JPH04500237A - グロー放電表面処理用、特にイオン侵炭処理用の装置 - Google Patents

グロー放電表面処理用、特にイオン侵炭処理用の装置

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JPH04500237A
JPH04500237A JP1508562A JP50856289A JPH04500237A JP H04500237 A JPH04500237 A JP H04500237A JP 1508562 A JP1508562 A JP 1508562A JP 50856289 A JP50856289 A JP 50856289A JP H04500237 A JPH04500237 A JP H04500237A
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エルヴァルト,ヤン
レンブゲス,ヴォルフガング
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クレックナー イオノン ゲー.エム.ベー.ハー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 グロー放電表面処理用、特にイオン浸炭処理用の装置波 術 分 野 本発明は、一つの導電性の荷電テーブルの上に置かれた金属の被加工品にグロー 放電表面処理を施すための装置、特に、このグロー放電表面処理装置が、一つの 真空になし得る部屋の中に置かれていてかつその内部開放空間内に少なくとも一 つの荷電テーブル支持用の支持装置が設けられていると同時に荷電テーブルをグ ロー放電用電源に電気的に接続するための一つの給電装置がそこ1こ顔を出して いるような一つの炉を含んでいる、一つのイオン浸炭処理用の装置に関するもの である。
背 景 技 術 イオン浸炭処理法の技術は以前から公知のものであり、例えばすでにDE−PS  6N 639号に開示されている。炉の内部でこの処理を施すだめの安定した グロー放電を確実に行わせるために、グロー放電用の二つの電極(陽極および陰 極)は装置の他の部分から電気的に絶縁されている。また少なくともグロー放電 の行われている間は荷電テーブルは他の部分と電気的に切り離されていることが 必要である。LIS−PS 4,179,818号に開示されている、冒頭に記 した種類の装置の場合には、真空になし得る部屋の床に固着されている二つの電 気的に絶縁された支持脚の上に荷電テーブルが載せられている。そしてこれら二 つの脚の間に、一本の壁貫通リード線を経てグロー放電用電源と接続されるよう になっている一つの絶縁支持脚(SL’uLzisolator)が設けられテ イル。
ドイツ特許3101351号に開示されている装置の場合には、荷電テーブルは 同じく炉の中に電気的に絶縁されて置かれているが、それが一つの台車の一部を なしており、かつその台車が電気的に絶縁されたレールの上を動いて炉内空間に 出入りし得るようになっている。そしてこの台車がその終点位置において荷電テ ーブルを電源に接続するためのリード線に接触するようになっている。
これら公知のグロー放電表面処理装置の場合には、荷電テーブルはそれが内部開 放空間内にある限り常に電気的に絶縁された状態で支持されたままである、とい う欠点をもっている。このことは取りも直さず、本来のグロー放電処理の時間内 のみならず全処理工程期間にわたって電気絶縁体が曝露されており、従ってダス トや煤で汚れる可能性があり、そのためある程度の期間が過ぎるとあちらこちら の絶縁体でフラッシュ・オーバーが生ずるのは避けられない、ことを意味してい る。
確かに、周囲に設けられた多数の溝による隔離効果によつて絶縁体の曝露された 外表面の汚れが避けられるとする(例えばLIS−P!34.221,972号 参照)グロー放電処理装置用の絶縁体も開示されてはいるが、このような絶縁体 の場合でも、時間の経過とともに表面がダストで覆われていって、ある程度の電 気伝導度をもった層ができるのは明らかである。プラズマ浸炭処理の場合にはプ ラズマ窒化処理の場合に比べて、炉内における処理温度がセラミック材料でさえ 通常は導電性になるように温度領域にあるために、問題が一層大きくなってくる 。従って絶縁体は炉外に配置するか、あるいは冷却できるようにしておく必要が あるが、しかしこれはまた余分な問題を引き起こすこととなる。
更にその上、これまでに知られている装置の場合には、荷電テーブルを加熱する に際して、もし複数の絶縁支持脚が設けられていると避けられない、もう一つの 決定的な欠点をもっている。すなわち、荷電テーブルはその上に載せられている 被加工品とともに真空にされた部屋ないしその炉の内部の雰囲気温度まで加熱さ れる。炉内では荷電テーブルは約1000℃まで加熱されるのである。これによ って荷電テーブルは著しく膨張する。その結果、それを支えている支持脚に横方 向の荷重が掛かることとなる。冒頭に述べた種類の装置の典型的な例では、尚電 テーブルの重量はその上に載せられている被加工品をも含めると、例えば1トン 程度にも達する。すなわち、支持脚は設計次第でそれぞれ数百檀の荷重に耐えな ければならないことを意味している。荷電テーブルが熱膨張すると、上述の横方 向の荷重が更にこれに加わることとなる。その結果性々にして、支持脚に割れや 折損、ないしは横方向の亀裂を生ずることとなる。
従って冒頭に述べたような種類の装置においては、支持脚が一方では電気的に、 しかもできるだけ長期間にわたって絶縁された状態を保ちながら、他方では機械 的な荷重、なかんずく特に電荷テーブルの熱膨張の期間ならびに後に現れる収縮 の期間における横方向の荷重に対して耐えるものでなければならない、というこ とが弱点になっている。通常のセラミック材料はこのような荷重には耐えられな い。従って在来の装置の場合には、絶縁支持脚が機械的に破損したり、あるいは 電気的絶縁が劣化したりするために、比較的頻繁に支持脚を取り替えなければな らない。その結果、生産ラインをその都度、比較的長時間にわたって止めなけれ ばならないのである。
発明の開示 そこで本発明が登場することとなる。本発明は冒頭に述べたような種類の装置を 、その支持脚が遥かに長い寿命、敢えていえば実際問題としては無限の寿命を持 つように、それと同時に、絶縁体ができるだけ機械的な荷重を受けないように、 また汚れに対しても充分防護されるように、改善することを課題とするものであ る。
この課題は、給電体を少なくとも一つの、荷電テーブルの下方に端末をもつ絶縁 支持脚として構成しておくと同時に、少なくとも一つの支持脚あるいは少なくと も一つの絶縁支持脚を上下に動き得るようにしておき、それによって荷電テーブ ルが支持脚の上だけに載せられるか、あるいは絶縁支持脚の上だけに載せられる 、ようにしておくことによって解決されるのである。
本発明によれば、荷電テーブルは本来のグロー放電期間内だけ少なくとも一つの 絶縁支持脚の上に載っており、通常はこの本来のグロー放電の時間よりも長いそ の他の工程に要する時間内は荷電テーブルが少なくとも一つの支持脚に載ってい るのである。こうしておくと、支持脚自身はもはや絶縁してやる必要がなくなり 、単に機械的な荷重なかんずく特に熱膨張に際して生ずる横方向の荷重に耐えさ えすればよい、という利点が生ずる。支持脚はもはや電気的に絶縁する必要がな いので、荷電テーブルの下側と接触する支持脚の頭部の材料を自由に選択できる こととなり、この部分に接方向荷重に対して影響を受け難い材料なり構造なりを 採用し得るのである。かくして、実際問題としては全く取替えを要しない、通常 の運転では欠陥を生ずることのない支持脚が作られることとなる。
一方、絶縁支持脚自身は荷重テーブルが処理温度に達している間だけ荷電テーブ ルと接触している。従って絶縁支持脚は熱膨張に際して横方向の力が生じてもそ れを受け持つ必要はなく、すなわち機械的な横方向荷重を受けることはない。こ うすることによって絶縁支持脚を、絶縁機能をできるだけ長く正常に維持すると いう、その本来の使命に対して一層よく適合させることができる。
その上、絶縁支持脚を上下に動き得るようにしておくと、グロー放電の時間以外 は絶縁支持脚を保護された状態1こしておくことができ、グロー放電の時間外に 生ずる諸過程によってその表面が汚される恐れがなくなるのである。
かくして本発明は、支持脚および絶縁支持脚の耐用期間を大幅に延ばすことを可 能ならしめると同時に、在来の装置におけるように支持脚および絶縁支持脚を、 例えば1回ないしほんの数回のチャード毎に取替えなければならない、といった ことをなくし得るものである。かくして支持脚および絶縁支持脚の交換のために 要していた已むを得ない休止時間が不要となるばかりでな(、据付工事期間およ び資材も節約できるのである。特に本発明は、1回のチャージを処理している間 に支持脚あるいは絶縁支持脚が故障することは実際問題として起こり得ない、と いう利点をもたらす。すなわち本発明特有の利点というのは、支持脚あるいは絶 縁支持脚が故障することに基因してチャージの途中で処理工程が中断される、と いう心配が全くない、という点にある。
本発明の最もよく用いられている、すでに簡単に説明した実施例では、絶縁支持 脚が上下に動き得るようになっていて、しかもその最低の位置では、真空にされ た部屋の中にある種々のガスおよびダストによる汚染からそれを保護してくれる 一つの保護筒の中に納まっているのである。この絶縁支持脚が上方に向かって動 き出すと、まずその中間位置で荷電テーブルの下面に接触し、更に上方に動くに つれて後者を支持脚から離して上に押し上げ、その結果、荷電テーブルは絶縁支 持脚の上にだけ載った状態となる。この位置では絶縁支持脚は保護筒の外に出て おり、そのためその絶縁機能は発揮されるが、汚れる可能性がある。しかしなが らこの汚染はグロー放電の継続時間内に限られるものである。
更に絶縁支持脚を荷電テーブルの面に対して直角方向に弾力的に動き得るように しておくと非常によいことが判っている。こうしておくことによって、たとえ複 数の絶縁支持脚の上下運動のストロークが僅かながら変動したり、荷電テーブル が熱膨張のために変形したり、あるいは最初から何がしかの寸法のばらつきがあ ったりしても、全ての絶縁支持脚の頭部が電荷テーブルの下面に密着することと なるのである。
更にまた絶縁支持脚は、数セット、少なくとも2セ・ノド設けておいて、各セッ トの絶縁支持脚はそれぞれ別々に上下し得るようにしておくと非常に都合のよい ことが判った。仮に一つのセントの絶縁支持脚が、多くの場合その表面の汚れに よって生ずるのであるが、故障して動かなくな−]だとしても、そのとき丁度炉 内にあるチャージの処理ないしはこれに続く何回かのチャージの処理を中断する ことなく、他のセットの絶縁支持脚がこれに取って代わり得るのである。熱処理 工場ではしばしば起こることだが、ある一定の納期までに何チャージかを処理し 終えなければならないような場合に、このことは特に大な利点となる。
更にもう一つの案として、真空を破壊することなく通常の運転を継続しながら絶 縁支持脚を交換し得るように、それを一つのエア・ロック装置の中に設けおくこ とが提案されている。
また支持脚の頭部領域をグラファイトで作っておくと非常によいことが判ってい る。グラファイトには潤滑作用があるために、熱膨張の間に荷電テーブルに横方 向の動きが生じても、支持脚なかんずく特にグラファイト製の頭部の内部には横 方向の応力は生じないのである。
また支持脚と絶縁支持脚とを組合わせることも可能である。この場合には絶縁支 持脚が管状もしくは杯状の支持脚の中に入っている。荷電テーブルが下がった状 態では支持脚が炉ないしは真空になった部屋の床面上に出ている。一方、絶縁支 持脚の方は管状ないしは杯状の支持脚によって完全に囲まれ、保護されている。
絶縁支持脚は横方向の力を受けないように、それ自身は支持脚ないしは電荷テー ブルに一切接触しないようになっている。
絶縁支持脚が上昇する場合、杯状の支持脚はこれに伴って上昇するが、管状の支 持脚はそのまま炉ないし真空室の床面上に留まっている。こうなると支持脚の方 はもはや何の役目をも果たさなくなり、荷電テーブルはもっばら絶縁支持脚の上 に載っているのである。
発明を実施するための最良の形態 本発明のこれまでに述べた以外の利点および特徴については、残余の請求項なら びに、図面を参照しながら更に詳しく説明されていて、かつこれだけに限定され るものではない一つの実施例に関する以下の詳しい記述内容、から明らかになる であろう。
図1は、荷電テーブルが下がった位置にある場合の、炉の断面を側面から見た断 面図であり、図2は、荷電テーブルが上に上がった位置、すなわちグロー放電に よる処理が行われる位置にある場合の、図1と同様の断面図である。
真空になし得る一つの部屋(20)の内部に一つの炉の(22)が置かれており 、かつそれには、図示されていないが、通常は電気式の加熱装置が付属している 。ここに示した実施例では炉は立方体をなしている。炉には床面(24)があり 、かつその内部空間が(26)で示されている。
この内部空間には一つの荷電テーブル(28)が設けられおり、かつその上には 、この図では例として2個だけしか描かれていないが、被加工品(30)が載せ られている。
炉(22)の床面(24)に設けられている孔を貫通して、一方では一つの支持 脚(34〉の頭部領域(32)が、また他方では、後に更に詳しく説明する一つ の絶縁支持脚(3B)が顔を出している。この頭部領域(32)はグラファイト でできており、その下には一つの遮断テーブル(38)が設けられていて、図1 に示されている荷電テーブル(28〉が上に上がった位置では、それが床面(2 4)の外表面の下側に直接当たっている。更にその下の、かつ頭部領域(32) の真下に当たるところに、この支持脚(34)は1本のロッド(40)を有して おり、かつそれが一つの上昇装置(42)の一部をなしている。二〇ロッド(4 0〉、従ってまた支持脚(34)全体が、二方向の矢印(44〉で示されている ように、上下に動き得るのであって、図1にそれが上に上がった状態が示されて いる。
図1はグロー放電が行われていない状態を示している。
荷電テーブル(28)は被加工品(30)を載せたまま、図にはその内の一つだ けしか描かれていないが少なくとも3個以上設けられている支持脚(34)の上 にただ載っているのである。一方、絶縁支持脚(36)の方は図1に示すよ・う に、荷電テーブル(28)には接触しておらず、それから明らかに離れている。
絶縁支持脚(3B)は最新の技術レベルに従って作られているが、その中に軸方 向すなわち垂直方向に働く一つのばね(46)を含んでおり、それがその頭部領 域(48)を下から支えている。こうすることによって後者は二方向の矢印(5 0)で示すように上下に動き得るのであるが、図1ではこの頭部領域(48)は それに荷重が掛かっていないので一番上に上がった状態になっている。荷重が掛 かるとそれはばねの作用で下に下がる。一方、グロー放電用として一つの電源装 置(52)が設けられているが、図1に示すようにそれは絶縁支持脚(36)と は接続されていない。
FIG、2 補正書の翻訳文提出書(特許法第184条の8)1、特許出願の表示 I’CT/DE89100540 2、発明の名称 グロー放電表面処理用、特にイオン浸炭処理用の装置38 特許出m1人 名 称 クレックナー イオノン ゲー、エム、ベー。
住 所 東京都港区虎ノ門−丁目19番1o号第6セントラルビル 明 細 書 グロー放電表面処理用、特にイオン浸炭処理用の装置技 術 分 野 本発明は、請求項1の前文に記載されているような、グロー放電表面処理を施す ための装置に関するものである。
背 景 技 術 イオン浸炭処理法の技術は以前から公知のものであり、例えばすでにDE−PS  Hll 639号に開示されている。炉の内部でこの処理を施すための安定し たグロー放電を確実に行わせるために、グロー放電用の二つの電極(陽極および 陰極)は装置の他の部分から電気的に絶縁されている。また少なくともグロー放 電の行われている間は荷電テーブルは他の部分と電気的に切り離されていること が必要である。US−PS 4,179.81fi号に開示されている、習頭に 記した種類の装置の場合には、真空になし得る部屋の床に固着されている二つの 電気的に絶縁された支持脚の上に荷電テーブルが栽せられている。そしてこれら 二つの脚の間に、一本の壁貫通リード線を経てグロー放電用電源と接続されるよ うになっている一つの絶縁支持脚(5tutzlsolator)が設けられて いる。
ドイツ特許3101351号に開示されている装置の場合には、荷電テーブルは 同じく炉の中に電気的に絶縁されて置かれているが、それが一つの台車の一部を なしており、かつその台車が電気的に絶縁されたレールの上を動いて炉内空間に 出入りし得るようになっている。そしてこの台車がその終点位置において荷電テ ーブルを電源に接続するためのリード線に接触するようになっている。
これら公知のグロー放電表面処理装筺の場合には、荷電テーブルはそれが内部開 放空間内にある限り常に電気的に絶縁された状態で支持されたままである、とい う欠点をもっている。このことは取りも直さず、本来のグロー放電処理の時間内 のみならず全処理工程期間にわたって電気絶縁体が曝露されており、従ってダス トや煤で汚レル可能性があり、そのためある程度の期間が過ぎるとあちらこちら の絶縁体でフラッシュ・オーバーが生ずるのは避けられない、ことを意味してい る。
確かに、周囲に設けられた多数の溝による隔離効果によって絶縁体の曝露された 外表面の汚れが避けられるとする(例えばUS−PS 4.221.972号ツ 照)グロー放電処理装置用の絶縁体も開示されてはいるが、このような絶縁は横 方向の亀裂を生ずることとなる。
従って口頭に述べたような種類の装置においては、支持脚が一方では電気的に、 しかもできるだけ長期間にわたって絶縁された状聾を保ちながら、他方では機械 的な荷重、なかんずく特に電荷テーブルの熱膨張の期間ならびに後に現れる収縮 の期間における横方向の荷重に対して耐えるものでなければならない、というこ とが弱点になっている。通常のセラミック材料はこのような荷重には耐えられな い。従って在来の装置の場合には、絶縁支持脚が機械的に破損したり、あるいは 電気的絶縁が劣化したりするために、比較的頻繁に支持脚を取り替えなければな らない。その結果、生産ラインをその都度、比較的長時間にわたって止めなけれ ばならないのである。
発明の開示 そこで本発明が登場することとなる。本発明は冒頭に述べたような種類の装置を 、その支持脚が遥かに長い寿命、敢えていえば実際問題としては無限の寿命を持 つように、それと同時に、絶縁体ができるだけ機械的な荷重を受けないように、 また汚れに対しても充分防護されるように、改筈することを2!!!題とするも のである。
にしておき、それによって荷電テーブルが少なくとも一層 1へ【1町L≦≦1」(辷IリーΣコ]ユツ湾にユ孟も一つの絶縁支持脚の頭部 領域の上に載せられる、よにうにしておくことによって解決されるのである。
本発明によれば、荷電テーブルは本来のグロー放電期間内だけ少なくとも一つの 絶縁支持脚の上に載っており、通常はこの本来のグロー放電の時間よりも長いそ の他の工程に要する時間内は荷電テーブルが少なくとも一つの支持脚に載ってい るのである。こうしておくと、支持脚自身はもはや絶縁してやるy要がなくなり 、単1こ機械的な荷重なかんずく特に熱膨張に際して生ずる横方向の荷重に耐え さえすればよい、という利点が生ずる。支持脚はもはや電気的に絶縁する必要が ないので、荷電テーブルの下側と接触する支持脚の頭部の材料を自由に選択でき ることとなり、この部分に横方向荷重に対して影響を受け難い材料なり構造なり を採用し得るのである。かくして、実際問題としては全く取替えを要しな(1、 通常の運転では欠陥を生ずることのない支持脚が作られることとなる。
一方、絶縁支持脚自身は荷重テーブルが処理温度1;違している間だけ荷電テー ブルと接触している。従って絶縁支持脚は熱膨張に際して横方向の力が生じても それを受け持つ必要はなく、すなわち機械的な横方向荷重を受けることはない。
こうすることによって絶縁支持脚を、絶縁機能をできるだけ長く正常に維持する と0う、その本来の使命に対して一層よく適合させることができる。
請求の範囲 1. 一つの工″↓空になし得る部i (20)の中に置かれてい−rかつその 内部開放空間(26)内に一つの荷電テーブル(28)支持用の少なくとも一つ の支持脚(34)が設けられていると同時に荷電デープル(28ンをグロー放電 用電源に電気的に接続するための一つの給電装置がそこに顔を出しているような 一つの炉(24)を用いて、前述の荷重テーブル(28)の上に置かれた金属の 被加工品り30)にグロー放電表面処理を施すための装置であって、 該給電装置が少なくとも一つの、該電荷テーブルク28)の下方に端末をもつ絶 縁支持脚の頭部領域(48)に接続されていると同時に、少なくとも一つの支持 脚(34)あるいは少なくとも一つの絶縁支持脚(36)を上下に動き得るよう にしておき、それによって荷電テーブル(28)か少なくとも一つの支持脚(3 4)の上だけに載せられるか、あるいは少なくとも一つの絶縁支t、+7脚(3 6)の頭部領域(48)の上に載せられるようになっている、ことを特徴とする グロー放電表面処理用の装置。
2、 少なくとも一つの支持脚(34)が導電性であることを特徴とする請求項 ]に記載された装置。
3、 少なくとも一つの支持脚の頭部領域(32)がグラファイトでできている ことを特徴とする請求項2に2詰。
されたvc置。
4、 少なくとも一つの絶縁支持脚(36)が上下に動き得るとともに、それを 保護する一つの保3筒を有しており、前者が下に下がった位置ではそれが前者を 取り囲んで保護する一方、前者が上に上がった位置では前者がそれから抜は出し て露出することを特徴とする請求項1から3までのいずれか一つの項に記載され た装置。
5、 該絶縁支持脚(3G)が数セット設けられており、かつ各セットがそれぞ れ別々に上下に動き得るようになっていることを特徴とする請求項1から4まで のいずれか一つの項に記載された装置。
6、少なくとも一つの支持脚り34)および少なくとも一つの絶縁支持脚(36 )が少なくともその頭部領域<32.48>において、その軸が荷電テーブル( 28)の平面に対して直角の方向に向いていることを特徴とする請求項1から5 までのいずれか一つの項に記載された装置。
7、 少なくとも一つの絶縁支持脚(36)が荷電テーブル(28)に対して直 交する方向で弾力的に支えられている一つの頭部領域(48)を有することを特 徴とする請求項1から6までのいずれか一つの項に記載された装置。
8、少なくとも三つの絶縁支持脚(3G)および/あるいは少なくとも三つの支 持脚(34)が設けられていることを特徴とする請求項1に記載された装置。
9、 それがプラズマ浸炭処理用の装置として作られて国際調査報告 国際調査報告

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一つの導電性の荷電テーブル(28)の上に置かれた金属の被加工品(30 )にグロー放電表面処理を施すための装置、なかんずく特に、このグロー放電表 面処理装置が、一つの真空になし得る部屋(20)の中に置かれていてかつその 内部開放空間(26)内に荷電テーブル(28)支持用の少なくとも一つの支持 脚(34)が設けられていると同時に荷電テーブル(28)をグロー放電用電源 に電気的に接続するための一つの給電装置がそこに顔を出しているような一つの 炉(24)を含んでいる、一つのイオン浸炭処理用の装置であって、 該給電装置を少なくとも一つの、荷電テーブル(28)の下方に端末をもつ絶縁 支持脚として構成しておくと同時に、少なくとも一つの支持脚(34)あるいは 少なくとも一つの絶縁支持脚(36)を上下に動き得るようにしておき、それに よって荷電テーブル(28)が少なくとも一つの支持脚(34)の上だけに載せ られるか、あるいは少なくとも一つの絶縁支持脚(36)の上だけに載せられる ようになっている、ことを特徴とするグロー放電表面処理用の装置。
  2. 2.少なくとも一つの支持脚(34)が導電性であることを特徴とする、請求項 1に記載された装置。
  3. 3.少なくとも一つの支持脚の頭部領域(32)がグラファイトでできているこ とを特徴とする、請求項2に記載された装置。
  4. 4.少なくとも一つの絶縁支持脚(36)が上下に動き得るとともに、それを保 護する一つの保護筒を有しており、前者が下に下がった位置ではそれが前者を取 り囲んで保護する一方、前者が上に上がった位置では前者がそれから抜け出して 露出することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか一つの項に記載され た装置。
  5. 5.該絶縁支持脚(36)が数セット設けられており、かつ各セットがそれぞれ 別々に上下に動き得るようになっていることを特徴とする、請求項1から4まで のいずれか一つの項に記載された装置。
  6. 6.少なくとも一つの支持脚(34)および少なくとも一つの絶縁支持脚(36 )が少なくともその頭部領域(32,48)において、その軸が荷電テーブル( 28)の平面に対して直角の方向に向いていることを特徴とする、請求項1から 5までのいずれか一つの項に記載された装置。
  7. 7.少なくとも一つの絶縁支持脚(36)が荷電テーブル(28)に対して直交 する方向で弾力的に支えられている一つの頭部領域(48)を有することを特徴 とする、請求項1から6までのいずれか一つの項に記載された装置。
  8. 8.少なくとも三つの絶縁支持脚(36)および/あるいは少なくとも三つの支 持脚(34)が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載された装置。
JP1508562A 1988-08-18 1989-08-17 グロー放電表面処理用、特にイオン侵炭処理用の装置 Pending JPH04500237A (ja)

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