JPH046151Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （考案の技術分野） 本考案は、例えば半導体ウエハなどのワーク
（被加熱体）に有機膜あるいはリキツド膜等をベ
ーキング処理形成するに用いられる真空加熱装置
の改良に関する。

（従来の技術） 一般に、例えばCuなどの電極を有するウエハ
のコーテイング膜のベーキングの際には、ワーク
を真空雰囲気中で加熱し、ベーキング処理を施す
ことが行なわれている。

従来、この種のワークのベーキング処理に用い
られる真空加熱手段としては、シーズヒータを加
熱源とし、このシーズヒータに対してワークを宙
吊り状態で加熱し得るようにしてなる構成を有す
るものがある。

（考案が解決しようとする問題点） しかしながら、このような従来の真空加熱手段
では、ワークが加熱源に対して宙吊り状態の離間
した位置で加熱冷却されることから、真空雰囲気
中での加熱冷却効率が非常に悪く、特にワークの
冷却に手間が掛かるといつた問題があつた。

（考案の目的） 本考案は、上記の事情のもとになされたもの
で、その目的とするところは、真空雰囲気中での
冷却効率を高め得るようにした真空加熱装置を提
供することにある。

（問題点を解決するための手段） 上記目的を達成するために、本考案において
は、真空容器本体内に被加熱体を加熱源に対して
宙吊り状態で配置し、真空雰囲気中で加熱冷却処
理を行なう真空加熱装置を前提構成として、前記
加熱源は、互いに並列配置された複数本のシーズ
ヒータからなり、これら各々のシーズヒータに、
前記冷却媒体である複数本の冷却パイプを長手方
向に沿つて２点接触状態で配置し、前記冷却パイ
プ側に反射板となる波形の支持部材を配置して、
この波形の支持部材の谷部に各々の冷却パイプを
嵌め合わせて位置決めすると共に前記シーズヒー
タ側にクランプ材を配置して、これら波形の支持
部材とクランプ材とによりシーズヒータと冷却パ
イプとを狭持固定した構成を特徴とする真空加熱
装置を提案するものである。

（作用） すなわち、本考案は、上記の構成とすることに
よつて、加熱源としてのシーズヒータに対して長
手方向に沿つて２点接触状態で配置した冷却パイ
プが加熱源に直接接触していることにより真空雰
囲気中でも、より高い効率で冷却作用を遂行す
る。又、この冷却パイプとシーズヒータとは、そ
の一方の側、すなわち冷却パイプ側に配置した反
射板となる波形の支持部材と、他方の側、すなわ
ちシーズヒータ側に配置したクランプ材とより狭
持固定されるので、配管系の剛性が高められると
共に部材相互の位置精度もより確実になり、更に
は支持部材が反射板として作用するので、その輻
射熱による反射効果で加熱効率も向上するもので
ある。

（実施例） 以下、本考案を図示の一実施例を参照しながら
詳細に説明する。

第１図は、本考案に係る真空加熱装置の全体構
成を概略的に示すもので、図中１は図示しない真
空ポンプで減圧Vacされる減圧室を構成する一側
端が開口した固定枠体である。この固定枠体１の
開口端１ａ側には、移動架台２上に設置された真
空容器本体３の開口端３ａが衝合状態で密着可能
に配置され、この真空容器本体３の移動で、後述
する被加熱体であるワークＷの配置作業及び取り
出し作業が円滑に行なえるようになつているとと
もに、これら固定枠体１と真空容器本体３とで囲
繞形成される空間を真空雰囲気４としている。そ
して、この真空雰囲気４中の中央部には、支持台
５が配置され、この支持台５上には、例えば半導
体ウエハなどのワークＷが宙吊り状態で載置され
るようになつている。また、前記支持台５の上方
には、第２図に示すように、前記ワークＷの表面
を加熱する加熱源である複数本のシーズヒータ６
……が互いに所定の間隔を存して平行に並列配置
され、これら各々のシーズヒータ６……の間に
は、冷却媒体となる複数本の冷却パイプ７……が
配置されているとともに、前記２本のシーズヒー
タ６，６間に１本の冷却パイプ７が長手方向に２
点接触し得るように交互に並列させて配置されて
いる。

すなわち、上記各々のシーズヒータ６……及び
冷却パイプ７……を互いに固定するにおいては、
前記各々の冷却パイプ７……を熱反射板となる波
形の支持部材８の片側内面の谷部８ａ……にそれ
ぞれ嵌め合せて位置決めし、かつ前記各々の冷却
パイプ７……間にシーズヒータ６……を２点接触
状態で配置した後、これらシーズヒータ６……の
下側をクランプ材９で支持し、さらに前記各々の
冷却パイプ７……に予め溶接等により固着された
スタツドボルト１０……を介してナツト１１……
により締結することによつて、挾持固定してなる
構成となつているもので、このように波形の支持
部材８とクランプ材９とで挾持固定することによ
り、支持部材８による輻射熱の反射効果で加熱効
率を向上させ、しかも真空雰囲気４内にワークＷ
と共に宙吊り状態で突出させるように配置される
配管系の剛性を高め、強固な支持状態を得るよう
にしているのみならず、シーズヒータ６……及び
冷却パイプ７……同志の位置決めを精度良く確実
に行なうことを可能にしている。

なお、図中１２は前記冷却パイプ７……内に冷
却媒体となる冷却水または冷却ガス等を前記固定
枠体１側から循環供給する配管部、１３は前記シ
ーズヒータ６への配線部である。また、図中１４
は前記真空容器本体３の外周に設置された通常の
外部からの冷却を行なうようにした冷却装置であ
る。

さらに、第３図及び第４図は本考案に係る他の
実施例を示すもので、第３図に示すものは、１本
のシーズヒータ６に２本の冷却パイプ７，７を２
点接触状態で配置し、これらをユニツトとして並
列配置してなる構成を有するもので、これによつ
て、上記した実施例のように、１本の冷却パイプ
７に２本のシーズヒータ６，６を２点接触させた
ものよりもシーズヒータ６の冷却効率を高めると
同時に、過度の熱交換による冷却パイプ７内での
スチームの発生を防止することを可能にし得るよ
うになつており、また、第４図に示すものは、波
形の支持部材８の上下両面側の谷部８ａ，８ｂに
冷却パイプ７……を配置するとともに、前記ワー
クＷの上下両面側から加熱冷却が可能なように、
ワークＷに対して上下対称位置に配置してなる構
成を有するものである。

ところで、上記した冷却パイプ７は、第２図及
び第３図に示す実施例おいて、加熱時には空洞と
なつており、冷却時にのみ冷却媒体を供給してな
るものであり、また、第４図に示す実施例におい
ては、ワークＷに対して外側に位置する冷却パイ
プに、加熱時においても冷却媒体を供給すること
が可能である。

なお、本考案は、上記の実施例には限定され
ず、本考案の要旨を変えない範囲で種々変更実施
可能なことは勿論である。

（考案の効果） 以上の説明から明らかなように、本考案によれ
ば、冷却媒体としての冷却パイプを加熱源として
のシーズヒータに対して長手方向に沿つて２点接
触状態で配置したので、真空雰囲気中であつても
加熱源の冷却を速やかに行なうことができ、しか
も冷却パイプとシーズヒータとを、その一方の側
に配置した反射板となる波形の支持部材と、他方
の側に配置したクランプ材とにより狭持固定する
ようにしたので、配管系の剛性が高められ、部材
相互の位置決め精度もより確実になると共に、支
持部材が反射板として作用するので、その輻射熱
の反射効果で加熱効率を向上させることができる
等、種々の実用的効果を奏するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る真空加熱装置の一実施例
を示す概略的断面図、第２図−線に沿つて見
た要部拡大縦断面図、第３図及び第４図は本考案
に係る他の二つの実施例を示すそれぞれ要部拡大
縦断面図である。 ３……真空容器本体、４……真空雰囲気、６…
…加熱源（シーズヒータ）、７……冷却媒体（冷
却パイプ）、Ｗ……ワーク。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空容器本体内に被加熱体を加熱源に対して
   宙吊り状態で配置し、真空雰囲気中で加熱冷却
   処理を行なう真空加熱装置であつて、前記加熱
   源は、互いに並列配置された複数本のシーズヒ
   ータからなり、これら各々のシーズヒータに、
   前記冷却媒体である複数本の冷却パイプを長手
   方向に沿つて２点接触状態で配置し、前記冷却
   パイプ側に反射板となる波形の支持部材を配置
   して、この波形の支持部材の谷部に各々の冷却
   パイプを嵌め合わせて位置決めすると共に前記
   シーズヒータ側にクランプ材を配置して、これ
   ら波形の支持部材とクランプ材とによりシーズ
   ヒータと冷却パイプとを狭持固定したことを特
   徴とする真空加熱装置。 (2) 前記波形の支持部材の両面側谷部に冷却パイ
   プをそれぞれ嵌め合わせ位置決め可能に配置し
   てなる実用新案登録請求の範囲第１項に記載の
   真空加熱装置。 (3) 前記加熱源及び冷却媒体を被加熱体の片面に
   配置した実用新案登録請求の範囲第１項又は第
   ２項に記載の真空加熱装置。 (4) 前記加熱源及び冷却媒体をそれぞれ被加熱体
   の両面に対して対称的に配置した実用新案登録
   請求の範囲第１項又は第２項に記載の真空加熱
   装置。