JPH0455079A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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Publication number
JPH0455079A
JPH0455079A JP2164227A JP16422790A JPH0455079A JP H0455079 A JPH0455079 A JP H0455079A JP 2164227 A JP2164227 A JP 2164227A JP 16422790 A JP16422790 A JP 16422790A JP H0455079 A JPH0455079 A JP H0455079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
workpiece
work
temp
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2164227A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Umemura
孝 梅村
Kanehito Matsushita
松下 兼人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba FA Systems Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba FA Systems Engineering Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba FA Systems Engineering Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2164227A priority Critical patent/JPH0455079A/ja
Publication of JPH0455079A publication Critical patent/JPH0455079A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザ加工装置に関する。
(従来の技術) 従来のレーザ加工装置の一例を示す第4図において、レ
ーザ発振器1から出射されたレーザ光2は1図示しない
伝送路の反射ミラー3で下方に反射され、図示しない集
光部に収納された集光レンズ4で集光されて図示しない
テーブル上のワーク5に照射される。
そして、ワーク5に照射されるレーザ出力を変えるとき
には、図示しないレーザ制御部でレーザ発振器1から出
射されるレーザ光の出力を制御し、また、ワーク5に照
射されるレーザ光2の集光径を変えるときには、集光レ
ンズ4とワーク5との距離を変えて対応している。
(発明が解決しようとする問題点) ところが、このように構成されたレーザ加工装置におい
ては、もし、ワーク5のレーザ光照射部の表面状態が、
あらかじめ条件設定用の試験片で設定した値と異なると
、加工中にワーク5のレーザ光2の照射部のレーザ光の
吸収率が変化、加工品質がばらつくおそれがある。
すなわち、ワーク5の表面の汚れや、錆などで、もし1
反射率が試験片と異なると、レーザ光2の吸収率が変化
する。
その結果、同一ロンドで加工されたワーク5でも、加工
状態が変化する。
そこで1本発明の目的は、ワークの表面状態の如何にか
かわらず、均一な加工を施すことのできるレーザ加工装
置を得ることである。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段と作用)本発明は、レー
ザ発振器から出射されたレーザ光を集光レンズで集光し
てワークを加工するレーザ加工装置において、ワーク又
はワークの近傍に設けられワーク又はワーク近傍の温度
を検出しその温度に対応する信号を出力する温度検出部
と、この温度検出部から入力された信号とあらかじめ与
えられた測定温度に対応するレーザ出力の値を比較して
、その結果をレーザ制御部に出力する中央制御部を設け
ることで、ワークの表面状態の如何にかかわらず常に均
一な加工を行うことのできるレーザ加工装置である。
(実施例) 以下、本発明のレーザ加工装置の一実施例を図面を参照
して説明する。但し、第4図と重複する部分は省く。
第1図は、本発明のレーザ加工装置を示す図である。
同図において、集光レンズ4が収納された加工ヘッド6
の下端には、検呂部が下側に設けられた温度測定器8が
設けられ、この温度測定器8の出力側は、別置の中央制
御装置10の入力側に接続されている。
また、この中央制御装置10には、キーボード11の出
力側が接続され、中央制御装置10の出力側にはレーザ
制御部7の入力側が接続され、更に、このレーザ制御部
の出力側はレーザ発振器1に接続されている。
このように構成されたレーザ加工装置においては、まず
、温度測定器8は、レーザ加工中にレーザ光2で溶融ま
たは加熱されたワーク5の近傍の温度を検出し、その結
果を中央制御装置10に出力する。
すると、中央制御装置10では、キーボード11から入
力されたレーザ出力値と比較して、検出温度を補正する
ためのレーザ出力の補正値を第2図のグラフで示すよう
に測定温度に対応して算出して、その結果をレーザ制御
部7に出力する。
レーザ制御部7では、入力された補正信号から、レーザ
発振器1にレーザ駆動補正信号を出力して、レーザ発振
器1の出力を補正する。
第3図は、このように構成されたレーザ加工装置の動作
のフローチャートを示す図である。
同図において、まず、ステップ14では、キーボード1
1から中央制御装置10にワーク5を加工するために必
要な温度に対するレーザ出力を設定して中央制御装置1
0に入力する。
次に、ステップ15では、中央制御装置10から加工に
応じた指令信号をレーザ制御部7に出力する。
すると、レーザ制御部7では、この指令信号からレーザ
駆動信号を形成して、それをレーザ発振器1に出力する
次に、ステップ16で温度測定器8から加工中の測定温
度が中央制御装置10に伝送されると、ステップ17で
は第3図で与えられる測定温度に対するレーザ出力を決
定して出力し、ステップ18では。
ステップ17で与えられたレーザ出力を出力するための
指令信号を形成して、レーザ制御部7に出力される。
すると、レーザ制御部7では、この指令信号からレーザ
駆動信号を形成して、それをレーザ発振器1に出力し、
レーザ発振器1はそのレーザ駆動信号に対応して補正さ
れたレーザ出力゛を出射する。
次に、ステップ19では、レーザ加工が続行している間
は次の測定温度を読むためにステップ16に戻り、加工
が完了していれば終了となる。
この結果、ワーク5の加熱温度が、もし、あらかじめ試
験片で設定された温度にレーザ出力を補正することで、
所定の温度範囲に加熱することができるので、ワークの
表面状態の如何にかかわらず、常に均一な加工を行うこ
とのできるし、−ザ加工装置となる。
なお、上記実施例においては、第1図において中央制御
装置10とレーザ制御部7を独立要素とした例で説明し
たが、中央制御装置10の内部にレーザ制御部7の機能
を設けてもよく、また、入力部としてキーボード11を
設けた例で説明したが、入力データが記憶されている外
部記憶装置などでもよい。
更に、第1図のように、温度測定器8を加工ヘッド6に
取付けた例で説明したが、ワーク5の下部に設けて、ワ
ーク5の温度を検出してもよい。
〔発明の効果〕
以上、本発明によれば、レーザ発振器から出射されたレ
ーザ光を集光ミラーで集光してワークを加工するレーザ
加工装置において、ワーク又はワークの近傍に設けられ
ワーク又はワーク近傍の温度を検出しその温度に対応す
る信号を出力する温度検出部と、この温度検出部から入
力された信号とあらかじめ与えられた測定温度に対応す
るレーザ出力の値を比較して、その結果をレーザ制御部
へ出力する中央制御部を設けたので、ワークの表面状態
の如何にかかわらず、常に均一な加工を行うことのでき
るレーザ加工装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のレーザ加工装置の一実施例を示す図、
第2図は本発明のレーザ加工装置の作用を示すグラフ、
第3図は本発明のレーザ加工装置の動作を示すフローチ
ャート、第4図は従来のレーザ加工装置を示す図である
。 1・・・レーザ発振器 2・・・レーザ光 4・・・集光レンズ 5・・・ワーク 7・・・レーザ制御部 8・・・温度測定器 10・・・中央制御装置 11・・・キーボード (8733)代理人弁理士 猪 股 祥 晃(ほか1名
)茅 2rgJ * 4 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 レーザ発振器から出射されたレーザ光を集光レンズで集
    光してワークを加工するレーザ加工装置において、 前記ワーク又はワークの近傍に設けられ前記ワーク又は
    ワークの近傍の温度を検出しその温度に対応する信号を
    出力する温度検出部と、この温度検出部から入力された
    信号とあらかじめ与えられた測定温度に対応するレーザ
    出力の値を比較してその結果をレーザ制御部に出力する
    中央制御部を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
JP2164227A 1990-06-25 1990-06-25 レーザ加工装置 Pending JPH0455079A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2164227A JPH0455079A (ja) 1990-06-25 1990-06-25 レーザ加工装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP2164227A JPH0455079A (ja) 1990-06-25 1990-06-25 レーザ加工装置

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JPH0455079A true JPH0455079A (ja) 1992-02-21

Family

ID=15789089

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JP2164227A Pending JPH0455079A (ja) 1990-06-25 1990-06-25 レーザ加工装置

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JP (1) JPH0455079A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0832226A (ja) * 1994-07-21 1996-02-02 Nec Gumma Ltd レーザーリフロー装置及び方法
US6455807B1 (en) 2000-06-26 2002-09-24 W.A. Whitney Co. Method and apparatus for controlling a laser-equipped machine tool to prevent self-burning
JP2008177307A (ja) * 2007-01-17 2008-07-31 Toyota Motor Corp 半導体素子の配線接合方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0832226A (ja) * 1994-07-21 1996-02-02 Nec Gumma Ltd レーザーリフロー装置及び方法
US6455807B1 (en) 2000-06-26 2002-09-24 W.A. Whitney Co. Method and apparatus for controlling a laser-equipped machine tool to prevent self-burning
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