JPH0453188A - Manufacture of through hole printed wiring board - Google Patents
Manufacture of through hole printed wiring boardInfo
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 50
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 35
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 31
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 13
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical group [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 16
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract description 7
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract description 7
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- YGJGWGXUVBLCGY-UHFFFAOYSA-N [Cu].C(=O)OC=O Chemical compound [Cu].C(=O)OC=O YGJGWGXUVBLCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001651 cyanato group Chemical group [*]OC#N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
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- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、導電ペーストを用いるスルーホールプリント
配線板の製造法の改良に関するものであり、特に好適な
方法においては、新規な本質的に気相法によるスルーホ
ールメッキ法を用いることにより、導電ペーストの有す
る欠点である導電性や耐マイグレーシコン性などをコス
トの上昇を極力抑えて改良したものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an improved method for manufacturing through-hole printed wiring boards using conductive paste, and in a particularly preferred method, a novel and essentially non-conductive method is provided. By using a phase-based through-hole plating method, the disadvantages of conductive pastes, such as conductivity and migration resistance, are improved while minimizing cost increases.
多層或いは両面プリント配線板において、眉間の電気的
接続を行う最も一般的な方法は、接続部に貫通孔を形成
し、孔壁面に銅メッキを施すスルーホールメッキ技術で
ある。この方法は信頼性は高いが複雑な工程を必要とし
、加工コストが嵩むという欠点があった。The most common method for making electrical connections between the eyebrows in multilayer or double-sided printed wiring boards is the through-hole plating technique, in which a through hole is formed at the connection part and the wall surface of the hole is plated with copper. Although this method is highly reliable, it requires complicated steps and has the disadvantage of increasing processing costs.
他方、オーディオ機器を中心とする民生用電子機器では
、コストダウンの要求から、銀粉に熱硬化性樹脂を配合
した導電ペーストを孔に埋め込み硬化させる導電ペース
トスルーホールが広く使用されている。On the other hand, in consumer electronic equipment, mainly audio equipment, due to the demand for cost reduction, conductive paste through-holes, in which a conductive paste made of silver powder mixed with a thermosetting resin is filled into the holes and hardened, are widely used.
この導電ペースト法は製造法が簡便であり安価である。This conductive paste method is simple and inexpensive to manufacture.
しかし、高温、高湿などの環境下で電圧を印加すると銀
がマイグレーションを起こし易く、短絡などの危険性が
高い。そのため、例えば使用する基板の絶縁層並びにマ
トリックス樹脂とベースマチイアリアルとの眉間が吸湿
性が少なくマイグレーションの発生しにくいものを選択
すること、又は銀スルーホール相互の間隔を充分に広く
保っておくことなどの設計上の問題があった。However, when voltage is applied in environments such as high temperature and high humidity, silver tends to migrate, increasing the risk of short circuits. Therefore, for example, the insulating layer of the substrate to be used, the gap between the matrix resin and the base gusset real should be selected to have low hygroscopicity and migration is unlikely to occur, or the distance between the silver through holes should be kept sufficiently wide. There were design issues such as:
このマイグレーションの問題を解決する方法として、銅
粉に熱硬化性樹脂を配合した銅導電ペーストを用いる方
法が提案されている。しかし、銅が酸化されやすく、電
気的性能や信頼性において問題があり、さらにカーボン
に熱硬化性樹脂を配合したカーボン導電ペーストを用い
る方法も考えられるが、抵抗値が大きいという欠点から
、現状では専ら銀ベーストが使用されている。As a method to solve this migration problem, a method has been proposed that uses a copper conductive paste containing copper powder mixed with a thermosetting resin. However, copper is easily oxidized, which poses problems in electrical performance and reliability.Furthermore, it is possible to use carbon conductive paste, which is a mixture of carbon and thermosetting resin, but it has the disadvantage of high resistance, so it is currently not possible. Exclusively silver base is used.
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、先に蟻酸銅を用いる本質的に気相法のス
ルーホールメッキ法を見出した。この実用化について鋭
意検討する過程において、この方法は導電ペーストスル
ーホールメッキの下地銅メッキとしても利用可能である
ことを見出し、これに基づいて本発明を完成させるに至
った。[Means for Solving the Problems] The present inventors have previously discovered a through-hole plating method that is essentially a vapor phase method using copper formate. In the process of intensively studying the practical application of this method, it was discovered that this method could also be used as a base copper plating for conductive paste through-hole plating, and based on this, the present invention was completed.
すなわち、本発明は、プリント配線層間の電気的接続を
スルーホールに導電ペーストを注入・硬化させて行うス
ルーホールプリント配線板の製造法において、スルーホ
ール孔明けした基板(1)のスルーホール孔壁面に予め
厚さ0.3〜3岬の銅又はニッケル膜を形成したものを
使用することを特徴とするスルーホールプリント配線板
の製造法である。また、本発明は、該スルーホールの孔
壁面に形成する膜が銅膜であること、二〇銅膜の形成を
酸基Fj、(1)のスルーホール孔の5cm以内に蟻酸
銅を保持し、圧力30 Torr以下の減圧下に165
℃以上で該基板(1)の変形劣化温度以下の範囲の所定
温度に加熱し、かつ、蟻酸銅を少なくとも温度130’
C〜165℃まで間は1℃/分以上の速度で昇温し、保
持する蟻酸銅メッキ法によって行うこと、該導電ペース
トが銀、銅またはカーボンペーストであること、さらに
該導電ペーストの注入を吸引手段を併用したスクリーン
印刷法にて行うことを特徴とするスルーホールプリント
配線板の製造法である。That is, the present invention provides a method for manufacturing a through-hole printed wiring board in which electrical connections between printed wiring layers are made by injecting and curing a conductive paste into the through-holes. This is a method for producing a through-hole printed wiring board, characterized in that a copper or nickel film having a thickness of 0.3 to 3 caps is formed in advance on the through-hole printed wiring board. Further, the present invention provides that the film formed on the wall surface of the through-hole is a copper film, that the formation of the copper film is carried out by an acid group Fj, and that copper formate is maintained within 5 cm of the through-hole in (1). , under a reduced pressure of 30 Torr or less
℃ or above and below the deformation deterioration temperature of the substrate (1), and the copper formate is heated to a temperature of at least 130'.
The conductive paste must be silver, copper or carbon paste, and the conductive paste must be injected. This is a method for manufacturing a through-hole printed wiring board, characterized in that it is carried out by a screen printing method using a suction means.
以下、本発明について説明する。The present invention will be explained below.
本発明の導電ペーストスルーホールに用いる基板(1)
とは、銅張板或いは両面銅張の多層板の所定位置、すな
わち、所望のプリント配線パターンのスルーホール位置
に基準孔に基づいて多数(通常1〜5万個/ボ程度)の
スルーホール孔明けをしてなるものであり、予めプリン
ト配線網を形成した後、孔明けしたものも当然に使用可
能である。Substrate (1) used for conductive paste through holes of the present invention
means a large number of through-holes (usually about 10,000 to 50,000 holes/bore) at a predetermined position on a copper-clad board or double-sided copper-clad multilayer board, that is, at the through-hole position of the desired printed wiring pattern, based on the reference hole. Of course, it is also possible to use one in which a printed wiring network is formed in advance and then holes are punched.
また、導電ペーストをスルーホール孔内に埋め込みする
ことから基板(1)の厚さとしては薄いものの方がより
好適に使用できる。Furthermore, since the conductive paste is embedded in the through-holes, a thinner substrate (1) can be used more preferably.
基板(1)を製造する銅張板或いはプリプレグ、積層板
などの材籾七しては、通常、熱硬化性樹脂或いは半田耐
熱性を有する熱可塑性樹脂をマ(・リンクス樹脂とし、
ガラス(E−1T−1D−1S−1石英ガラス)、全芳
香族ポリアミド、フッ素樹脂などの超耐熱性樹脂、アル
ミナ、シリカ、窒化硼素、窒化アルミ、炭化珪素などの
セラミックス、セルロースなどからなる繊維質の織布、
不織布、ペーパーなどを基材(=Base Mater
ial)としてなるプリプレグ、このプリプレグを電解
或いは圧延銅箔と一体化してなる銅張板、この銅張板に
内層用加工をした内層用プリント配線板などである。The materials used to manufacture the board (1), such as copper-clad boards, prepregs, and laminates, are usually thermosetting resins or thermoplastic resins that are resistant to soldering heat.
Fibers made of glass (E-1T-1D-1S-1 quartz glass), fully aromatic polyamide, super heat-resistant resins such as fluororesin, ceramics such as alumina, silica, boron nitride, aluminum nitride, silicon carbide, cellulose, etc. quality woven fabric,
Base material is nonwoven fabric, paper, etc.
ial), a copper clad board made by integrating this prepreg with electrolytic or rolled copper foil, and a printed wiring board for inner layers obtained by processing this copper clad board for inner layers.
ここに、熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリアミン−ビスマレイミド樹脂、ポリマレイ
ミド−エポキシ樹脂、ボリマレイミド−イソシアネート
樹脂、シアナト樹脂、シアネート−エポキシ樹脂、シア
ネート−ポリマレイミド樹脂、シア不−トーエボキシー
ボリマレイミド樹脂等の熱硬化性樹脂;これの熱硬化性
樹脂類とポリアミド(ナイロン)、芳香族ポリエステル
、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリサルホン、ポリフェニレンエーテルなどのエンジニ
アリングプラスチックとを配合し、さらに適宜触媒類を
添加してなる熱硬化性の所謂rlPN」;ポリエチレン
などのポリオレフィン、1.2−ポリブタジェンなどの
樹脂に架橋剤としての有機過酸化物、更に適宜ラジカル
重合性の多官能性の化合物、熱硬化性樹脂などを配合し
てなる架橋硬化性の樹脂類などが挙げられ、半田耐熱性
を有する熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン−2,6
−ナフタレート、ポリオキシヘンジイルポリエステル、
P−ヒドロキシ安息香酸、フタル酸、ビスフェノールな
どを主要上ツマ−とする全芳香族ポリエステルやこれら
にポリエチレンテレフタレート等をグラフトしてなる芳
香族ポリエステル液晶ポリマー、ポリエーテルイミド、
ポリスルホン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル
、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリヘン
ライミダゾール、ポリフェニレンサルファイド、全芳香
族ポリアミドなどが挙げられる。Here, as the thermosetting resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin, polyamine-bismaleimide resin, polymaleimide-epoxy resin, borimaleimide-isocyanate resin, cyanato resin, cyanate-epoxy resin , cyanate-polymaleimide resin, cyanate-polymaleimide resin, thermosetting resin such as cyanate-polymaleimide resin; thermosetting resins thereof and polyamide (nylon), aromatic polyester, polyetherimide, polyetheretherketone,
Thermosetting so-called "rlPN" is made by blending engineering plastics such as polysulfone and polyphenylene ether with the addition of appropriate catalysts; Examples include cross-linked curable resins made by blending oxides, radically polymerizable polyfunctional compounds, thermosetting resins, etc. Examples of thermoplastic resins having soldering heat resistance include polyethylene-2. ,6
- naphthalate, polyoxyhendiyl polyester,
Fully aromatic polyesters mainly containing P-hydroxybenzoic acid, phthalic acid, bisphenol, etc., aromatic polyesters obtained by grafting polyethylene terephthalate, etc. to these polyesters, liquid crystal polymers, polyetherimides,
polysulfone, polysulfone, polyethersulfone,
Examples include polyether ether ketone, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyimide, polyhenreimidazole, polyphenylene sulfide, and wholly aromatic polyamide.
これらの中で本発明においては従来、導電ペーストスル
ーホールが用いられているフェノール樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂
、並びにこれらを主成分とするマトリックス樹脂を用い
たものが好適であるが、導電性、耐マイグレーション性
が改良されることから、より高級な耐熱性樹脂をマトリ
ックス樹脂とするものにも適用可能である。Among these, in the present invention, it is preferable to use phenol resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, epoxy resin, which have conventionally been used for conductive paste through holes, and matrix resins containing these as main components. However, since the conductivity and migration resistance are improved, it is also applicable to those using a higher grade heat-resistant resin as the matrix resin.
上記した基板にスルーホール孔明けして本発明の基板(
1)とし、スルーホールに0.3戸以上、好ましくは0
.7−以上、特に工よ以上の銅或いはニッケル膜を形成
した後、導電ペーストを孔内に埋め込み、加熱硬化させ
てスルーホール導通を行う。The substrate of the present invention (
1), with at least 0.3 units in the through hole, preferably 0
.. After forming a copper or nickel film of 7- or more, especially 100% or more, a conductive paste is embedded in the hole and heated and hardened to establish through-hole conduction.
この銅或いはニッケル膜の形成方法としては従来公知の
銅、ニッケルなどの無電解メッキ法でもよいが、本発明
においては蟻酸銅を用いる本質的に気相スルーホールメ
ッキ法を適用してなる銅膜が好適である。The method for forming this copper or nickel film may be a conventionally known electroless plating method for copper, nickel, etc., but in the present invention, the copper film is formed essentially by applying a vapor phase through-hole plating method using copper formate. is suitable.
この気相スルーホールメッキ法は、被メッキ部の5cm
以内に蟻酸銅を保持し、圧力30 Torr以下の減圧
下に165℃以上で該基板(1)の変形劣化温度以下の
範囲の所定温度に加熱し、かつ、蟻酸銅を少なくとも温
度130℃〜165℃まで間は1℃7/分以上の速度で
昇温し、保持する方法である。This vapor phase through-hole plating method uses 5 cm of the plated area.
Copper formate is held at a temperature of at least 130°C to 165° C. and heated to a predetermined temperature in the range below the deformation deterioration temperature of the substrate (1) at 165° C. or higher under a reduced pressure of 30 Torr or less. The method is to raise the temperature to 1°C at a rate of 7 minutes or more and maintain the temperature.
上記方法に用いる蟻酸銅としては、無水蟻酸銅、蟻酸銅
四永和物或いはこれらの混合物などの蟻酸第二銅化合物
であり、いずれも使用可能であるが、特に無水蟻酸銅の
微粉末として使用することが好ましく、その使用量(蟻
酸銅の全配置量)は、メッキすべき基板(1)とその孔
の表面積、蟻酸銅の配置用具の全表面積により主に決定
されるものでありこの表面積あたりO,001g/af
1以上、好ましくは0.002〜0.3 g/cIIN
、特に0.002〜0.1g/cfflである。配置方
法は、蟻酸銅を単に基板(1)の孔に配置する方法と該
孔から5cIII以内、好ましくは1.5cm以内、よ
り好ましくは1 、 Ocm以内の距離に離して配置し
、孔内を蟻酸銅の蒸気が通過するようにする方法とがあ
り、いずれも好適に使用できる。The copper formate used in the above method is a cupric formate compound such as anhydrous copper formate, copper formate 4-eternal compound, or a mixture thereof, and any of them can be used, but in particular, it is used as a fine powder of anhydrous copper formate. It is preferable that the amount used (the total amount of copper formate placed) is mainly determined by the surface area of the substrate (1) to be plated and its holes, and the total surface area of the copper formate placement tool, and the amount per this surface area is O,001g/af
1 or more, preferably 0.002 to 0.3 g/cIIN
, especially 0.002 to 0.1 g/cffl. The placement method is to simply place the copper formate in the hole of the substrate (1), or to place the copper formate at a distance of within 5cIII, preferably within 1.5cm, more preferably within 1.0cm from the hole. There is a method of allowing vapor of copper formate to pass through, and any of these methods can be used preferably.
前者の配置方法としては、スルーホール基板(1)の全
面に刷毛塗り、スクリーン印刷、ロールコート、浸漬な
どの方法で蟻酸銅を塗布した後、ロール、スキージなど
を用いて孔内に蟻酸銅を押し込み、必要に応して表面の
蟻酸銅を除き、乾燥する方法などが例示される。また、
後者の方法としては、処理温度に耐える板状体、例えば
金属、樹脂、その他のシート或いはフィルムなどに蟻酸
銅を配置し、蟻酸銅と直接接触しないように適宜、薄い
隔離物を挿入してスルーホール基板(1)を重ねた構成
として方法が挙げられる。The former arrangement method involves applying copper formate to the entire surface of the through-hole board (1) by brush coating, screen printing, roll coating, dipping, etc., and then applying copper formate into the holes using a roll, squeegee, etc. Examples include a method of pressing, removing copper formate on the surface as necessary, and drying. Also,
In the latter method, the copper formate is placed on a plate-like material that can withstand the processing temperature, such as a metal, resin, or other sheet or film, and a thin isolation material is inserted as appropriate to prevent direct contact with the copper formate. A method is mentioned as a structure in which hole substrates (1) are stacked.
上記のスルーホール孔やシートなどに蟻酸銅を配置する
場合、蟻酸銅と実質的に反応しない比較的沸点の低い溶
剤に溶解或いは粉末を均一分散させた液を用いて行い、
蟻酸銅が分解しない温度、通常130℃以下で加熱或い
は減圧下で乾燥する方法が好適な方法として挙げられる
。When placing copper formate in the above-mentioned through holes or sheets, it is done by dissolving or uniformly dispersing the powder in a relatively low boiling point solvent that does not substantially react with copper formate.
Preferred methods include heating at a temperature at which copper formate does not decompose, usually 130° C. or lower, or drying under reduced pressure.
上記した基板(1)と蟻酸銅とを加熱処理してスルーホ
ールメッキする。このメッキ処理雰囲気は、減圧下が好
ましく、減圧度30Torr以下、好ましくは5Tor
r以下とする。また、加熱は、赤外線、電子線、マイク
ロ波などの放射線加熱、電気炉、オーブン、オイル加熱
、加圧蒸気加熱、ニクロム線、その他の手段を適宜選択
する。また、寸法変化を小さくする面から設定温度のバ
ラツキの小さいものが好ましい。また、昇温速度を速く
し、メッキ時間を短くして良好な銅膜を得ることば生産
性の上からも好ましい。この場合、予め130℃以下の
温度に予熱し、これを所定温度に設定された加熱部とし
て熱器を持った加熱機器に投入する方法;赤外線、特に
遠赤外線セラミックヒータ−などを用いて加熱する方法
;さらに両者を組み合わせることなどが挙げられ、特に
、後者はメッキ表面のみ効率良く加熱できる。The substrate (1) described above and copper formate are heat-treated and through-hole plated. The atmosphere for this plating treatment is preferably under reduced pressure, and the degree of reduced pressure is 30 Torr or less, preferably 5 Torr.
r or less. For heating, radiation heating such as infrared rays, electron beams, and microwaves, electric furnace, oven, oil heating, pressurized steam heating, nichrome wire, and other means are appropriately selected. Further, from the viewpoint of reducing dimensional changes, it is preferable that the set temperature has small variations. It is also preferable from the viewpoint of productivity to obtain a good copper film by increasing the heating rate and shortening the plating time. In this case, the method is to preheat it to a temperature of 130°C or less and then feed it into a heating device with a heater as a heating section set to a predetermined temperature; heating using infrared rays, especially far-infrared ceramic heaters, etc. Methods: Furthermore, a combination of both methods may be mentioned. In particular, the latter method can efficiently heat only the plated surface.
加熱温度は、165℃以上で該スルーホール基板(1)
の変形劣化温度以下の範囲の所定温度、170〜300
℃の範囲でかつ該スルーホール基板(1)の変形劣化温
度以下の範囲の所定温度であり、特に170〜230℃
の範囲から選択するのが好ましい。一方、蟻酸銅は温度
130℃〜165℃の間をldeg/分以上、好ましく
は1〜50℃/分、特に2〜35℃/分で加熱し、所定
温度で保持する。又、加熱時間は3時間以下、好ましく
は1〜60分間であり、より短時間となるように工夫す
るのが好ましい。The heating temperature is 165°C or higher and the through-hole substrate (1)
A predetermined temperature in the range below the deformation deterioration temperature of 170 to 300
℃ and below the deformation deterioration temperature of the through-hole substrate (1), particularly 170 to 230℃.
It is preferable to select from the range of . On the other hand, copper formate is heated at a temperature of 130° C. to 165° C. at ldeg/min or more, preferably 1 to 50° C./min, especially 2 to 35° C./min, and maintained at a predetermined temperature. Further, the heating time is 3 hours or less, preferably 1 to 60 minutes, and it is preferable to devise a shorter heating time.
なお、蟻酸銅を用いる方法の場合、基板(1)は、洗浄
液を用いて表面清浄化、乾燥などの整面を行うことが好
ましい。整面用溶液としては、酸性或いはアルカリ性の
脱脂割水溶液、揮発性の有機溶剤、酸やアルカリを含む
揮発性の有機溶剤溶液による洗浄が例示される。In the case of the method using copper formate, it is preferable that the surface of the substrate (1) is cleaned using a cleaning liquid, and the surface is leveled by drying. Examples of the surface preparation solution include cleaning with an acidic or alkaline degreasing solution, a volatile organic solvent, and a volatile organic solvent solution containing acid or alkali.
以上の方法で加熱処理した後、室温に冷却してスルーホ
ールに銅膜が0,3−以上形成されたスルーホール下地
メッキ基板を得、上記した導電ペーストスルーホール形
成に使用する。After the heat treatment in the above manner, the substrate is cooled to room temperature to obtain a through-hole base plated substrate on which a copper film of 0.3 or more is formed in the through-holes, which is used for forming the conductive paste through-holes described above.
本発明の導電ペーストとしては、銀、銅またはカーボン
ペーストが例示され、空気雰囲気中で完全硬化を行う場
合には銀ペーストが好適に使用される。また、スルーホ
ール孔埋めする方法としては、刷毛塗り、スクリーン印
刷、ロールコート、浸漬、など種々の方法があるが、ス
クリーン印刷法が好適であり、特に、印刷の反対面から
スルーホール孔を吸引しつつ行う方法が好適である。Examples of the conductive paste of the present invention include silver, copper, or carbon paste, and silver paste is preferably used when complete curing is performed in an air atmosphere. There are various methods for filling through-holes, such as brush painting, screen printing, roll coating, and dipping, but screen printing is preferable. It is preferable to carry out this method while
ついで、該導電ペーストを半硬化或いは硬化させ、さら
にソルダーレジスト等を塗布して本発明のスルーホール
プリント配線板とする。Next, the conductive paste is semi-cured or hardened, and a solder resist or the like is further applied to form the through-hole printed wiring board of the present invention.
次に、本発明の製造法の一例を添付の図面により説明す
る。Next, an example of the manufacturing method of the present invention will be explained with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明のスルーホールプリント配線板の製造工
程フローを示したものであり、第2図は、第1図の各工
程のスルーホール部の拡大断面図を示したものである。FIG. 1 shows a manufacturing process flow of a through-hole printed wiring board of the present invention, and FIG. 2 shows an enlarged sectional view of a through-hole portion in each step of FIG. 1.
第1図において、両面銅張積層板又はプリント配線網形
成板の所要のスルーホール位置にドリル孔明け(a)さ
れた基板(1)とされる。この基板(1)と無水蟻酸銅
配置板(2)とが、スペーサーを介し、その周囲が密閉
されるように重ねられ、ついで、この重ねたものは、予
備真空室で予備加熱され、ついで減圧メッキ室で加熱(
b)された後、取り出し用予備真空室に移送され、適宜
冷却された後、孔壁面に銅膜が形成されたスルーホール
基板(3)とされ、取り出される。ついで、スクリーン
印刷法にて、該基板(1)のスルーホール孔にやや盛り
上がるように銀ペーストなどの導電ペーストが印刷(C
)され、加熱硬化(d)され、本発明のペースト孔埋め
されたスルーホール(4)とされる。ここに、基板(1
)として予めプリント配線網形成板使用の場合には、必
要に応じてソルダーレジストなどを塗布・硬化させる後
処理げ)されペーストスルーホールプリント配線板とさ
れる。他方、プリント配線網を形成していない銅張積層
板使用の場合には、エツチングレジスト層を形成し、エ
ツチングするプリント配線網形成(e)され、後処理(
f)シてペーストスルーホールプリント配線板を製造す
る。In FIG. 1, the substrate (1) is a double-sided copper-clad laminate or a printed wiring network forming board with drill holes (a) formed at required through-hole positions. This substrate (1) and the copper formic anhydride arrangement plate (2) are stacked with a spacer interposed therebetween so that the periphery thereof is sealed, and then this stack is preheated in a preliminary vacuum chamber, and then the pressure is reduced. Heating in the plating room (
b) After that, the substrate is transferred to a preparatory vacuum chamber for removal, cooled appropriately, and then taken out as a through-hole substrate (3) with a copper film formed on the hole wall surface. Next, a conductive paste such as silver paste is printed (C
) and heat cured (d) to form the through-hole (4) filled with the paste of the present invention. Here, the board (1
) If a printed wiring network forming board is used in advance, it is subjected to a post-treatment such as applying and curing a solder resist as required) to form a paste through-hole printed wiring board. On the other hand, in the case of using a copper-clad laminate that does not have a printed wiring network formed thereon, an etching resist layer is formed, the printed wiring network is formed by etching (e), and the post-processing (
f) Manufacturing a paste through-hole printed wiring board.
第2図は、上記の第1図の製造フローのスルーホール部
の拡大図であり、aは第1図の(a)の処理をしたドリ
ル孔明は基板(1)、bは第1図の(b)の処理をした
孔壁面に銅膜が形成されたスルーホール基板(3)およ
びCは第1図の(C)〜(f)の処理をしたペーストス
ルーホール基板(4)をそれぞれ示したものである。Fig. 2 is an enlarged view of the through-hole part in the manufacturing flow shown in Fig. 1 above, where a indicates the drill hole processed in (a) of Fig. 1 on the board (1), and b indicates the drill hole in the substrate (1) shown in Fig. 1. (b) shows a through-hole board (3) with a copper film formed on the hole wall, and C shows a paste through-hole board (4) that has been processed as shown in (C) to (f) in Figure 1, respectively. It is something that
この第2図のCから明瞭なごとく、本発明のペーストス
ルーホール基板は、銀ベーストなどの導電ベーストの下
地として銅膜を有するものであることから、この銅膜を
通過してして銀によるマイグレーションは発生しないも
のであり、マイグレーションの発生は大幅に抑えられた
ものとなることが容易に理解される。また、この導電ペ
ーストとじて、銅ペーストやカーボンペーストを使用し
た場合にも、銅膜部の電気導電度から、電流が大きく流
れない場合には電気抵抗値が銅膜の抵抗値となり、導電
性に優れたものとなることも容易に理解されるものであ
る。As is clear from C in FIG. 2, since the paste through-hole substrate of the present invention has a copper film as a base for a conductive base such as a silver base, the silver can pass through this copper film. It is easily understood that migration does not occur and that the occurrence of migration is greatly suppressed. In addition, even when copper paste or carbon paste is used as this conductive paste, due to the electrical conductivity of the copper film, if a large current does not flow, the electrical resistance value becomes the resistance value of the copper film, and the conductivity It is also easy to understand that it has excellent properties.
以上の如く、本発明の方法によれば、スルーホール孔壁
に銅膜を付着させた後、導電ベーストを埋め込むもので
あることから、銀ペーストの場合のマイグレーション性
、カーボンペーストなどの電気抵抗値の大きさなどが大
幅に解消されたものとなることが明瞭である。As described above, according to the method of the present invention, a conductive base is embedded after a copper film is attached to the wall of a through-hole. It is clear that the size of the problem is largely eliminated.
しかも、本発明の好ましい銅膜の形成方法によれば本質
的に乾式法にて安価に銅膜の形成が可能である。Moreover, according to the preferred method for forming a copper film of the present invention, the copper film can be formed at low cost essentially by a dry method.
従って、安価で信顛性の高いペーストスルーホールプリ
ント配線板が製造可能となるものでありその意義は極め
て高いものである。Therefore, it is possible to manufacture a paste through-hole printed wiring board with high reliability at low cost, and its significance is extremely high.
第1図は本発明のスルーホールプリント配線板の製造工
程フローを示したものであり、第2図は、第1図の各工
程のスルーホール部の拡大断面図を示したものである。
特許出願人 三菱瓦斯化学株式会社
代理人(9070)弁理士 手掘 貞文第1図
第2図FIG. 1 shows a manufacturing process flow of a through-hole printed wiring board of the present invention, and FIG. 2 shows an enlarged sectional view of a through-hole portion in each step of FIG. 1. Patent applicant Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. agent (9070) Patent attorney Sadafumi Tebori Figure 1 Figure 2
Claims (1)
電ペーストを注入・硬化させて行うスルーホールプリン
ト配線板の製造法において、スルーホール孔明けした基
板(1)のスルーホール孔壁面に予め厚さ0.3〜3μ
mの銅又はニッケル膜を形成したものを使用することを
特徴とするスルーホールプリント配線板の製造法。 2 該スルーホールの孔壁面に形成する膜が銅膜である
請求項1記載のスルーホールプリント配線板の製造法。 3 該銅膜の形成を、該基板(1)のスルーホール孔の
5cm以内に蟻酸銅を保持し、圧力30Torr以下の
減圧下に165℃以上で該基板(1)の変形劣化温度以
下の範囲の所定温度に加熱し、かつ、蟻酸銅を少なくと
も温度130℃〜165℃まで間は1℃/分以上の速度
で昇温し、保持する蟻酸銅メッキ法によって行うことを
特徴とする請求項2記載のスルーホールプリント配線板
の製造法。 4 該導電ペーストが銀、銅またはカーボンペーストで
ある請求項1記載のスルーホール板の製造法。 5 該導電ペーストの注入を吸引手段を併用したスクリ
ーン印刷法にて行う請求項1記載のスルーホール板の製
造法。[Claims] 1. In a method for manufacturing a through-hole printed wiring board in which electrical connection between printed wiring layers is made by injecting and curing a conductive paste into the through-holes, a through-hole hole in a substrate (1) having through-holes formed therein. Thickness 0.3~3μ on the wall surface in advance
1. A method for manufacturing a through-hole printed wiring board, characterized in that a through-hole printed wiring board is formed using a copper or nickel film formed thereon. 2. The method for manufacturing a through-hole printed wiring board according to claim 1, wherein the film formed on the wall surface of the through-hole is a copper film. 3. The formation of the copper film is carried out by holding copper formate within 5 cm of the through-hole of the substrate (1), under a reduced pressure of 30 Torr or less, at 165° C. or higher and below the deformation deterioration temperature of the substrate (1). Claim 2, characterized in that the plating is carried out by a copper formate plating method in which copper formate is heated to a predetermined temperature of at least 130°C to 165°C at a rate of 1°C/min or more and maintained. A method of manufacturing the through-hole printed wiring board described above. 4. The method for manufacturing a through-hole board according to claim 1, wherein the conductive paste is silver, copper or carbon paste. 5. The method of manufacturing a through-hole plate according to claim 1, wherein the conductive paste is injected by a screen printing method using a suction means.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15768190A JPH0453188A (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Manufacture of through hole printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15768190A JPH0453188A (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Manufacture of through hole printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0453188A true JPH0453188A (en) | 1992-02-20 |
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JP15768190A Pending JPH0453188A (en) | 1990-06-18 | 1990-06-18 | Manufacture of through hole printed wiring board |
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JP (1) | JPH0453188A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106498465A (en) * | 2016-11-18 | 2017-03-15 | 珠海特普力高精细化工有限公司 | A kind of water-soluble conducting carbon nano-metal slurry and electrical-conductive nanometer metal carbon film bushing pipe |
-
1990
- 1990-06-18 JP JP15768190A patent/JPH0453188A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106498465A (en) * | 2016-11-18 | 2017-03-15 | 珠海特普力高精细化工有限公司 | A kind of water-soluble conducting carbon nano-metal slurry and electrical-conductive nanometer metal carbon film bushing pipe |
CN106498465B (en) * | 2016-11-18 | 2019-02-01 | 珠海特普力高精细化工有限公司 | A kind of water-soluble conducting carbon nano-metal slurry and electrical-conductive nanometer metal carbon film bushing pipe |
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