JPH0454676A - Method and device for layout of lsi function cell - Google Patents

Method and device for layout of lsi function cell

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JPH0454676A
JPH0454676A JP2164317A JP16431790A JPH0454676A JP H0454676 A JPH0454676 A JP H0454676A JP 2164317 A JP2164317 A JP 2164317A JP 16431790 A JP16431790 A JP 16431790A JP H0454676 A JPH0454676 A JP H0454676A
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JP
Japan
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wiring
net
noise
nets
layout
Prior art date
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Application number
JP2164317A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Kawakita
真裕 川北
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0454676A publication Critical patent/JPH0454676A/en
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To execute the pattern design of high density by classifying the net into a net for generating a noise, and a net which is apt to be influenced by a noise, executing a wiring to the net for generating a noise, based on a first rule, and executing a wiring to the net which is apt to be influenced by a noise, based on a second rule. CONSTITUTION:First of all, a net 34 for generating a noise is subjected to wiring. In this case, a priority wiring area is classified into a wiring area positioned in the uppermost position of a cell or a wiring area positioned in the lowest position. Secondly, a net 36 which is apt to be influenced by a noise is subjected to wiring. This net is subjected to wiring so that is does not intersect with the net 34 whose wiring is finished, and also, the wiring length becomes as short as possible. Thirdly, other general net is subjected to wiring so that the wiring length becomes as short as possible. In the end, a shield wiring 38 is executed in order to further decrease the influence of a noise.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、LSIチップのパターン設計において利用さ
れる機能セルをレイアウトするレイアウト装置に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a layout device for laying out functional cells used in pattern design of an LSI chip.

(従来の技術) 機能セルのレイアウトを行う場合、設計回路図上にない
寄生素子、例えば、容量、抵抗、トランジスタなどの存
在が機能セルの電気的特性に大きな影響を与える。特に
、高速動作や高精度が要求される回路では、この寄生素
子の存在が原因となって起きる配線ネット間のクロスト
ークが大きな問題となる。そこで、雑音を発生するネッ
ト、雑音の影響を受けやすいネットを特別な方法で配線
するための手法が幾つか提案されている。
(Prior Art) When laying out a functional cell, the presence of parasitic elements that are not included in the designed circuit diagram, such as capacitors, resistors, transistors, etc., has a large effect on the electrical characteristics of the functional cell. Particularly in circuits that require high-speed operation and high precision, crosstalk between wiring nets caused by the presence of these parasitic elements becomes a major problem. Therefore, several methods have been proposed for wiring nets that generate noise or nets that are susceptible to noise using special methods.

例えば、原田他による「アナログスタンダードセルLS
Iの配線手法J  (1990年電子情報通信学会春期
全国大会 5A−3−5)では、配線チャネルをアナロ
グ用とデジタル用に分類し、アナログ系、デジタル系の
各配線を行い、概略配線の段階で雑音の影響を受けやす
いネットと雑音を発生するネットの交差回数を評価して
、交差回数を軽減するように工夫している。しかし、こ
の手法では、必ずしも雑音ネットのクロストークの影響
を満足できるまで低減し、配線の交差回数をゼロにする
ことはできない。
For example, “Analog Standard Cell LS” by Harada et al.
In I's Wiring Method J (1990 Institute of Electronics, Information and Communication Engineers Spring National Conference 5A-3-5), wiring channels are classified into analog and digital, each analog and digital wiring is performed, and the rough wiring stage is described. We are evaluating the number of intersections between nets that are susceptible to noise and nets that generate noise, and are working to reduce the number of intersections. However, with this method, it is not necessarily possible to satisfactorily reduce the influence of crosstalk of the noise net and reduce the number of wiring crossings to zero.

(発明が解決しようとする課jIl) このように従来の手法では、高速動作や高精度な動作が
要求される回路の電気的特性で問題となる、配線間のク
ロストークに対する影響を取り除くことは難しい。
(Issues to be solved by the invention) As described above, with conventional methods, it is not possible to eliminate the influence of crosstalk between wirings, which is a problem in the electrical characteristics of circuits that require high-speed operation and high-precision operation. difficult.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、電気的特性が高品質でありかつ高密度
な機能セルのレイアウトを短時間に簡単に行うことので
きるLSI機能セルのレイアウト装置を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to create an LSI functional cell that has high quality electrical characteristics and can easily perform a layout of high-density functional cells in a short time. The purpose of the present invention is to provide a layout device for the layout.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するために、本発明のLSI機能セルの
レイアウト方法は、設計対象となる機能セルのサイズ(
セルの幅と高さ)を設定するステップと、 配線の長さが短くかつこの配線の交差回数が少ない機能
セル内の素子配置の位置を決定するステップと、 前記機能セルの電源ラインを設定するステップと、 各配線のネットに対する雑音の影響度を求め、雑音を発
生するネット、雑音の影響を受けやすいネット及びその
他のネットに分類するステップと、雑音を発生するネッ
トを第1のルールに基づき配線するステップと、 前記雑音の影響度を考慮して、前記雑音を発生するネッ
トの配線に交差することを防止させるための第2のルー
ルに基づき、前記雑音の影響を受けやすいネットを配線
するステップと、その他のネットを配線するステップと
を有することを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the LSI functional cell layout method of the present invention is based on the size of the functional cell to be designed (
(width and height of the cell); determining the position of element placement within the functional cell where the length of the wiring is short and the number of crossings of the wiring is small; and setting the power supply line of the functional cell. A step of determining the degree of influence of noise on the net of each wiring and classifying it into nets that generate noise, nets that are susceptible to noise, and other nets; and a step of classifying nets that generate noise based on the first rule. a step of wiring a net that is susceptible to the noise, taking into consideration the degree of influence of the noise, and based on a second rule for preventing the wiring of the net that generates the noise from intersecting with the wiring; and a step of wiring other nets.

また、本発明のLSI機能セルのレイアウト装置は、設
計対象となる機能セルのサイズを設定する手段と、 配線の長さが短くかつこの配線の交差回数が少ない機能
セル内の素子配置の位置を決定する手段と、 前記機能セルの電源ラインを設定する手段と、各配線の
ネットに対する雑音の影響度を求め、雑音を発生するネ
ット、雑音の影響を受けやすいネット及びその他のネッ
トに分類する手段と、雑音を発生するネットを配線する
手段と、雑音の影響を受けやすいネットを配線する手段
と、 その他のネットを配線する手段とを有することを特徴と
する。。
Further, the LSI functional cell layout device of the present invention includes a means for setting the size of a functional cell to be designed, and a means for determining the element placement position in a functional cell where the length of the wiring is short and the number of crossings of the wiring is small. means for determining the power supply line of the functional cell; and means for determining the degree of influence of noise on the net of each wiring and classifying the net into nets that generate noise, nets that are susceptible to noise, and other nets. The present invention is characterized by having a means for wiring a net that generates noise, a means for wiring a net susceptible to noise, and a means for wiring other nets. .

(作用) 本発明のLSI機能セルのレイアウト方法では、与えら
れたセルサイズに必要な素子を配置し、次に、電源ライ
ンを設定する。この時、配線の長さが短くかつ交差が少
ない概略素子配置位置を決定し、それを初期配置として
無駄なレイアウト・スペースができるだけ発生しないよ
うに素子配置位置を決定する。、次に、各配線ネットに
対する雑音の影響度を決定し、ネットを rタイプ1:雑音を発生する」、 rタイプ2:雑音の影響を受けやすいjl「タイプ3:
その他、特に雑音に関係しない」の三つのタイプに分類
する。この分類を行うことにより、各タイプに対して異
なる配線手法が適用でき、タイプ1とタイプ2の配線同
士を交差しないように配線することが可能となる。
(Operation) In the LSI functional cell layout method of the present invention, elements necessary for a given cell size are arranged, and then a power supply line is set. At this time, a general element arrangement position is determined where the wiring length is short and there are few intersections, and this is used as an initial arrangement to determine the element arrangement position so that wasted layout space is not generated as much as possible. , Next, determine the degree of influence of noise on each wiring net, and divide the net into r type 1: generates noise, r type 2: susceptible to noise, jl type 3:
Others, not particularly related to noise, are classified into three types. By performing this classification, different wiring methods can be applied to each type, and it becomes possible to route the type 1 and type 2 wiring so that they do not cross each other.

そして、タイプ別に各々配線を行い、必要ならrタイプ
1:雑音を発生する」ネットに対して、シールド・ネッ
トとして他のネットとの間に電源ラインを挿入する。こ
れにより雑音の影響を更に少なくすることができる。
Wiring is then done for each type, and if necessary, a power line is inserted between the r type 1: noise generating net and other nets as a shield net. This allows the influence of noise to be further reduced.

本発明によるレイアウト結果と従来のレイアウト手法に
よる結果とを比較した場合、雑音を発生するネットとそ
の影響を受けやすいネットが交差しないため、クロスト
ークによる回路の電気的特性に関する劣化が防止できる
。必要なら雑音を発生ずるネットを容品にシールドする
ことができる。
When the layout results according to the present invention are compared with the results according to the conventional layout method, it is possible to prevent the deterioration of the electrical characteristics of the circuit due to crosstalk because the nets that generate noise and the nets that are susceptible to noise do not intersect. If necessary, a noisy net can be shielded from the container.

即ち、電源ネットなとの電位の安定した配線により、雑
音を発生するネットをシールド可能である。
That is, by wiring with a stable potential to the power supply net, it is possible to shield the net that generates noise.

このように、従来に比べて電気的特性が高品質でかつ高
密度な機能セルのレイアウトが実現できる。
In this way, it is possible to realize a functional cell layout with higher quality electrical characteristics and higher density than in the past.

本発明のレイアウト装置によれば、本発明の方法が実行
でき、従って上記と同様な作用がある。
According to the layout device of the present invention, the method of the present invention can be executed, and therefore, the same effect as described above can be obtained.

(実施例) 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.

第1図は、本発明の実施例に係るLSI機能セルのレイ
アウト方法のフローチャートを示している。まず、ステ
ップS1において、配置すべき機能セルのサイズを設定
する。この機能セルのサイズとは、セルの高さと幅であ
る。このセルの高さと幅は、第4図(a)に示されるよ
うに定義される。このステップの後に、ステップs2に
おいてセル内の素子の配置位置を決定する。素子の配置
位置が決定すると、ステップs3において各セルの電源
ラインを設定する。この電源ラインは、第4図(b)に
示されるような、セルの周辺領域にに敷設される。次に
、ステップs4において、各配線ネットに対する雑音の
影響度を決定する。雑音の影響度から、各ネットを、 rタイプ1:雑音を発生する」、 「タイプ2:雑音の影響を受けやすい」、rタイプ3:
その他、特に雑音に関係しない」の三つのタイプに分類
する。
FIG. 1 shows a flowchart of an LSI functional cell layout method according to an embodiment of the present invention. First, in step S1, the size of the functional cell to be placed is set. The size of this functional cell is the height and width of the cell. The height and width of this cell are defined as shown in FIG. 4(a). After this step, the arrangement positions of elements within the cell are determined in step s2. Once the arrangement positions of the elements are determined, the power supply lines for each cell are set in step s3. This power supply line is laid in the peripheral area of the cell as shown in FIG. 4(b). Next, in step s4, the degree of influence of noise on each wiring net is determined. Based on the degree of influence of noise, each net is divided into r type 1: generates noise, type 2: susceptible to noise, r type 3:
Others, not particularly related to noise, are classified into three types.

この分類結果に基づき、ステップs5.s6゜S7にお
いて、各タイプのネットを以下のようにして配線する。
Based on this classification result, step s5. s6° In S7, each type of net is wired as follows.

例えば、タイプlとタイプ2のネットが交差しやすい領
域では、タイプ1の雑音を発生するネットはセル内の素
子に対して右側から配線し、タイプ2の雑音の影響を受
けやすいネットはセル内の素子に対して左側から配線す
る。これらタイプ1、タイプ2、タイプ3のネットの配
線順序は適宜決定すれば良く、ケースバイケースに決定
すれば良い。
For example, in an area where type l and type 2 nets tend to intersect, nets that generate type 1 noise are routed from the right side of the elements within the cell, and nets that are susceptible to type 2 noise are routed within the cell. Wire the elements from the left side. The wiring order of these type 1, type 2, and type 3 nets may be determined as appropriate, and may be determined on a case-by-case basis.

必要な場合には、ステップs8においてタイプ1の雑音
を発生するネットに対してシールド配線を行う。このシ
ールド配線を設ければ、雑音の影響を更に少なくするこ
とができる。
If necessary, shield wiring is provided for the net that generates type 1 noise in step s8. By providing this shield wiring, the influence of noise can be further reduced.

第2図は、本発明の一実施例に係わるLSI機能セルの
レイアウト装置の全体構成を示すブロック図である。同
図において、データベース9は、LSIのレイアウト設
計に必要な情報を格納した記憶手段であり、データ処理
装置10は、レイアウト設計における種々の処理を行い
、LSI製造川マ用クのマスクパターンデータ14を生
成するものである。コンソール11および対話型エディ
タ12は、レイアウト設計者によって操作され、データ
処理装置10に種々のインストラクションを入力する。
FIG. 2 is a block diagram showing the overall configuration of an LSI functional cell layout device according to an embodiment of the present invention. In the same figure, a database 9 is a storage means that stores information necessary for LSI layout design, and a data processing device 10 performs various processes in layout design, and performs various processes in the layout design. is generated. The console 11 and the interactive editor 12 are operated by a layout designer to input various instructions to the data processing device 10.

グラフィックデイスプレィ13は、データ処理装置10
により得られたレイアウト結果を表示する表示部である
The graphic display 13 is the data processing device 10
This is a display unit that displays the layout results obtained by.

第3図は、第2図におけるデータベース9およびデータ
処理装置10の具体的な構成を示したものである。素子
ライブラリパターン情報記憶部15、素子間接続情報記
憶部16、デザインル−原情報記憶部17、回路図面情
報記憶部18、回路シミュレーション結果情報記憶部1
9、ネットの雑音影響度評価結果情報記憶部20、レイ
アウト結果情報記憶部21、セルサイズ設定処理装置2
2、セル内素子配置情報処理装置23、セルの電源ライ
ン設定処理装置24、雑音の影響度判定処理装置25、
雑音を発生するネットの配線処理装置26、雑音の影響
を受けやすいネットの配線処理装置27、その他の一般
のネットの配線処理装置28、シールド配線処理装置2
9によって構成される。
FIG. 3 shows a specific configuration of the database 9 and data processing device 10 in FIG. 2. Element library pattern information storage section 15, inter-element connection information storage section 16, design rule-original information storage section 17, circuit drawing information storage section 18, circuit simulation result information storage section 1
9. Net noise influence evaluation result information storage section 20, layout result information storage section 21, cell size setting processing device 2
2. In-cell element arrangement information processing device 23, cell power line setting processing device 24, noise influence degree determination processing device 25,
Net wiring processing device 26 that generates noise, net wiring processing device 27 that is susceptible to noise, other general net wiring processing device 28, shield wiring processing device 2
Consisting of 9.

次に、以上のように構成されるLSI機能セルのレイア
ウト装置の動作を、第4図(a)〜(e)に示す各工程
のレイアウト図を参照しながら第1図に示すフローチャ
ートに従って説明する。
Next, the operation of the LSI functional cell layout apparatus configured as described above will be explained according to the flowchart shown in FIG. 1 while referring to the layout diagrams of each process shown in FIGS. 4(a) to (e). .

まず最初に、素子ライブラリパターン情報記憶部15、
素子間接続情報記憶部16及びデザインルール情報記憶
部17のデータを基に、機能セル中に配置する素子およ
び結線すべき配線の本数に従ってセルのサイズを見積り
、セルの幅、高さをセルサイズ設定処理装置22によっ
て、第4図(a)のように設定する(ステップSl)。
First of all, the element library pattern information storage section 15,
Based on the data in the inter-element connection information storage section 16 and the design rule information storage section 17, the cell size is estimated according to the number of elements to be placed in the functional cell and the number of wirings to be connected, and the width and height of the cell are determined as the cell size. The settings processing device 22 performs settings as shown in FIG. 4(a) (step Sl).

次に、索子31の配置位置をセル内素子配置情報処理装
置23で決定するが、その際には、例えば回路図面情報
記憶部18の設計回路図を参照して、配線長がなるべく
短く、交差回数が少ないような素子31の配置位置を素
子間接続情報記憶部16及びデザインルール情報記憶部
17のデータに基づき設定し、配線に必要な素子間のス
ペース33を確保する(ステップs2)。
Next, the placement position of the cable member 31 is determined by the intra-cell element placement information processing device 23. At this time, for example, referring to the designed circuit diagram in the circuit drawing information storage unit 18, the wiring length is made as short as possible. The arrangement position of the elements 31 with a small number of intersections is set based on the data in the inter-element connection information storage section 16 and the design rule information storage section 17, and the space 33 between the elements necessary for wiring is secured (step s2).

そして、セルの電源ライン設定処理装置24により、第
4図(a)に示すように、セルの電源ライン30をセル
の上辺部分、下辺部分に設定する(ステップs3)。
Then, the cell power line setting processing device 24 sets the cell power line 30 to the upper and lower sides of the cell, as shown in FIG. 4(a) (step s3).

次に、各配線ネットに対する雑音の影響度を雑音の影響
度判定処理装置25により決定する(ステップs 4 
)。例えば、回路シミュレーション結果情報記憶部19
にある回路シミュレーションの交流解析結果、過渡解析
結果を参照して、各配線ネットにおける電流・電圧の振
幅1位相の大きさを比較し、「雑音を発生するネット」
、−「雑音の影響を受けやすいネット」、「その他の一
般のネット」に分類し、ネットの雑音影響度評価結果情
報記憶部20に記憶させる。
Next, the noise influence degree determination processing device 25 determines the degree of influence of noise on each wiring net (step s4).
). For example, the circuit simulation result information storage unit 19
Referring to the AC analysis results and transient analysis results of the circuit simulation in , compare the magnitude of one phase of the current/voltage amplitude in each wiring net, and identify the "nets that generate noise."
, - "Nets susceptible to the influence of noise" and "Other general networks" and stored in the net noise influence degree evaluation result information storage unit 20.

そして、ネットの雑音影響度評価結果情報記憶部20か
ら分類データを読みだし、各々の分類に従って配線を行
う。この場合、素子ライブラリパターン情報記憶部15
、素子間接続情報記憶部16及びデザインルール情報記
憶部17に記憶されているデータを参照しながら行う。
Then, the classification data is read from the net noise influence evaluation result information storage section 20, and wiring is performed according to each classification. In this case, the element library pattern information storage section 15
, while referring to data stored in the inter-element connection information storage section 16 and the design rule information storage section 17.

まず第一番目に、雑音を発生するネットの配線処理装置
26において、「雑音を発生するネット34」を配線す
る(ステップs5)。この時に、第4図(b)に示すよ
うに、各ネットに接続される素子端子の位置を参考に、
そのネットを配線するときの優先配線領域32を、セル
の最上位に位置する配線領域か最下位に位置する配線領
域かに振り分ける。また、各素子の端子からr雑音を発
生するネット34」の配線を引き出す場合に、その素子
の右側か左側かどちらか一方に限定する。
First, the "noise generating net 34" is wired in the noise generating net wiring processing device 26 (step s5). At this time, as shown in Figure 4(b), refer to the position of the element terminal connected to each net.
The priority wiring area 32 when wiring the net is divided into the wiring area located at the top of the cell or the wiring area located at the bottom. Furthermore, when drawing out the wiring of the net 34 that generates r noise from the terminal of each element, it is limited to either the right side or the left side of the element.

即ち、その他のタイプのネットの配線は反対側から引き
出す。こうして、第4図(C)に示すように、全ての「
雑音を発生するネット34」を配線する。
That is, the wiring for other types of nets is pulled out from the opposite side. In this way, as shown in FIG. 4(C), all "
A net 34 that generates noise is wired.

第二番目には、雑音の影響を受けやすいネットの配線処
理装置27により、「雑音の影響を受けやすいネット3
6」を配線する(ステップs6)。
Second, the wiring processing device 27 of the net which is susceptible to the influence of noise performs a process called “Net 3 which is susceptible to the influence of noise”.
6" (step s6).

このネットは、既に配線が終了した「雑音を発生するネ
ット34」と交差せず、かつできるだけ配線長が短くな
るように配線する。そのために、第4図(d)に示すよ
うに、「雑音を発生するネット34」を各素子の端子か
ら引き出す場合とは反対の側から配線を引き出す。
This net is wired so that it does not intersect with the already wired "noise generating net 34" and the wire length is as short as possible. For this purpose, as shown in FIG. 4(d), the wires are drawn out from the opposite side from where the "noise generating net 34" is drawn out from the terminals of each element.

第三番目には、その他の一般のネットの配線処理装置2
8により、まだ残っている「その他の一般のネット」を
できるだけ配線長が短くなるように配線する。
Thirdly, other general network wiring processing equipment 2
8, the remaining "other general nets" are routed so that the wiring length is as short as possible.

最後に、必要に応じて、シールド配線処理装置29によ
って、「雑音を発生するネット34」と「雑音の影響を
受けやすいネット36ノとの間の雑音の影響をより一層
低減するために、シールド配線38を行う。通常は、電
位の安定した電源ラインでシールドを行うので、第4図
(e)に示すように、「雑音を発生するネット34」を
両側からはさみ込むようにシールド配線38を形成する
Finally, if necessary, the shield wiring processing device 29 installs a shield to further reduce the influence of noise between the "net 34 that generates noise" and the "net 36 that is susceptible to noise." Wiring 38 is performed. Normally, shielding is performed using a power line with a stable potential, so as shown in Figure 4(e), the shield wiring 38 is placed so as to sandwich the "noise generating net 34" from both sides. Form.

シールド配線38の様子を、第5図に拡大して示す。FIG. 5 shows an enlarged view of the shield wiring 38.

雑音を発生する配線の順序、手順、即ち引き出し方向、
配線領域などを考慮しない従来の方法で配線した場合に
は、第6図に示すようになる。即ち、第4図(e)の本
発明によるレイアウト結果と比較すると、本発明による
配線結果では、「雑音を発生するネット34」とr雑音
の影響を受けやすいネット36」の交差はないが、従来
手法では交差が存在してしまう。このように本発明によ
れば、電気的特性の高品質なレイアウトが可能となる。
The order and procedure of wiring that generates noise, i.e. the direction of extraction,
When wiring is done using a conventional method that does not take into account the wiring area, the result is as shown in FIG. That is, compared to the layout result according to the present invention shown in FIG. 4(e), in the wiring result according to the present invention, there is no intersection between "the net 34 that generates noise" and the "net 36 that is susceptible to the influence of r noise"; In the conventional method, intersections exist. As described above, according to the present invention, a layout with high quality electrical characteristics is possible.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、LSI機能セル
の自動レイアウト、特に寄生素子の存在が原因となって
起こる配線ネット間のクロストークを低減するレイアウ
トが可能となる。従来の自動レイアウト手法による場合
と比較して、設計期m1を短縮でき、かつ電気的特性が
優れた高密度なパターン設計が行なえる。
As described above, according to the present invention, automatic layout of LSI functional cells, particularly layout that reduces crosstalk between wiring nets caused by the presence of parasitic elements, becomes possible. Compared to the conventional automatic layout method, the design period m1 can be shortened, and a high-density pattern design with excellent electrical characteristics can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明のレイアウト方法のフローチャート、 第2図は、本発明の一実施例に係わるLSI機能セルの
レイアウト装置の概略的構成を示すブロック図、 第3図は、上記実施例の要部構成を詳細に示すブロック
図、 第4図(a)、(b)、(c)、(d)、(e)は、本
発明の各処理工程の説明図、 第5図は、シールド配線の一例を示す平面拡大図、 第6図は、従来の配線手法によるレイアウト結果例を示
す図である。 9・・・データベース、10・・・データ処理装置、1
1・・・コンソール、12・・・対話型エディタ、13
・・・グラフィックデイスプレィ、14・・・マスクパ
ターンデータ、15・・・素子ライブラリパターン情報
記憶部、16・・・素子間接続情報記憶部、17・・・
デザインルール情報記憶部、18・・・回路図面情報記
憶部、19・・・回路シミュレーション結果情報記憶部
、20・・・ネットの雑音影響度評価結果情報記憶部、
21・・・レイアウト結果情報記憶部、22・・・セル
サイズ設定処理装置、23・・・セル内素子配置情報処
理装置、24・・・セルの電源ライン設定処理装置、2
5・・・雑音の影響度判定処理装置、26・・・雑音を
発生するネットの配線処理装置、27・・・雑音の影響
を受けやすいネットの配線処理装置、28・・・その他
の一般のネットの配線処理装置、29・・・シールド配
線処理装置。 2)2図 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 (a) 34N畜乞発里するネット (c) 第 図 (d) 第 図 (e) 第 図
FIG. 1 is a flowchart of the layout method of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of an LSI functional cell layout device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a flowchart of the layout method of the above embodiment. 4(a), (b), (c), (d), and (e) are explanatory diagrams of each processing step of the present invention; FIG. 5 is a shield FIG. 6, an enlarged plan view showing an example of wiring, is a diagram showing an example of a layout result obtained by a conventional wiring method. 9...Database, 10...Data processing device, 1
1... Console, 12... Interactive editor, 13
... Graphic display, 14... Mask pattern data, 15... Element library pattern information storage section, 16... Inter-element connection information storage section, 17...
Design rule information storage unit, 18...Circuit drawing information storage unit, 19...Circuit simulation result information storage unit, 20...Net noise impact evaluation result information storage unit,
21... Layout result information storage unit, 22... Cell size setting processing device, 23... In-cell element arrangement information processing device, 24... Cell power line setting processing device, 2
5...Noise influence degree determination processing device, 26...Net wiring processing device that generates noise, 27...Net wiring processing device that is susceptible to noise, 28...Other general Net wiring processing device, 29... Shield wiring processing device. 2) Figure 2 Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue (a) 34N Beggar Originated Net (c) Figure (d) Figure (e) Figure

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)設計対象となる機能セルのサイズを設定するステ
ップと、 配線の長さが短くかつ前記配線の交差回数が少ない機能
セル内の素子配置の位置を決定するステップと、 前記機能セルの電源ラインを設定するステップと、 前記各配線のネットに対する雑音の影響度を求め、雑音
を発生するネット、雑音の影響を受けやすいネット及び
その他のネットに分類するステップと、 雑音を発生するネットを第1のルールに基づき配線する
ステップと、 前記雑音を発生するネットの配線に交差することを防止
させる第2のルールに基づき、前記雑音の影響を受けや
すいネットを配線するステップと、その他のネットを配
線するステップとを有することを特徴とするLSI機能
セルのレイアウト方法。
(1) Setting the size of the functional cell to be designed; determining the position of element arrangement within the functional cell where the length of the wiring is short and the number of crossings of the wiring is small; and the power supply of the functional cell. a step of setting a line; a step of determining the degree of influence of noise on the net of each wiring and classifying the net into a net that generates noise, a net that is susceptible to the influence of noise, and other nets; a step of wiring based on the first rule; a step of wiring a net that is susceptible to the noise based on a second rule that prevents the net from intersecting with the wiring of the net that generates the noise; and a step of wiring the other nets. 1. A layout method for an LSI functional cell, comprising the step of wiring.
(2)設計対象となる機能セルのサイズを設定する手段
と、 配線の長さが短くかつ前記配線の交差回数が少ない機能
セル内の素子配置の位置を決定する手段と、 前記機能セルの電源ラインを設定する手段と、前記各配
線のネットに対する雑音の影響度を求め、雑音を発生す
るネット、雑音の影響を受けやすいネット及びその他の
ネットに分類する手段と、雑音を発生するネットを配線
する手段と、 雑音の影響を受けやすいネットを配線する手段と、 その他のネットを配線する手段とを有することを特徴と
するLSI機能セルのレイアウト装置。
(2) means for setting the size of a functional cell to be designed; means for determining the position of element arrangement within the functional cell where the length of the wiring is short and the number of crossings of the wiring is small; and a power source for the functional cell. A means for setting a line, a means for determining the degree of influence of noise on the net of each wiring and classifying it into a net generating noise, a net susceptible to noise, and other nets, and wiring a net generating noise. 1. A layout device for an LSI functional cell, comprising: means for wiring nets susceptible to noise; and means for wiring other nets.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08101854A (en) * 1994-09-30 1996-04-16 Nec Corp Method for wiring design of integrated circuit
US8026537B2 (en) 2003-01-20 2011-09-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit having an oblique global signal wiring and semiconductor integrated circuit wiring method

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JPH08101854A (en) * 1994-09-30 1996-04-16 Nec Corp Method for wiring design of integrated circuit
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