JPH0457236A - 光磁気ディスク用表面保護コート剤の硬化方法および光磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光磁気ディスク用表面保護コート剤を重合硬化
させる方法およびその方法により硬化させた表面保護コ
ート層を有する光磁気ディスクに関する。

［従来の技術］ 光磁気ディスクはその表面保護などを目的として表面保
護コート剤をコーティングしている。この表面保護コー
ト剤として光重合性樹脂、とくに紫外線重合性樹脂組成
物が使用され、これをスピンコードなどの方法により光
磁気ディスクの表面にコートし、光硬化させることによ
って表面保護コート剤として使用している。

二の表面保護コート剤としては一般に（メタ）アクリル
酸エステル誘導体が主として使用されているが、この（
メタ）アクリル酸エステル誘導体の場合は空気雰囲気下
でスピンコード塗膜を硬化させる方法が従来の一般的な
方法であった。

しかし空気雰囲気下で硬化させた場合、空気中の酸素に
より（メタ）アクリル酸エステル誘導体の重合反応が阻
害され、塗膜の均一な重合反応か進行せず、目的とする
表面の保護効果が十分に発揮されないことが判明してき
た。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、光磁気ディスクの表面保護コート剤を均一に
重合硬化させる方法を提供しようとするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った
。その結果、光磁気ディスク用表面保護コート剤を重合
硬化させる方法において、不活性ガス雰囲気下、温度１
００℃以下、湿度２０％ＲＨ以下で紫外線を照射し重合
硬化させることによって塗膜全体を均一に重合させ得る
本発明に到達した。

すなわち、スピンコードによりディスク上に塗布された
紫外線重合性組成物（表面保護コート剤）を、空気に対
して５０〜１００％の置換率の不活性ガス雰囲気中にお
いて紫外線を照射し重合させることにより塗膜全体を均
一に硬化させ、目的とする表面物性を発現させることが
できることを見出だした。この目的とする表面物性とは
、光磁気ディスク基盤表面の耐擦傷性の向上を目的とし
た表面硬度の向上であり、具体的にはコート剤が均一に
重合した状態で、ＨＢから３Ｈ程度の鉛筆硬度であるこ
とが好ましい。

本発明において不活性ガス雰囲気下とは空気に対する不
活性ガスの置換率が５０〜ＩＯＱ％である状態をいう。

この不活性ガスとして窒素ガスまたは０属希ガス、ある
いはこれらの非反応ガス中の湿度が１０％ＲＨ以下のも
のが望ましい。これは空気に対して５０％の体積置換率
とした場合の湿度が２０％ＲＨ以下となるように調整す
るためである。この不活性ガスと空気との置換において
、置換率が５０％以下の場合、残存空気中の酸素によっ
て重合反応が表面近傍で阻害され、塗膜は均一に重合せ
ず、耐擦傷性および表面硬度の低下、未硬化成分による
表面の汚染などが起こり、目的とする表面物性を発現さ
せることが困難である。

また湿度が２０％ＲＨ以上では、表面近傍が硬化する際
に水分を塗膜表面に取り込んでしまい、十分な硬度が発
揮されない。

本発明で用いる表面保護コート剤は、従来一般に用いら
れている（メタ）アクリル酸エステル誘導体などの紫外
線重合性樹脂組成物である。

本発明の光磁気ディスク用表面保護コート剤を紫外線重
合硬化させる方法において使用される紫外線の線源とし
ては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯。

あるいはメタルハライドランプ等が使用できる。

これらの線源により紫外線重合を不活性ガス雰囲気下で
行う。空気との置換には置換効率などから不活性ガス置
換用セルを用いる方法が好ましいが、紫外線重合を効率
よく進行させるために、セルの紫外線照射面が石英ガラ
スから構成されているものか好ましい。これは光線透過
率が通常の青板ガラスよりも石英ガラスのほうが高いた
めである。

以上のようにして、不活性ガス雰囲気下で光磁気ディス
ク用表面保護コート剤を紫外線重合硬化させるのである
が、このときのディスク表面の温度を１００℃以下に保
つことか重要である。

１００℃以上では光磁気ディスクの反り、変形などが生
じるため好ましくない。

［発明の効果コ 本発明の方法により硬化された紫外線重合組成物は、従
来のものより優れた表面物性を有するため、光磁気ディ
スク表面の保護効果が高い。

［実施例］ 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない
。

実施例１ 光磁気ディスク用表面保護コート剤のベースレジンとし
てビスフェノールへ−エポキシアクリレート４０％、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート３０％、ジエチレ
ングリコールジアクリレート２０％、１．６−ヘキサン
ジオールジアクリレート１０％を配合し、全量１０００
ｇに調製し、これに対して５％の１−ヒドロキシシクロ
へキシルフェニルケトンを添加して、紫外線重合性表面
保護コート剤を構成した。

この表面保護コート剤を５．２５インチのポリカーボネ
ート製光磁気ディスク上に３００　Ｏｒｐｍで５秒間ス
ピンコードし、塗膜を形成した。

次いで、このディスクをガス導入部を設けた内容積３７
２ｍ１の石英ガラス製シャーレに入れ、露点−７０℃の
窒素ガスを導入し、容器内の窒素置換率を９８．５％に
した。こののち出力１２０Ｗの高圧水銀灯を用いて５秒
間紫外線露光した。

このときの紫外線量は、波長３６５ｎｍの積算照度とし
て４３０　ｍ　Ｊ　／　ｃ　ｍ　２であった。また紫外
線照射中のディスク表面の温度は３０℃であった。

この測定はディスク表面に熱電対センサーを張り付けて
行った。

二のようにして表面に表面保護コート層を有する光磁気
ディスクについて加速耐久性試験を行い、試験後の光磁
気ディスク表面の顕微鏡観察、鉛筆硬度の測定を行った
。結果を表１に示す。

なお各試験は次ぎの要領で行った。

加速耐久性試験：温度８０℃、湿度８０％ＲＨの環境に
２０００時間放置し た。

顕微鏡観察；偏光顕微鏡を用いて観察を行った。表面の
汚染が認められ たものを×、認められなかっ たものをＯとした。

鉛　筆　硬　度、ＪＩＳ　　Ｋ−６９１１にしたがって
測定した。

実施例２ 実施例１で調製した表面保護コート剤を用いて同様にス
ピンコードを行い、ディスクを石英ガラスシャーレに入
れた。容器内に露点−７０℃の窒素ガスを導入し、体積
置換率を５２％としたのち、実施例１と同様に紫外線露
光を行った。この後実施例１と同様の試験を行った。結
果を表１に示す。

比較例１ 実施例１で調製した表面保護コート剤を用いて同様にス
ピンコードを行い、ディスクを石英ガラスシャーレに入
れた。容器内に窒素ガスを導入し、置換率を４０％とし
たのち、実施例１と同様に紫外線露光を行った。この後
実施例１と同様の試験を行った。結果を表１に示す。

比較例２ 実施例１で調製した表面保護コート剤を用いて同様にス
ピンコードを行い、ディスクを石英ガラスシャーレに入
れた。容器内には窒素ガスを導入せずに置換率を０％と
し、湿度７０％ＲＨの空気雰囲気のままで実施例１と同
様に紫外線露光を行った。この後実施例１と同様の試験
を行った。結果を表１に示す。

表

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）光磁気ディスク用表面保護コート剤を重合硬化さ
   せる方法において、不活性ガス雰囲気下、温度１００℃
   以下、湿度２０％ＲＨ以下で紫外線を照射し重合硬化さ
   せることを特徴とする光磁気ディスク用表面保護コート
   剤の硬化方法。
2. （２）光磁気ディスク用表面保護コート剤を重合硬化さ
   せる方法において、使用する不活性ガスが窒素ガスまた
   は０属希ガスであることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項記載の光磁気ディスク用表面保護コート剤の硬化方
   法。
3. （３）光磁気ディスク用表面保護コート剤を重合硬化さ
   せる方法において、使用する不活性ガスの湿度が１０％
   以下であることを特徴とすする特許請求の範囲第１項記
   載の光磁気ディスク用表面保護コート剤の硬化方法。
4. （４）光磁気ディスク用表面保護コート剤を不活性ガス
   雰囲気下で重合硬化させる方法において、不活性ガスと
   空気との体積置換率が５０〜１００％であることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気ディスク用表
   面保護コート剤の重合硬化方法。
5. （５）光磁気ディスク用表面保護コート剤を紫外線重合
   硬化させる方法において、紫外線線源が高圧水銀灯、超
   高圧水銀灯、メタルハライドランプであることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の光磁気ディスク用表面
   保護コート剤の重合硬化方法。
6. （６）光磁気ディスク用表面保護コート剤を紫外線重合
   硬化させる方法において、紫外線照射面が石英ガラスか
   ら構成された不活性ガス置換用セルを用いることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の光磁気ディスク用表
   面保護コート剤の重合硬化方法。
7. （７）特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれかに記載
   の光磁気ディスク用表面保護コート剤の硬化方法により
   表面保護コートした光磁気ディスク。