatus formed by a lip of the coating liquid adhering apparatus to hit the surface of a copper-coated laminate and forms a connect bead 66 of the coating liquid between the lip of the coating liquid adhering apparatus and the laminate. An inlet valve is opened simultaneously and a measuring pump starts its rotation to put a controlled volume flow of the coating liquid in or out of the coating fluid adhering apparatus. It is preferable that a pressure difference is generated between the connecting beads by a bead vacuum room 68 in order to help the connecting bead 66 to be kept apart from the lip of the adhering apparatus. By these operations, it is possible to start a sharp and uniform adhering of the coating liquid to be adhered to print circuit boards.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は全体として液体被覆法および液体被覆装置に関
するものであり、更に詳しくいえば、プリント回路板、
集積回路等のような個別の増加する表面すなわち基板を
予め測定された「パッチ」被覆する方法および装置に関
するものであって、液体の単位面積当りの予め測定され
た体積を表面へ付着し、予め定めた形および所定の被覆
厚さを液体IiI「パッチ」が有する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field] The present invention relates generally to liquid coating methods and liquid coating apparatuses, and more particularly to printed circuit boards;
A method and apparatus for coating discrete, incremental surfaces or substrates, such as integrated circuits, in pre-measured "patches" by depositing a pre-measured volume per unit area of liquid onto the surface and The liquid IiI "patch" has a defined shape and a defined coating thickness.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

プリント回路板または集積回路の製造においては、回路
板またはICウェハーの表面へ液体被覆を付着すること
がしばしば望ましく、湿っている被覆の厚さが回路板ま
たは基板の表面全体にわたって一様であることが重要で
あることが重要である。乾燥により、または放射との交
差結合によシ硬化させられるフォトレジスタまた社光で
映像を形成できる接合剤の場合には、最終的に固化した
被覆の厚さは、付着した湿った被覆の厚さと同様に全体
として一様である。
In the manufacture of printed circuit boards or integrated circuits, it is often desirable to apply a liquid coating to the surface of a circuit board or IC wafer, such that the thickness of the wet coating is uniform over the entire surface of the circuit board or substrate. It is important that the In the case of photoresistors that are cured by drying or by cross-coupling with radiation or bonding agents that can be imaged with sunlight, the thickness of the final cured coating is equal to the thickness of the deposited wet coating. It is uniform as a whole.

プリント回路板の製造においては、回路の輪郭をプリン
ト回路板の銅表面に移すためにフォトレジストが用いら
れる。「フォトレジスト」という用語は物質の二重機能
性質を定義するものである。
In the manufacture of printed circuit boards, photoresists are used to transfer circuit contours to the copper surface of the printed circuit board. The term "photoresist" defines the dual functional nature of the material.

まず、それは、紫外線を照射されると化学的性質を変化
する光ポリマーである。その照射は、形成される回路の
輪郭を描くマスクを通じて選択的に行う。紫外線を照射
された光ポリマーを現像した後で二重機能が役割を演す
るようになる。現像後には望ましくない軟かい部分を銅
の表面から洗い流す。そうすると、露出マスクにより輪
郭を形成された領域だけに、硬化したポリマーの保護被
覆が残る。1つの用途においては、次に回路板にエツチ
ングを施す。保護被覆はエツチングに抵抗して、保護さ
れていない鋼表面だけがエツチングにより除去されるよ
うにする。現像されたフォトレジストが最終的に化学的
に除去されると、下側の保護されていた銅の回路線が回
路板の導電体になる。
First, it is a photopolymer that changes its chemical properties when exposed to ultraviolet light. The irradiation is selectively performed through a mask that delineates the circuit to be formed. Dual functionality comes into play after developing the photopolymer exposed to UV light. After development, undesirable soft spots are washed away from the copper surface. The protective coating of cured polymer then remains only in the areas outlined by the exposure mask. In one application, the circuit board is then etched. The protective coating resists etching so that only unprotected steel surfaces are etched away. When the developed photoresist is finally chemically removed, the underlying protected copper circuit lines become the electrical conductors of the circuit board.

プリント回路板O現在の製造方法においては、映像を照
射されたフォトレジストを現像する化学的過程と、露出
している銅のエツチングと、現像されたフォトレジスト
の除去とは、回路板に過大な量O現偉剤、エツチング剤
または化学的除去剤を供給するととにより全て行われる
。これは吹付けによ)通常行う、こO吹付けによ)攪拌
作用も行われて、軟化させられた表面物質または溶解し
た表面物質O除去を強める。それらO方法では経済的な
理由のために化学物質を再循環使用し、回路板の表面が
以前に反応させられた物質にさらされるために費用がか
か)、面倒で、非経済的である。このために表面との化
学反応の効率が低下し、サイクル時間が長くな〕、回路
の輪郭がほや轄る。
In current manufacturing methods for printed circuit boards, the chemical process of developing the imaged photoresist, etching the exposed copper, and removing the developed photoresist leaves the circuit board with too much material. This is all done by supplying a cleaning agent, an etching agent, or a chemical removal agent. This is usually done by spraying, and an agitation action (by spraying) is also performed to enhance the removal of softened or dissolved surface material. These methods use recycled chemicals for economic reasons and are expensive (expensive), cumbersome, and uneconomical because the surface of the circuit board is exposed to previously reacted materials. . This reduces the efficiency of chemical reactions with the surface, increases cycle times, and distorts the contours of the circuit.

また、再循環させられる物質の質を維持することが困離
になるために、表面との反応速度が変化する。
Also, it becomes difficult to maintain the quality of the recycled material, which changes the rate of reaction with the surface.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

したがって、本発明の全体的な目的唸改良し九被覆法お
よび被覆装置を得ることである。
Accordingly, the overall object of the present invention is to provide an improved coating method and apparatus.

本発明(2411定の目的は、個々の表面または基板の
上に、単位面積当多制御された量の液体の層を所定の形
および所定の厚さで付着する、予め測定された「パッチ
」被覆を行う方法および装置を得ることである。
The object of the present invention (2411) is to create a pre-measured "patch" that deposits a layer of a controlled amount of liquid per unit area onto an individual surface or substrate in a predetermined shape and with a predetermined thickness. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for performing coating.

本発明O別O目的は、単位面積当り制御された量の複数
の液体を表面または基板に対して重ね合わされた関係で
、所定の形シよび所定O厚さで付着する、予め測定した
「パッチ」被覆を個々の増分被覆表面に被覆する方法お
よび装置を得ることである。
Another object of the present invention is to create pre-measured "patches" that deposit controlled amounts of a plurality of liquids per unit area in superimposed relation to a surface or substrate in a predetermined shape and thickness. ``Providing a method and apparatus for applying coatings to individual incrementally coated surfaces.''

本発明の特徴は、種々のプリント回路板処理液体を過剰
に供給する必!!なしに、それらの処理液体をプリント
回路板に被覆するために、被覆方法を採用できることで
ある。
A feature of the present invention is that various printed circuit board processing fluids are not required to be supplied in excess. ! Coating methods can be employed to coat printed circuit boards with these processing liquids without any process.

本発明の別の特徴は、基板表面に付着される液体被覆の
明確な開始から明確な停止まで、液体の付着を制御する
装置を得ることである。
Another feature of the invention is to provide an apparatus for controlling the deposition of liquid from a well-defined start to a well-defined stop of the liquid coating being deposited on a substrate surface.

本発明の方法および対応する装置社、単位面積当多制御
された量の液体を、所定厚さで、四辺形の予め測定され
た液体「パッチ」で個々の、増分基板に付着するもので
ある。液体源が液体含有室へ流体的に連結される。その
液体含有室拡、出口開口部を有する液体付着器スロット
へ流体的に連結される。基板が液体付着器スロットの出
口開口部に近接して位置させられていると、液体付着器
スロットの出口開口部から流れ出る正のパルスを生ずる
ことによシ被覆「パッチ」を開始し、液体ビードを形成
して、制御された体積流量の液体を液体付着器Oスロッ
トを通じて送る。液体含有室の中である量の液体を急に
動かすことにより、液体の正パルスを発生することが好
ましい。液体連結ビードが基板で形成されると、付着器
スロットの出口開口部から出る液体の制御される体積流
量が、付着器と基板の間の相対的な動きに組合わされて
、基板表面に液体被覆を付着させる。液体被覆ビードの
終端は、液体含有室〇一部に一時的な真空を生ずる負の
切離しパルスにより行われる。
The method and corresponding apparatus of the present invention are for depositing a controlled amount of liquid per unit area, at a predetermined thickness, onto individual, incremental substrates in quadrilateral pre-measured liquid "patches". . A source of liquid is fluidly coupled to the liquid containing chamber. The liquid-containing chamber expands and is fluidly connected to a liquid applicator slot having an outlet opening. When a substrate is positioned in close proximity to the outlet opening of the applicator slot, it initiates a coating "patch" by creating a positive pulse that flows out of the outlet opening of the applicator slot, causing a bead of liquid to flow out of the applicator slot. is formed to deliver a controlled volumetric flow rate of liquid through the liquid applicator O-slot. Preferably, a positive pulse of liquid is generated by jerking a volume of liquid within the liquid-containing chamber. Once a liquid interlocking bead is formed at the substrate, a controlled volumetric flow rate of liquid exiting the outlet opening of the applicator slot, combined with the relative movement between the applicator and the substrate, creates a liquid coating on the substrate surface. Attach. Termination of the liquid-coated bead is effected by a negative cutting pulse that creates a temporary vacuum in a portion of the liquid-containing chamber.

そO真空は被覆液体を付着器のスロット内に吸込み、付
着器スロットO出ロ開ロ部と基板表面の間の液体被覆の
間の連結ビードを壊す。
The vacuum draws the coating liquid into the applicator slot and breaks the connecting bead between the liquid coating between the applicator slot outlet opening and the substrate surface.

〔実施例〕〔Example〕

まず、予め計量された測定法が線図的に示されている第
1図を参照する。処理液体をプリント回路板の表面に被
覆できる。処理液体としては7オトレジスト、現像剤、
エツチング剤、化学的剥離剤、接合剤マスク、その他、
予め計量される被覆系を用いる液状化学物質を用いるこ
とができる。
Reference is first made to FIG. 1, in which a pre-weighed measuring method is diagrammatically shown. The processing liquid can be coated onto the surface of the printed circuit board. Processing liquids include 7-otoresist, developer,
Etching agents, chemical stripping agents, adhesive masks, etc.
Liquid chemicals can be used with pre-metered coating systems.

[予め計量された被覆」という用語は、被覆すべき基板
の表面から距離Xたけ隔てられている被覆付着器内に制
御された体積流量の液体被覆を送シこむプロセスを指す
ものである。基板表面が付着器の傍を通ると、付着器ス
ラットから出た被覆液体は薄い一様な層として表面上に
付着さnる。
The term "pre-metered coating" refers to the process of delivering a controlled volumetric flow rate of a liquid coating into a coating applicator that is spaced a distance X from the surface of the substrate to be coated. As the substrate surface passes by the applicator, the coating liquid exiting the applicator slats is deposited onto the surface in a thin, uniform layer.

予め計量されるプロセスは浸漬被覆、回連被覆、スクリ
ーン被覆または四−ル被覆のような保持されるプロセス
とは異なる。それらのプロセスは基板の表面に過剰な量
の被覆液体を供給する。そ0過剰な量が除去されると、
基板表面に保持されている量は被覆液体0レオロジ的性
質(粘度等)および被覆パラメータの関数である。
Pre-metered processes differ from held processes such as dip coating, continuous coating, screen coating or four-rule coating. Those processes supply an excessive amount of coating liquid to the surface of the substrate. When the excess amount is removed,
The amount retained on the substrate surface is a function of the coating liquid's rheological properties (such as viscosity) and coating parameters.

簡単にいえば、予め計量した被覆においては固定された
量が加えられるが、保持される被覆では過剰な量が除去
される。予め計量されるプロセスでは、液体の粘度は付
着している湿った被覆の厚さを決定しない。JIIIK
IIり式で示すように、クエン)O厚さ〒は率に被覆速
さ8と被覆幅Wで除した体積流量Vの関数である。全て
の被覆プロセスと同様に、被覆が乾くと、乾燥した被覆
の厚さtは被a液体のパーセント固体の関数である。
Simply put, in a pre-metered coating a fixed amount is added, while in a retained coating the excess amount is removed. In pre-metered processes, the viscosity of the liquid does not determine the thickness of the deposited wet coating. JIIIK
As shown in equation II, the citric acid thickness 〒 is a function of the volumetric flow rate V divided by the coating speed 8 and the coating width W. As with all coating processes, once the coating is dry, the dry coating thickness t is a function of the percent solids of the liquid being coated.

全ての保持されている被覆プロセスでは被覆されたウェ
ットの厚さは被覆液体の粘度の関数である。一般に、蒸
発により被覆液体が失われたシ、または蒸発による損失
を補償するために溶媒が1充された時に被覆液体の過希
釈により液体のパーセント固体が変化したとすると、液
体の粘度が変化する。したがって、保持されて匹る被覆
プロセスにおいてクエット厚さを維持するためには、パ
ーセント固定を正確に監視し、かつ制御せねばならない
。更に、粘度は温度に依存するから、被覆液体の温度も
正確に制御せねばならない。
In all sustained coating processes, the thickness of the wet coating is a function of the viscosity of the coating liquid. In general, if the percent solids of the liquid changes due to loss of coating liquid due to evaporation, or due to overdilution of the coating liquid when a charge of solvent is added to compensate for the loss due to evaporation, the viscosity of the liquid will change. . Therefore, the percent fixation must be accurately monitored and controlled in order to maintain the Couette thickness in the coating process. Furthermore, since viscosity is temperature dependent, the temperature of the coating liquid must also be precisely controlled.

予め計量される被覆プロセスでは、除去すべき過剰な液
体がないから、被覆液体を基板の表面に付着するまで、
被覆液体を閉じた系に閉じこめておくことができる。こ
れによシ、被覆前の蒸発による損失を防止できる。また
、閉じこめることにより外部の汚染物質にさらされるこ
とが非常に少くなるために、被覆液体の純粋性が維持さ
れる。
In a pre-metered coating process, there is no excess liquid to remove, so the coating liquid can be deposited onto the surface of the substrate.
The coating liquid can be confined in a closed system. This also prevents losses due to evaporation before coating. Confinement also maintains the purity of the coating liquid since exposure to external contaminants is greatly reduced.

予め計量されるプロセスでは、体積流量を変えるだけで
ウェットの厚さを変えることができる。たとえば、体積
流量が1860a+w”/i■、被覆速さが610ff
i/鳳、被覆幅が611であると、ウェット被覆の厚さ
が0.051:IwKなる。したがって、体積流量を9
33” /閣へ単に減少することによプ、ウェットO厚
さは0−00253に減少する(第1図参照)。被覆液
体の体積パーセント固体が20−とすると、算出される
対応する乾燥の厚さは、体積流量がl ggQcM″/
mである場合は0.013、体積流量が9351”/I
IKの場合には0.000531である(第1図参照)
In pre-metered processes, the wet thickness can be varied simply by changing the volumetric flow rate. For example, the volumetric flow rate is 1860a+w”/i■, and the coating speed is 610ff.
i/Otori, if the coating width is 611, the wet coating thickness will be 0.051:IwK. Therefore, the volumetric flow rate is 9
By simply decreasing the wet O thickness to 33"/3.3"/min, the wet O. The thickness is determined by the volumetric flow rate l ggQcM″/
0.013 if the volumetric flow rate is 9351”/I
In the case of IK, it is 0.000531 (see Figure 1)
.

予め計量された[パッチ」被覆プロセスおよび装置が第
2〜8図に示されている。まず、本発明に従って製作さ
れた被覆装置10が示されている第2図を参照する。被
覆装置10は液体付着器12を有する。この液体付着器
12は液体含有1i14と、位置ぎめピストン11によ
シ支持される付着器スロット11iとを含む。位置ぎめ
ピストン1aは間隙ストップ調節ねじ20を有する。窒
素ガスの覆いの下にある封じられた貯蔵器24の中に含
まれている被覆液体22が、計量ポンプ28と友わみ連
結臭30を介して入口弁32へ連結される。
A pre-metered "patch" coating process and apparatus is illustrated in FIGS. 2-8. Reference is first made to FIG. 2, in which a coating apparatus 10 constructed in accordance with the present invention is shown. The coating device 10 has a liquid applicator 12 . The liquid applicator 12 includes a liquid containing 1i14 and an applicator slot 11i supported by the positioning piston 11. The positioning piston 1a has a gap stop adjustment screw 20. Coating liquid 22, contained in a sealed reservoir 24 under a blanket of nitrogen gas, is connected to an inlet valve 32 via a connection 30 connected to a metering pump 28.

その入口弁は液体付着器12に取付けられている。Its inlet valve is attached to the liquid applicator 12.

液体付着器には変位ピストン3@も取付けられる。A displacement piston 3@ is also attached to the liquid applicator.

この変位ピストンは変位棒36へ連結される。そO変位
棒紘液体付着器3sと0リングシール40を通って付着
器室14の中に挿入される。液体付着器の真下にスロッ
ト封じ器42が開かれている付着器スロットに接触して
設けられる。そのスロット封じ器は、スロット封じピス
トン46へ連結されている軸44に沿って上下に動かさ
れる。スロット封じ器42は、被覆筐体22を鋼被覆ラ
ミネート(iたは基板表両)へ付着する前、を九社被覆
した後で、液体付着器リップ48を掃除する。
This displacement piston is connected to a displacement rod 36. The O-displacement rod is inserted into the applicator chamber 14 through the O-ring seal 40 and the liquid applicator 3s. Directly below the liquid applicator, a slot seal 42 is provided in contact with the open applicator slot. The slot seal is moved up and down along a shaft 44 that is connected to a slot seal piston 46. The slot closure 42 cleans the liquid applicator lip 48 before and after coating the coating housing 22 to the steel coating laminate (both sides).

それと同時に、スロット封じ器42は、液体付着器リッ
プ4Sによ)形成されている液体付着器スロットの出口
開口部51を封じる。
At the same time, the slot sealer 42 seals the outlet opening 51 of the depositor slot formed by the depositor lip 4S.

被覆すべき鋼被覆ラミネー)5Gが真空台52の上にの
せられる。この真空台の上方の液体付着器の近くを真空
台が滑らかに動くことができるように、真空台は直線軸
受54の上にのせられる。
The steel coating laminate to be coated) 5G is placed on the vacuum table 52. The vacuum table is mounted on linear bearings 54 so that it can move smoothly above the vacuum table near the liquid applicator.

真空台52は連結リンク56によシ駆動チェーン5葛へ
固定される。駆動チェーン5畠は駆動スプロケット60
の周囲を回る。駆動スプロケット6゜は精密駆動モータ
(図示せず)によシ、精密に制御され次速さで回転させ
ることができる。駆動組立体62の1番上に、動作順序
を合図するために用いられる4個のマイクロスイッチA
、B、C,Dが設けられる。
The vacuum table 52 is fixed to the drive chain 5 through a connecting link 56. Drive chain 5 is drive sprocket 60
revolve around. The drive sprocket 6° is precisely controlled by a precision drive motor (not shown) and can be rotated at the following speeds. At the top of the drive assembly 62 are four microswitches A used to signal the order of operation.
, B, C, and D are provided.

第2図において、大口弁32を閉じる前に被覆液体22
は封じられている貯蔵器24からポンプ28により被覆
液体含有室14へ送られ、そこから付着器スロット16
を伝わって降下する。被覆液体含有室14の中に入った
空気は空気排出弁(B、V、)84を通じて排出される
。スロット封じ器42の中には被覆液に類似する溶媒が
充される。付着器リップ48はスロット封じ器内の溶媒
の表面の下に沈められる。これにより付着器スロット内
で被覆液が乾燥することが防止され、付着器リップに残
っている被覆液体を洗い流す。付着器リップまたは付着
器スロットに残っている乾いた被覆が被覆液体の流れを
分裂させて被覆を不均一にするから、きれいなリップと
スロットが望ましい。
In FIG. 2, before closing the large mouth valve 32, the coating liquid 22 is
is pumped from a sealed reservoir 24 by a pump 28 to the coated liquid containing chamber 14 and from there to the applicator slot 16.
and descends. Air entering the coating liquid containing chamber 14 is exhausted through air exhaust valves (B, V,) 84. The slot sealer 42 is filled with a solvent similar to a coating liquid. The applicator lip 48 is submerged below the surface of the solvent within the slot closure. This prevents the coating liquid from drying in the applicator slot and flushes out any remaining coating liquid on the applicator lip. Clean lips and slots are desirable because dry coating remaining on the applicator lip or slot can disrupt coating liquid flow and cause uneven coating.

真空台の内部が真空にされ、真空台の1番上の穴をふさ
ぐ銅被覆ラミネートがその真空によシ吸引されて真空台
の上の側表面に密着されて平らにされる。スイッチAが
閉じられると駆動モータの回転が停止させられ、そのた
めに駆動スプロケットが停止させられ、スロットシール
ピストンが作動させられる。その九めにスロット封じ器
を上昇させられて被覆液付着器に接触させられることに
よシ、被覆液体付着器スロットの出口開口部51を封じ
る。
A vacuum is applied inside the vacuum table, and the copper-coated laminate filling the top hole of the vacuum table is sucked by the vacuum and flattened against the top side surface of the vacuum table. When switch A is closed, rotation of the drive motor is stopped, thereby stopping the drive sprocket and activating the slot seal piston. Ninth, the slot seal is raised into contact with the coating liquid applicator, thereby sealing the outlet opening 51 of the coating liquid applicator slot.

被覆サイクルが開始されると、取消しボタン(図示せず
)を押して駆動モータを始動させ、駆動スプロケットを
回転させる。それにより駆動チェーンが動かされ、連結
リンクを介して真空台と、この真空台にのせられている
銅被覆ラミネートとを右へ動かして、第3図に示すよう
にスイッチ入から離してそのスイッチを開く。スイッチ
入が開くと2種類の動作がひき起される。第1に、スロ
ット封じピストン46がスロット封じ器42を真空台の
下の位置まで引く。第2に、位置ぎめピストンIIが間
隙ストップ調節ねじ20に対して下向し、被覆液体付着
器12を、付着器スロットの出口開口部51と銅被覆ラ
ミネートsoo間に形成された所定の被覆間[rxJへ
向って下方へ動かす。この被覆間隙は1cMに等しいか
、それよシ狭い。これは、米国特許第4 、230 、
793号に示されているような、被覆間隙が10よシ紘
るかに広く、たとえば103である、カーテン被覆装置
とは対照的である。
Once the coating cycle has begun, a cancel button (not shown) is pressed to start the drive motor and rotate the drive sprocket. This moves the drive chain, which moves the vacuum table and the copper-clad laminate it rests on to the right through the connecting links, and releases the switch from the on position as shown in Figure 3. open. When the switch is opened, two types of actions occur. First, slot seal piston 46 pulls slot seal 42 to a position below the vacuum table. Second, the positioning piston II is directed downwardly relative to the gap stop adjustment screw 20 and directs the coating liquid applicator 12 into the predetermined coating gap formed between the outlet opening 51 of the applicator slot and the copper-coated laminate soo. [Move downward toward rxJ. This coating gap is equal to or narrower than 1 cM. This is US Pat. No. 4,230,
This is in contrast to a curtain coating device, such as that shown in No. 793, in which the coating gap is much wider than 10, for example 103.

真空台が第4図で見て右へ動き続けるとスイッチBを押
す。そうすると3s類の動作が開始される。第1の動作
においては、変位ピストン34が動かされて、変位棒3
6を0リング40を通って迅速に動かし、被覆液体含有
室14の中に入れる。
When the vacuum table continues to move to the right as shown in Figure 4, press switch B. Then, the operation of type 3s is started. In the first operation, the displacement piston 34 is moved and the displacement rod 3
6 through the O-ring 40 and into the coating liquid containing chamber 14.

変位棒31iOストロークの長さは調節可能なねじスト
ップ37により制御される。被覆液体含有室14の内部
の液体の量の急激な減少によりひき起される液体の移動
により、被覆液体の正の波すなわち正パルスを生ずる。
The length of the displacement rod 31iO stroke is controlled by an adjustable screw stop 37. The movement of liquid caused by the sudden decrease in the amount of liquid inside the coating liquid-containing chamber 14 produces a positive wave or pulse of coating liquid.

その正パルスは被覆液体付着器スロットを急激に下降し
、被覆液体付着器リップにより形成された被覆液体付着
器スロットの出口開口部の表面から出て鋼被覆ラミネー
トの表面に轟シ、被覆液体付着器のリップとラミネート
の間に被覆液体の連結ビード66を形成する。
The positive pulse travels rapidly down the coating liquid appreciator slot, exits the surface of the exit opening of the coating liquid applicator slot formed by the coating liquid applicator lip, and slams onto the surface of the steel clad laminate, depositing the coating liquid. A connecting bead 66 of coating liquid is formed between the vessel lip and the laminate.

第4図に示すように、同時に、入口弁が開き、計量ポン
プが回転を開始して、制御された体積流量の被覆液体を
被覆流体付着器の中に入れた9、そこから出したシする
。プリント回路板の表面を動かすことによシ連結ビード
66が付着器リップから引き離された状態を保つことを
助けるために、連結ビード66の間にビード真空室68
によシ差圧を発生させることが好ましい。ビード真空室
68の使用は随意であるから、ビード真空室は第4図だ
けに示されている。それらの動作により、プリント回路
板の上に付着させられる被覆液体の鮮鋭かつ一様な付着
が開始させられる。
Simultaneously, the inlet valve opens and the metering pump begins to rotate to introduce a controlled volumetric flow rate of coating fluid into and out of the coating fluid applicator, as shown in FIG. . A bead vacuum chamber 68 is provided between the connecting beads 66 to help keep the connecting beads 66 separated from the applicator lip by moving the surface of the printed circuit board.
It is preferable to generate a differential pressure. Since the use of bead vacuum chamber 68 is optional, the bead vacuum chamber is only shown in FIG. These actions initiate a sharp and uniform deposition of coating liquid onto the printed circuit board.

比較的大きい正のパルスが採用されたとすると、第6図
を参照して後で述べるように、ピストンを直ちに引きこ
んで、連結ビードを壊すことなしに過剰な液体を吸いこ
むことができる。ピストンのこの振動作用によシまず正
パルスが発生され、次に負パルスが発生される。正と負
の振動パルスを順次便用することにより、パルス振幅(
被覆液体の体積変位)をより大きくすることができ、そ
れによシブリント回路板へ被覆液体を適切に連結できる
。とくに、被覆する速さと被覆間隙の少くとも一方が増
大させられた9、液体の乾燥していない時の厚さが薄く
されたりする場合にとくに、被覆液体のプリント回路板
への連結を適切に行うことができる。
If a relatively large positive pulse is employed, the piston can be immediately retracted to draw in excess liquid without breaking the connecting bead, as will be discussed later with reference to FIG. This oscillating action of the piston first generates a positive pulse and then a negative pulse. By sequentially using positive and negative vibration pulses, the pulse amplitude (
The volumetric displacement of the coating liquid can be larger, thereby providing a better connection of the coating liquid to the printed circuit board. Proper coupling of the coating liquid to the printed circuit board is particularly important when coating speed and/or coating gap are increased,9 or the wet thickness of the liquid is reduced. It can be carried out.

1個または複数のピストン34および変位棒36のよう
な1つまたは多数の変位ピストン組立体により振動パル
スを発生できる。更に、変位ピストンの位置を図示の位
置から変えることができる。
Vibration pulses can be generated by one or more displacement piston assemblies, such as one or more pistons 34 and displacement rods 36. Furthermore, the position of the displacement piston can be varied from the position shown.

液体の動力学が与えられると、ピストンおよびそれの体
積変位室を被覆液体付着器12の上流側に位置できるこ
と、および好ましくは大口弁32の下流側に位置でき、
しかも希望の正パルスと負パルスを発生できゐことがわ
かる。
Given the fluid dynamics, the piston and its volumetric displacement chamber can be located upstream of the coating fluid applicator 12 and preferably downstream of the mouth valve 32;
Furthermore, it can be seen that the desired positive and negative pulses can be generated.

一方の変位ピストン組立体の振動パルス動作が(正パル
スが最初で、次に負パルス)から(負パルスが最初で、
次に正パルス)へ逆にされたとすると、連結ビードを発
生する代りに、液体をまず被覆液体スロットの中に吸込
み、それから被覆液体を被覆液体付着器スロットの出口
開口部へ向って排出させることによp連結ビードが切離
されるが、連結ビードをプリント回路板へ再び連結する
ために十分でない。このようにして、被覆液体付着器ス
pツ)(D中には被覆液体が充され九ままにされ、それ
によル、被覆液体付着器のスロット内を流れる被覆液体
の流れが停止した時に、スロット内を上昇することがあ
る気泡をなくす。
Vibratory pulse motion of one displacement piston assembly from (positive pulse first, then negative pulse) to (negative pulse first,
Then, instead of generating a connecting bead, liquid is first sucked into the coated liquid slot and then the coated liquid is discharged towards the outlet opening of the coated liquid applicator slot. The p-connection bead is separated, but not enough to reconnect the connection bead to the printed circuit board. In this way, the coating liquid applicator (D) is left filled with coating liquid so that when the flow of coating liquid flowing through the slot of the coating liquid applicator stops, Eliminate air bubbles that may rise within the slot.

体積変位と、個々のパルスの持続時間と、パルスの振幅
と、正のパルスと負の)くルスの間の時間間隔とを調整
することによシ、被覆液体の連結ビードの形成と除去を
広い範囲で行うことができる。
By adjusting the volume displacement, the duration of the individual pulses, the amplitude of the pulses and the time interval between the positive and negative pulses, the formation and removal of interlocking beads of coated liquid can be achieved. It can be done in a wide range.

図示の一連の動作t−続けている閣に、真空台とラミネ
ートが右へ動くと、動的な湿らせる作用が生じ、それに
より、被覆液体付着器スロットの出口開口部から出る液
体が、第5図に示すように、ラミネートの表面へ一様な
厚さの層として連続して付着される。この層の厚さは第
1図に示されている前記した式によシ決定される。
Continuing the illustrated sequence of operations, as the vacuum table and laminate move to the right, a dynamic wetting action occurs, causing the liquid exiting the outlet opening of the coated liquid applicator slot to As shown in Figure 5, it is successively applied as a layer of uniform thickness to the surface of the laminate. The thickness of this layer is determined according to the above-mentioned formula shown in FIG.

真空台がスイッチCを押すまで被覆液体の付着は続けら
れる。スイッチCが閉じられると大口弁32が閉じ、計
量ポンプ2mは停止し、変位ピストン34が変位棒36
を被覆液体含有室から抜き出す。変位棒が被覆液体含有
室から抜き出されることによシその室の内部に一時的に
真空が発生されて負パルスが生じ、その負パルスによっ
て、第6図に示すように、被覆液体は被覆液体スロット
の中に急激に上昇させられる。それと同時に、第6図の
動き矢印により示されているように、位置ぎめピストン
が被覆液体付着器を間隙ストップへ向って引く。それら
の動作により被覆液体の連結ビードが急に壊され、プリ
ント回路板の表面(tたは基板表面)にきれいで鮮鋭な
端部を残す。最後に、第7図において、真空台がスイッ
チDを押すと駆動モータは回転を停止し、スロット封じ
ピストン46がスロット封じ器42を被覆液体付着器リ
ップ48に接触するまで上昇させる。そうすると真空台
52に加えられていた真空がなくなり、被覆されたプリ
ント回路板50を後の処理のために放すことができるよ
うになる。
Coating liquid deposition continues until the vacuum table presses switch C. When the switch C is closed, the large mouth valve 32 is closed, the metering pump 2m is stopped, and the displacement piston 34 is moved to the displacement rod 36.
is extracted from the coated liquid-containing chamber. As the displacement rod is withdrawn from the chamber containing the coating liquid, a vacuum is temporarily generated inside the chamber and a negative pulse is generated, which causes the coating liquid to evaporate as shown in FIG. The liquid is suddenly raised into the slot. At the same time, the positioning piston pulls the coated liquid applicator toward the gap stop, as indicated by the movement arrow in FIG. Their action abruptly breaks the interlocking beads of coating liquid, leaving clean, sharp edges on the surface of the printed circuit board (or substrate surface). Finally, in FIG. 7, when the vacuum table presses switch D, the drive motor stops rotating and the slot seal piston 46 raises the slot seal 42 until it contacts the coated liquid applicator lip 48. The vacuum applied to the vacuum table 52 is then removed and the coated printed circuit board 50 can be released for further processing.

たとえばプリント基板や集積回路基板のような基板に2
つ以上の層を重ね合わせた関係で付着させたいことが時
にある。各層は化学的に異ってもよく、また異なる機能
を発揮することもできる。
For example, on a board such as a printed circuit board or an integrated circuit board,
Sometimes it is desired to deposit more than one layer in a superimposed relationship. Each layer may be chemically different and may perform different functions.

各層を別々に被覆し、かつ別々に乾燥させる必要をなく
すために、第8図に概略が示されている予め計量された
多層「バッチ」被覆付着器を用いて、液体層を同時に基
板へ付着できる。第8図においては以@0図と同じ参照
番号を用いるが、それらの参照番号に文字aとbと付し
て2種類の被覆液体装置を示すことにする。被覆液体を
慎重に形成することにより、付着された層はほぼ別々か
つ明確に残る。この−括技術によシ歩留シ、生産性およ
び資本投下の面で十分な経済的利益が得られる。
To eliminate the need to coat and dry each layer separately, the liquid layers are simultaneously applied to the substrate using a pre-metered multi-layer "batch" coating applicator as schematically shown in Figure 8. can. In FIG. 8, the same reference numerals are used as in FIG. By carefully forming the coating liquid, the deposited layers remain substantially separate and distinct. This packaging technology provides significant economic benefits in terms of yield, productivity and capital investment.

被覆液体の連結ビードを、第3図で被覆液体付着器リッ
プ51の下側にプリント回路板50が到達する前に、正
パルスによシ形成できることがわかるであろう。この場
合に杜、ビードはまず真空台52へ連結され、それから
プリント回路板へ連結される。同様に、プリント回路板
が被覆液体付着器リップを通った後で、負パルスの発生
と、間隙距離XC)十分な拡大との少くとも一方を行う
ことによって連結ビードをなくすことができる。液体被
覆の連結ビードの形成と終了の間の任意の時刻に、連結
ビードが不連続になるか、壊されたとすると、正パルス
または振動性(正、次に負)の安定パルス(振幅性が好
ましい)によシそれらの問題を修正できる。安定パルス
の効果は、パルスの持続時間中に大口弁32を一時的に
閉じるか、被覆液体含有室の上flHに逆止め弁(図示
せず)を設けることによシ、支援できる。
It will be appreciated that a connecting bead of coating liquid can be formed by a positive pulse before the printed circuit board 50 reaches the underside of the coating liquid applicator lip 51 in FIG. In this case, the bead is first connected to the vacuum stage 52 and then to the printed circuit board. Similarly, after the printed circuit board has passed the coated liquid applicator lip, the connecting bead can be eliminated by generating a negative pulse and/or sufficiently widening the gap distance (XC). If at any time between the formation and termination of the connected bead of liquid coating, the connected bead becomes discontinuous or breaks, a positive pulse or an oscillatory (positive then negative) stable pulse (with amplitude (preferably) can fix those problems. The effect of a stabilizing pulse can be assisted by temporarily closing the port valve 32 during the duration of the pulse or by providing a check valve (not shown) above the coated liquid containing chamber flH.

説明のために、図にはプリント回路板50を1枚のプリ
ント回路板として示したが、複数のプリント回路板の被
覆を一括して行うことができるように、複数のプリント
回路板を真空台52の上に、好ましくは接触した関係で
、位置させることができることを理解すべきである。あ
るいは、対応するプリント回路板を送るために2つ以上
の真空台を採用できる。真空台の間の分離距離、したが
ってプリント囲路間の分離距離を最も狭くして被覆の不
連続を最少にすべきである。しかし、そのような不連続
は安定パルスにより修正できる。
For illustrative purposes, the printed circuit board 50 is shown as a single printed circuit board in the figure, but multiple printed circuit boards can be coated on a vacuum stand so that multiple printed circuit boards can be coated at once. 52, preferably in contacting relationship. Alternatively, two or more vacuum stands can be employed to feed the corresponding printed circuit boards. The separation distance between vacuum tables, and therefore between printing circuits, should be the narrowest to minimize discontinuities in coverage. However, such discontinuities can be corrected by stabilizing pulses.

次に第9図を参照する。ステップ1〜17は、プリント
回路板の製造に予め計量される「パッチ」被覆法をどの
ようにして使用できるかを、始めから終りまで示す絵画
的な概隆プロセス流れ図である。ステップ1においては
、第2〜8図を参照して説明した予め計量した「パッチ
」被覆法および装置を用いることによシ、銅被覆ラミネ
ートの表面へ液状フォトレジストを付着する。ステップ
2において、被覆したラミネートを乾燥器内へ移動させ
、その乾燥器においては加熱空気を用いて溶媒を蒸発さ
せることにより被覆を凝固させる。ステップ3では、乾
燥したラミネートを映像投写部へ移動させる。この映像
投写部ではマスクを通じてフォトレジストを選択的に露
光させる。ステップ4においては映像を露光したフォト
レジストに現像液を付着する。ステップ5においては、
熱と超音波を組合わせて用いて液状被覆を攪拌し、露光
されていないフォトレジストを現像剤で軟化し、銅被覆
ラミネートの表面から剥離する。それから、ステップ6
においてそのラミネートを洗浄部へ送り、そこでゆるく
され、軟化された未露光のフォトレジストを洗い流す。
Next, refer to FIG. Steps 1-17 are a pictorial overview process flow diagram showing from beginning to end how the pre-metered "patch" coating method can be used in the manufacture of printed circuit boards. In step 1, liquid photoresist is applied to the surface of the copper-coated laminate using the pre-metered "patch" coating method and equipment described with reference to FIGS. 2-8. In step 2, the coated laminate is transferred to a dryer where the coat is solidified by evaporating the solvent using heated air. In step 3, the dried laminate is moved to the image projection section. In this image projection section, the photoresist is selectively exposed through a mask. In step 4, a developer is applied to the photoresist exposed to the image. In step 5,
A combination of heat and ultrasound is used to agitate the liquid coating, and the unexposed photoresist is softened by the developer and stripped from the surface of the copper-coated laminate. Then step 6
The laminate is then sent to a cleaning station where the loosened and softened unexposed photoresist is washed away.

ステップ7においては、うぽネートを乾燥してから次の
ステップへ送る。
In step 7, the uponate is dried before being sent to the next step.

ステップ8においては、エツチング溶液を2Zネ一ト表
面に付着する。ステップ9においては、熱と超音波の組
合わせを再び用いることによシ、現像されたフォトレジ
スタにより保護されていないラミネートの鋼表面だけを
溶解する。それからステップ10においてラミネートの
溶解された銅と使用したエツチング溶液を洗い流し、次
にステップ11においてラミネートを完全に乾燥させる
In step 8, an etching solution is applied to the 2Z net surface. In step 9, a combination of heat and ultrasound is again used to melt only the steel surfaces of the laminate that are not protected by the developed photoresist. The laminate is then rinsed of the dissolved copper and the used etching solution in step 10, and then the laminate is completely dried in step 11.

ステップ12において化学的剥離剤を現像済みのフォト
レジストの上からラミネートの表面に付着する。ステッ
プ13においては、熱と超音波を組合わせて加えること
により、剥離剤は現像されているフォトレジストを軟化
させ、下の銅表面から浮きあがらせる。次にステップ1
4において、軟化して浮きあがっているフォトレジスト
を洗い流し、ステップ15においてはラミネートを再び
乾燥する。それから、このラミネートすなわち回路板を
ステップ16において寸法確度と電気的連続性を検査す
る。検査に合格したら、ステップ17において回路板を
ひつくり返えして、銅被覆ラミネートの別の面を露出さ
せる。それからラミネートの他の側の表面上の回路を形
成するために、ラミネートに対してステップ1〜16の
サイクルを再び始める。ステップ16における2回目の
検査を通ったら、完成した二重側面回路板を別の処理の
ために取出す。
In step 12, a chemical stripper is applied to the surface of the laminate over the developed photoresist. In step 13, by applying a combination of heat and ultrasound, the stripping agent softens the photoresist being developed and lifts it from the underlying copper surface. Next step 1
At step 4, the softened and lifted photoresist is washed away, and at step 15 the laminate is dried again. The laminate or circuit board is then tested for dimensional accuracy and electrical continuity in step 16. If the test passes, the circuit board is flipped over in step 17 to expose the other side of the copper clad laminate. The laminate is then cycled through steps 1-16 again to form the circuit on the other side of the laminate. After passing the second inspection in step 16, the completed double-sided circuit board is removed for further processing.

回路の製造法をステップ1〜17に示すように連続した
ラインとして動作させ、ステップ1,4゜8.12に予
め計量された「パッチ」被覆法を採用することにより、
生産性が現在の一括展造法よシ極めて高くなる。また、
作業人員が少いためにコストが大幅に低減され、回路板
の手による堆扱いが減少するために歩留りが高くなる。
By operating the circuit manufacturing method as a continuous line as shown in steps 1-17 and employing a pre-metered "patch" coating method in steps 1,4°8.12
Productivity will be much higher than the current batch expansion method. Also,
Costs are significantly lower due to fewer workers and yields are higher due to reduced manual handling of circuit boards.

この予め計量された「パッチ」被覆法によシ、必要な化
学物質の付着が効率的(制御されるために、化学物質の
使用量も減少する。要約すれば、プリント回路板製造用
の予め計量された「パッチ」被覆法によシ、現在の方法
よシも低コストで、効率的かつ生産性の高い製造法が得
られる。
This pre-metered "patch" coating method also reduces chemical usage due to efficient (controlled) deposition of the required chemicals. The metered "patch" coating method provides a low cost, efficient and highly productive manufacturing method compared to current methods.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は液体被覆変数の線図、第2図は液体被覆装置の
略図、第3図はプリント回路板と被覆液体付着器スロッ
トの出口開口部の間の位置関係を示す、1IXz図に示
す装置の別の概略表現、第4図は、プリント回路板のビ
ードの最初の付着を示す1lJ2図の被覆装置の別の概
略表面、第5図はプリント回路板への液状被覆の別の付
着を示す第2図の被覆装置の別の概略表現、第6図はプ
リント回路板への液状被覆の付着の終夛を示す第2図の
被覆装置の別の概略表現、第7図は被覆液体付着器スロ
ットの封じを示す第2図の被覆装置の別の概略表現、第
8図は281類の液体層の同時付着用の多層被覆装置の
概略表現、第9図はプリント回路板の製造法の概略表現
である。 10・・拳・被覆装置、12・・・・被覆液体付着器、
14・−・・液体含有室、16・・・・付着器スロット
、1a・・・・位置ぎめピストン、34・・・・変位ピ
ストン、36・・・・変位棒、51・・・・スロットの
出口開口部、5211I111・真空台、62・・・・
駆動組立体。 図面の浄″X!(内容に変更なし) 11860cm?min1 1610cm/デマ+in+(61cnnlx、2、
FIG. 1 is a diagram of the liquid coating variables; FIG. 2 is a schematic diagram of the liquid coating device; FIG. 3 shows the positional relationship between the printed circuit board and the outlet opening of the coating liquid applicator slot; Another schematic representation of the apparatus, FIG. 4 shows an initial deposition of a bead on a printed circuit board, another schematic surface of the coating apparatus of FIG. FIG. 6 is another schematic representation of the coating apparatus of FIG. 2 illustrating the final application of a liquid coating onto a printed circuit board; FIG. 7 is a schematic representation of the coating apparatus of FIG. Another schematic representation of the coating apparatus of FIG. 2 showing the closure of the container slot, FIG. 8 a schematic representation of a multilayer coating apparatus for simultaneous deposition of class 281 liquid layers, and FIG. It is a schematic representation. 10...Fist/coating device, 12...Coating liquid applicator,
14...Liquid containing chamber, 16...Appressor slot, 1a...Positioning piston, 34...Displacement piston, 36...Displacement rod, 51...Slot Exit opening, 5211I111/vacuum table, 62...
drive assembly. Cleaning of the drawing "X! (no change in content) 11860cm?min1 1610cm/hoax+in+(61cnnlx, 2,

Claims (31)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)A.液体含有室と出口開口部を有する液体付着器
スロツトとが液体で充されるように付着器スロツトへ流
体的に連結されている液体含有室へ液体源を流体的に連
結する過程と、 B.基板と付着器スロツトの出口開口部が互いに近接す
るように基板と液体付着器スロツトの出口開口部を動か
す過程と、 C.制御された体積流量の液体を液体源から液体含有室
へ送り、それから付着器スロツトへ送つて付着器スロツ
トの出口開口部に沿う各点から出る液体の一様な体積流
量を構成する過程と、 D.液体の前記制御される体積流量の送りの前、送りと
同時、または送りの後に形成される液体の連結ビードの
形成を制御するパルスを発生する過程と、 E.基板と付着器スロツトの出口開口部を互いに相対的
に動かして液体の単位面積当り制御される体積で液体の
一様な層を付着させる過程と、を備えることを特徴とす
る液体の単位面積当り制御された体積の液体の層を基板
に付着させることを特徴とする方法。
(1)A. fluidically coupling a liquid source to a liquid containing chamber, the liquid containing chamber being fluidly coupled to the applicator slot such that the liquid containing chamber and the liquid applicator slot having an outlet opening are filled with liquid; B. B. moving the substrate and the outlet opening of the liquid appreciator slot so that the outlet openings of the substrate and the applicator slot are in close proximity to each other; delivering a controlled volumetric flow rate of liquid from a liquid source to a liquid-containing chamber and thence to an appreciator slot to provide a uniform volumetric flow rate of liquid exiting each point along an exit opening of the appreciator slot; D. E. generating pulses that control the formation of connected beads of liquid that are formed before, simultaneously with, or after delivery of the controlled volumetric flow rate of liquid; E. moving the substrate and the outlet opening of the applicator slot relative to each other to deposit a uniform layer of liquid at a controlled volume per unit area of liquid. A method characterized in that a layer of liquid of controlled volume is deposited on a substrate.
(2)請求項1記載の方法において、液体の正パルスの
発生後に液体被覆の前記連結ビードを破壊することなし
に、付着器スロツトの出口開口部の中に流れこむ液体の
負パルスを発生する過程を更に備えることを特徴とする
方法。
2. The method of claim 1, wherein a negative pulse of liquid flows into the outlet opening of the applicator slot without disrupting the connecting bead of liquid coating after generation of the positive pulse of liquid. A method further comprising a step.
(3)請求項1記載の方法において、過程Aの後で付着
器スロツトの出口開口部を封じる過程と、液体が前記付
着器スロツトの出口開口部から出る前にその出口開口部
の封じを解く過程とを更に備えることを特徴とする方法
3. The method of claim 1, further comprising: sealing the outlet opening of the applicator slot after step A; and unsealing the outlet opening before the liquid exits the outlet opening of the applicator slot. A method further comprising a step.
(4)請求項1記載の方法において、付着器スロツトの
出口開口部は付着器のリツプにより構成され、付着器ス
ロツトの出口開口部から液体が出る前に前記リツプをき
れいにする過程を更に備えることを特徴とする方法。
4. The method of claim 1, wherein the outlet opening of the appreciator slot is constituted by a lip of the appressor, and further comprising the step of cleaning said lip before exiting the outlet opening of the appreciator slot. A method characterized by:
(5)請求項1記載の方法において、液体の前記連結ビ
ードの少くとも一部を移動させることにより前記パルス
を発生することを特徴とする方法。
5. The method of claim 1, wherein the pulse is generated by displacing at least a portion of the connected bead of liquid.
(6)請求項1記載の方法において、前記液体の出る流
量を一時的に制御することにより前記パルスを発生する
ことを特徴とする方法。
6. The method of claim 1, wherein the pulse is generated by temporarily controlling the flow rate of the liquid.
(7)請求項1記載の方法において、液体の前記層の領
域が基板の周縁部内にあるように前記層を基板に付着す
ることを特徴とする方法。
7. The method of claim 1, wherein the layer of liquid is deposited on a substrate such that the area of the layer is within the periphery of the substrate.
(8)請求項1記載の方法において、液体の前記層の領
域の少くとも一部が基板の周縁部をこえるように前記層
を基板に付着することを特徴とする方法。
8. The method of claim 1, wherein the layer of liquid is applied to a substrate such that at least a portion of the area of the layer extends beyond the periphery of the substrate.
(9)請求項1記載の方法において、基板が距離Xだけ
付着器スロツトの出口開口部から分離されるように基板
は付着器スロツトの出口開口部に近接し、過程C,D,
Eの間は前記分離距離を維持する過程を更に備えること
を特徴とする方法。
9. The method of claim 1, wherein the substrate is proximate to the outlet opening of the appreciator slot such that the substrate is separated from the outlet opening of the appreciator slot by a distance X;
The method further comprises the step of maintaining the separation distance during E.
(10)請求項1記載の方法において、前記基板は集積
回路の少くとも1つの素子を含むことを特徴とする方法
10. The method of claim 1, wherein the substrate includes at least one element of an integrated circuit.
(11)請求項10記載の方法において、液体の前記層
の領域が基板の周縁部内にあるように前記層を基板に付
着することを特徴とする方法。
11. The method of claim 10, wherein the layer of liquid is deposited on a substrate such that an area of the layer of liquid is within a periphery of the substrate.
(12)請求項10記載の方法において、液体の前記層
の一部が集積回路の前記少くとも1つの素子の少くとも
一部の上に重なり合うように前記層を基板に付着するこ
とを特徴とする方法。
12. The method of claim 10, wherein said layer of liquid is deposited on a substrate such that a portion of said layer of liquid overlies at least a portion of said at least one element of an integrated circuit. how to.
(13)請求項10記載の方法において、液体の前記層
の領域の少くとも一部が基板の周縁部をこえるように前
記層を基板に付着することを特徴とする方法。
13. The method of claim 10, wherein the layer of liquid is applied to a substrate such that at least a portion of the area of the layer extends beyond the periphery of the substrate.
(14)請求項10記載の方法において、液体はフオト
レジストであり、前記方法は、フオトレジストを乾燥す
る過程と、フオトレジストに映像を投射する過程と、ま
たはフオトレジストを選択的に硬化させる過程を更に備
えることを特徴とする方法。
(14) The method according to claim 10, wherein the liquid is a photoresist, and the method includes a step of drying the photoresist, a step of projecting an image onto the photoresist, or a step of selectively hardening the photoresist. A method further comprising:
(15)請求項1記載の方法において、液体の被覆の連
結ビードの形成前に前記相対的な動きを開始することを
特徴とする方法。
15. The method of claim 1, wherein said relative movement is initiated prior to formation of an interlocking bead of liquid coating.
(16)請求項1記載の方法において、液体の被覆の連
結ビードの形成と同時に前記相対的な動きを開始するこ
とを特徴とする方法。
16. The method of claim 1, wherein said relative movement is initiated simultaneously with the formation of an interlocking bead of liquid coating.
(17)請求項1記載の方法において、液体の被覆の連
結ビードの形成後に前記相対的な動きを開始することを
特徴とする方法。
17. The method of claim 1, wherein said relative movement is initiated after formation of an interlocking bead of liquid coating.
(18)請求項1記載の方法において、基板を平らにさ
れた形で付着器スロツトの出口開口部に近接して位置さ
せることを特徴とする方法。
18. The method of claim 1, further comprising positioning the substrate in a flattened form proximate the outlet opening of the applicator slot.
(19)請求項1記載の方法において、液体含有室とと
もに閉じた系を形成するために液体源を液体含有室へ流
体的に連結することを特徴とする方法。
19. The method of claim 1, further comprising fluidly coupling a source of liquid to the liquid-containing chamber to form a closed system with the liquid-containing chamber.
(20)請求項1記載の方法において、過程Eにおいて
、基板と付着器スロツトの出口開口部の間の相対的な動
きの継続後に、基板の被覆されていない部分へ向かう液
体被覆連結ビードの側に低い圧力が存在するように、液
体被覆連結ビードを横切つて差圧を発生する過程を更に
備えることを特徴とする方法。
20. The method of claim 1, wherein in step E, after continued relative movement between the substrate and the outlet opening of the applicator slot, the side of the liquid-coated interlocking bead toward the uncoated portion of the substrate. The method further comprises the step of creating a pressure differential across the liquid-coated connecting bead such that a lower pressure is present at the interface.
(21)請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,
10,11,12,13,14,15,16,17,1
8,19または20記載の方法において、基板が距離X
だけ付着器スロツトの出口開口部から分離されるように
基板は付着器スロツトの出口開口部に近接し、液体と基
板の間の距離がXより広いように、付着器スロツトの出
口開口部に対して基板を動かすことにより、基板と液体
の接触を終らせる過程を更に備えることを特徴とする方
法。
(21) Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9,
10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 1
8, 19 or 20, wherein the substrate is at a distance
The substrate is close to the outlet opening of the appreciator slot so that it is separated from the outlet opening of the appreciator slot by The method further comprises the step of terminating the contact between the substrate and the liquid by moving the substrate.
(22)請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,
10,11,12,13,14,15,16,17,1
8,19または20記載の方法において、液体源から液
体含有室への液体の制御されている体積流量の送りを終
らせることにより基板への液体の流れを終らせる過程を
更に備えることを特徴とする方法。
(22) Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9,
10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 1
8, 19, or 20, further comprising the step of terminating the flow of liquid to the substrate by terminating the delivery of a controlled volumetric flow of liquid from the liquid source to the liquid-containing chamber. how to.
(23)請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,
10,11,12,13,14,15,16,17,1
8,19または20記載の方法において、液体源から液
体含有室への液体の制御される体積流量の送りを終らせ
ることにより基板への液体の流れを終らせ、液体含有室
の一部分内に真空を一時的に生じさせるために液体の負
パルスを発生することにより、付着器スロツトの出口開
口部と基板を連結する液体ビードを基板から除く過程を
更に備えることを特徴とする方法。
(23) Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9,
10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 1
8, 19, or 20, wherein the flow of liquid to the substrate is terminated by terminating the delivery of a controlled volumetric flow of liquid from a liquid source to the liquid-containing chamber, and a vacuum is created within a portion of the liquid-containing chamber. The method further comprises the step of removing from the substrate a bead of liquid that connects the outlet opening of the applicator slot and the substrate by generating a negative pulse of liquid to temporarily cause a .
(24)請求項23記載の方法において、負パルスの発
生後に、基板への液体被覆のビードを再び連結すること
なしに、付着器スロツト内の液体を付着器スロツトの出
口開口部へ向つて流させる液体の正パルスを発生する過
程を更に備えることを特徴とする方法。
24. The method of claim 23, wherein after generation of the negative pulse, the liquid in the appreciator slot is flowed toward the outlet opening of the applicator slot without reconnecting the bead of liquid coating to the substrate. The method further comprises the step of generating a positive pulse of liquid that causes
(25)請求項1,2,3,4,5,6,7,8,9,
10,11,12,13,14,15,16,17,1
8,19または20記載の方法において、nを少くとも
1として、過程(A)〜(E)をn回繰返えす過程を更
に備えることを特徴とする方法。
(25) Claims 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9,
10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 1
8, 19 or 20, the method further comprising repeating steps (A) to (E) n times, where n is at least 1.
(26)請求項9記載の方法において、過程Eの前に距
離xを変えることを特徴とする方法。
(26) The method according to claim 9, characterized in that before step E, the distance x is changed.
(27)請求項9記載の方法において、過程Eの前に距
離xを大きくすることを特徴とする方法。
(27) The method according to claim 9, characterized in that before step E, the distance x is increased.
(28)請求項9記載の方法において、過程Eの前に距
離xを小さくすることを特徴とする方法。
(28) The method according to claim 9, characterized in that before step E, the distance x is reduced.
(29)請求項9記載の方法において、付着器スロツト
の出口開口部から流れ出る液体の正パルスを発生するこ
とにより前記液体ビードの形成を制御することを特徴と
する方法。
29. The method of claim 9, further comprising controlling the formation of the liquid bead by generating positive pulses of liquid flowing out of the outlet opening of the applicator slot.
(30)請求項1記載の方法において、付着器スロツト
の出口開口部から流れ出る液体の負パルスを発生するこ
とにより前記液体ビードの形成を制御することを特徴と
する方法。
30. The method of claim 1, further comprising controlling the formation of said liquid bead by generating a negative pulse of liquid flowing out of an outlet opening of an applicator slot.
(31)請求項5記載の方法において、前記基板に衝撃
を加えることにより前記液体ビード前記部分を移動させ
ることを特徴とする方法。
31. The method of claim 5, wherein the portion of the liquid bead is moved by applying an impact to the substrate.
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