JPH0449594A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH0449594A
JPH0449594A JP2157573A JP15757390A JPH0449594A JP H0449594 A JPH0449594 A JP H0449594A JP 2157573 A JP2157573 A JP 2157573A JP 15757390 A JP15757390 A JP 15757390A JP H0449594 A JPH0449594 A JP H0449594A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、例えば、電流ミラ
ー型のメインアンプと、メモリアレイの指定される相補
ビット線を択一的に上記メインアンプに接続する相補共
通データ線(コモンI10線)とを備えるダイナミック
型RAM(ランダムアクセスメモリ)等に利用して特に
有効な技術に関するものである。
(従来の技術〕 CMO5(相補型MO3)からなる電流ミラー型のメイ
ンアンプと、メモリアレイの指定される相補ビット線を
択一的に上記メインアンプに接続する相補共通データ線
とを備えるダイナミ7り型RAMがある。
このようなダイナミック型RAMにおいて、メモリアレ
イの選択されたメモリセルから対応する相補ビット線に
出力される読み出し信号は、センスアンプの対応する単
位増幅回路によって増幅された後、相補共通データ線を
介してメインアンプに伝達され、さらに増幅される。
電流ミラー型のメインアンプを備えるダイナミック型R
AMについて、例えば、1989年2月17日イ寸rア
イ・ニス・ニス・シー・シー(IsSCC:Inter
national  5olid−3tate  C1
rcaits Conference )ダイジェスト
 オブ テクニカル ベーバーズ(Digest Of
 TechnicalPapers )セツション(S
ession) I 6 J第250頁〜第251頁に
記載されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記に記載されるような従来のダイナミック型RAMに
おいて、相補共通データ線は、メモリアレイのすべての
相補ビット線と交差すべく比較的長い距離にわたって配
置され、さらにメモリアレイの外部に配置されるメイン
アンプ等に結合される。このため、相補共通データ線に
は、メモリアレイを構成する相補ビット線の数に比例し
た比較的大きな寄生容量が結合され、さらに、第4図に
示されるように、メインアンプまでの距離に比例した比
較的大きな寄生容量CJが結合される。これらの寄生容
量の値は、ダイナミック型RAMの高築積化及び大容量
化が進むにしたがって大きくなり、ダイナミック型RA
Mの読み出し動作の高速化を妨げる一因となっている。
これに対処するため、メモリアレイをいくつかに分割し
、各相補共通データ線に接続される相補ピント線の数を
実質的に削減する方法や、メインアンプを複数段に分割
し、各段のメインアンプの間に例えばCMO5からなる
アナログスイッチを設ける方法が提案されている。しか
し、前者の場合、メモリアレイの分割数に制限があり、
また、後者の場合、アナログスイッチが閉じた時点で各
段の寄生容量に応したチャージシェアが生じることから
、ダイナミック型RAMの読み出し動作を充分に高速化
するまでには至らない。
この発明の目的は、ダイナミック型RAM等の相補共通
データ線における読み出し信号の伝達速度を高速化しつ
つ、相補共通データ線の実質的な寄生容量を削減するこ
とにある。
この発明の他の目的は、ダイナミック型RAM等の読み
出し動作を高速化し、そのアクセスタイムを高速化する
ことにある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
このIgi細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
C課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、メインアンプの前段に、メモリアレイに近接
して配置され、かつそのゲートがメモリアレイ側の相補
共通データ線に結合されそのソースがメインアンプ側の
相補共通データ線に結合されさらにそのドレインが対応
する電流制限MO3FETを介して回路の接地電位に結
合されるPチャンネル型の一対の容量カットMOSFE
Tと、そのゲートがメモリアレイ側の相補共通データ線
に結合されそのソースがメインアンプ側の相補共通デー
タ線に結合されさらにそのドレインが回路の電源電圧に
結合されるNチャンネル型の一対の中継MO3FETと
、所定の書き込み制御信号に従って選択的にオン状態と
されメインアンプからメインアンプ側の相補共通データ
線を介して供給される書き込み信号をメモリアレイ側の
相補共通データ線に伝達する一対の書き込みMOSFE
Tとを含む分離中継回路を設けるとともに、メモリアレ
イ側の相補共通データ線を回路の電源電圧及び接地電位
のほぼ中間電位にプリチャージし、メインアンプ側の相
補共通データ線をメモリアレイ側の相補共通データ線の
上記プリチャージレベルより少なくとも上記容量カット
MO3FETのしきい値電圧分高い電位にプリテャージ
する。
〔作 用〕
上記した手段によれば、読み出し信号のチャージシェア
を防止しつつ、メインアンプ側の相補共通データ線の寄
生容置及び配線抵抗からメモリアレイ側の相補共通デー
タ線を解放し、相補共通データ線における読み出し信号
の伝達速度を高速化することができる。その結果、ダイ
ナミック型RAMの読み出し動作を高速化し、そのアク
セスタイムを高速化することができる。
〔実施例〉 第2図には、この発明が適用されたダイナミック型RA
Mの一実施例のブロック図が示されている。また、第1
図には、第2図のダイナミック型RAMの分離中継回路
及びその周辺回路の一実施例の回路図が示され、第3図
には、その読み出しモードにおけるタイミング図の一例
が示されている。これらの図をもとに、この実施例のダ
イナミック型RAMの構成と動作の概要ならびにその特
徴について説明する。なお、第1図の各回路素子ならび
に第2図の各ブロックを構成する回路素子は、公知の半
導体集積回路の製造技術によって、特に制限されないが
、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上において
形成される。以下の回路図において、そのヂャンネル(
パンクゲート)部に矢印が付されるMOSFET <金
属酸化物半導体型電界効果トランジスタ、この明細書で
は、MOSFETをして絶縁ゲート型電界効果トランジ
スタの総称とする)はPチャンネル型であり、矢印の付
されないNチャンネルMOSFETと区別して表示され
る。
第2図において、ダイナミック型RAMは、特に制限さ
れないが、いわゆるシェアドセンス方式を採り、センス
アンプSAをはさんで配置される一対のメモリアレイM
ARYL及びMARYRをその基本構成とする。
メモリアレイMARYL及びMARYRは、特に制限さ
れないが、第1図に示されるように、垂直方向に平行し
て配置されるm十1本のワード線WO〜Wmと、水平方
向に平行して配置されるn+1組の相補ビット線flO
〜Bn(ここで、例えば非反転ビット線BOPと反転ビ
ット線BONをあわせて相補ビット線fiOのように表
す。また、非反転信号及び非反転信号線にはその信号名
の末尾にPを付し、反転信号及び反転信号線にはNを■
0 付して表す。以下、相補fa号及び相補信号線について
同様)とをそれぞれ含む。これらのワード線及び相補ビ
ット線の交点には、情報蓄積用キャパシタCs及びアド
レス選択用MO3FETQaからなる(m+1)X (
n+1)個のダイナミック型メモリセルが格子状に配置
される。
メモリアレイMARYL及びMARYRの同一の列に配
置されるm↑1個のメモリセルのアドレス選択用M O
S F E T Q aのドレインは、対応する相補ビ
ット縁立0〜Bnの非反転又は反転信号線に所定の規則
性をもって交互に結合される。また、同一の行に配置さ
れるH+1個のメモリセルのアドレス選択用M OS 
F E T Q aのゲートは、対応するワード線WO
〜Wmにそれぞれ共通結合される。メモリアレイMAR
YL及びMARYRのすべてのメモリセルの情報蓄積用
キャパシタC3の他方の電極には、特に制限されないが
、電源電圧VDLの二分の−の電位とされるプレート電
圧すなわち内部電圧HVDが共通に供給される。
この実施例において、電源電圧VDLは、特に制限され
ないが、ナ363■のような正の電源電圧とされる。し
たがって、上記プレート電圧すなわち内部電圧HVDは
、はぼ+1.65 Vとなる。
メモリアレイMARYL及びMARYRを構成するワー
ド線W O−W mは、対応するロウアドレスデコーダ
RADL及びRADRにそれぞれ結合され、択一的に選
択状態とされる。
ロウアドレスデコーダRADL及びRADRには、特に
制限されないが、ロウアドレスバッファRABから最上
位ピントを除くiビットの相補内部アドレス信号axO
〜axi−1が共通に供給され、タイミング発注回路T
Gからタイミング信号φXβ及びφxrがそれぞれ供給
される。また、ロウアドレスバッファRABには、アド
レス入力端子AO〜Aiを介して、ロウアドレス信号す
なわちXアドレス信号AXO〜AXiが時分割的に供給
され、リフレッシュアドレスカウンタRFCからリフレ
ッシュアドレス16号arQ〜artが供給される。ロ
ウアドレスデコーダRADには、さらにタイミング発生
回路TGから、タイミング信号φar及びφ「fが供給
される。ここで、タイミング信号φxJ及びφxrは、
特に制限されないが、第3図に示されるように、ロウア
ドレスストローブ信号RASNがロウレベルとされてか
ら例えばXアドレス信号AXO〜AXiの取り込みに要
する所定の時間が経過した時点で、最上位ビットの相補
内部アドレス信号axiに従って選択的にハイレベルと
される。
ロウアドレスデコーダRADLは、特に制限されないが
、上記タイミング信号φxlがハイレベルとされること
で、選択的に動作状態とされる。
この動作状態において、ロウアドレスデコーダRADL
は、相補内部アドレス信号axO〜aXilをデコード
し、メモリアレイMARYLの対応するワード線WO〜
Wmを択一的にハイレベルの選択状態とする。同様に、
ロウアドレスデコーダRADRは、タイミング信号φX
「がハイレベルとされることで選択的に動作状態とされ
、相補内部アドレス信号axQ〜axi−1に従ってメ
モリアレイMARYRの対応するワード線WO〜Wmを
択一的にハイレベルの選択状態とする。
ロウアドレスバッファRABは、特に制限されないが、
ダイナミック型RAMが通常の動作モードとされ上記タ
イミング信号φrfがロウレベルとされるとき、アドレ
ス入力端子AO〜Aiを介して時分割的に供給されるX
アドレス信号AXO〜AXiをタイミング信号φarに
従って取り込み、またダイナミック型RAMがリフレッ
シュモードとされタイミング信号φrfがハイレベルと
されるとき、リフレッシュアドレスカウンタRFCから
供給されるリフレッシュアドレス信号arO〜arcを
取り込む、そして、これらのロウアドレス信号をもとに
、相補内部アドレス信号axO〜axiを形成する。こ
のうち、最上位ビットの相補内部アドレス信号axiは
、特に制限されないが、タイミング発住回W&TGに供
給され、他の相補内部アドレス信号axQ〜axi−1
は、前述のように、ロウアドレスデコーダRADL及び
RADRに共通に供給される。
リフレッシュアドレスカウンタRFCは、特に制限され
ないが、ダイナミック型RAMがリフレッシュモードと
されるとき、上記タイミング信号φrcに従って歩進動
作を行い、上記リフレッシュアドレス信号arO”ar
iを形成して、ロウアドレスバッファRABに供給する
一方、メモリアレイMARYを構成する相補ビット線i
0〜旦nは、センスアンプSAの対応する単位回路に結
合される。
センスアンプSAは、メモリアレイMARYL及びMA
RYRの相補ビット縁立0〜Bnに対応して設けられる
y1+1個の単位回路を含む、これらの単位回路は、特
に制限されないが、第1図に示されるように、単位増幅
回路USA及び単位プリチャージ回路UPCと、Nチャ
ンネル型の二対のシェアドMOSFETQ3 B及びQ
39ならびにQ45及びQ46と、Nチャンネル型の一
対のスイッチMO3FETQ40及びQ41とをそれぞ
れ含む。
このうち、一方のシェアドMOSFETQ45及びQ4
6のゲートには、タイミング発生回路TGからタイミン
グ信号φslが共通に供給され、他方のシェアドMO3
FETQ3 B及びQ39のゲートには、タイミング信
号φsrが共通に供給される。シェアドMOSFETQ
45及びQ38の共通結合されたノードは、各単位回路
の非反転入出力ノード5OP−5nPとされ、シェアド
MO3FETQ46及びQ39の共通結合されたノード
は、各単位回路の反転入出力ノードSON〜SnNとさ
れる。ここで、タイミング信号φ31及びφ3rは、特
に制限されないが、第3図に示されるように、ダイナミ
ック型RAMが選択状態とされロウアドレスバッファR
ABにXアドレス信号AXO〜AXiが取り込まれる時
点で、最上位ピントの相補内部アドレス信号上xiに従
つて選択的にハイレベルとされる。
センスアンプSAのシェアドMOSFETQ45及びQ
46ならびにQ38及びQ39は、対応する上記タイミ
ング信号φ31又はφ3rがハイレベルとされることで
、選択的にオン状態とされる。その結果、メモリアレイ
MARYL又はMARYRの相補ビット線i0〜旦nが
、センスアンプSAの対応する単位回路の相補入出力ノ
ード盈0〜Snに選択的に接続される。
次に、センスアンプSAの単位増幅回路USAは、侍に
制限されないが、第1図に示されるように、Pチャンネ
ルM OS F F、 T Q 2及びNチャンネルM
OSFETQ22ならびにPチャンネルMOSFETQ
3及びNチャンネルMO3FETQ23からなる一対の
CMOSインバータ回路を含む。これらのインバータ回
路は、その入力端子及び出力端子が互いに交差接続され
ることで、それぞれランチ形態とされる。これらのラッ
チ回路には、特に制限されないが、Pヂャンネル型の駆
動MO3FETQIならびにコモンソース線spを介し
て、回路の電源電圧が選択的に供給され、Nチャンネル
型の駆動MO3FETQ21ならびにコモンソース線S
Nを介して、回路の接地電位が選択的に供給される。各
ラッチ回路の非反転及び反転入出力ノードは、対応する
単位回路の非反転入出力ノード5OP−3nP又は反転
入出力ノ−ド5ON=SnNにそれぞれ結合される。
駆動MO3FETQ21のゲートには、特に制限されな
いが、タイミング発生回路TGからタイミング信号φp
aが供給され、駆動MOS F ETQlのゲートには
、タイミング信号φpaのインバータ回路Nlによる反
転信号が供給される。コモンソースasp及びSNの間
には、特に制限されないが、Nチャンネル型の3個のプ
リチャージMOSFETQ36〜Q3Bが設けられる。
これらのMOSFETのゲートには、上記タイミング信
号φpaのインバータ回路N2による反転信号が共通に
供給され、MOSFETQ37及びQ38の共通結合さ
れたノードには、上記内部電圧HVDが供給される。こ
こで、タイミング信号φpaは、特に制限されないが、
第3図に示されるように、ダイナミック型RAMが選択
状態とされ選択されたメモリセルの微小読み出し信号が
対応する相補ビット縁立0〜3nに出力される時点で、
選択的にハイレベルとされる。
ダイナミック型RAMが非選択状態とされタイミング信
号φpaがロウレベルとされるとき、センスアンプSA
では、プリチャージMO3FETQ36〜Q38がオン
状態となり、コモンソース線SP及びSNが内部電圧H
VDにプリチャージされる。そして、ダイナミック型R
AMが選択状態とされタイミング信号φpaがハイレベ
ルとされると、まずコモンソース線SP及びSNのプリ
チャージが解かれ、駆動MO3FETQI及びQ21を
介して、回路の電源電圧VDL及び接地電位VSSがす
べての単位増幅回路USAに供給される。その結果、第
3図に示されるように、メモリアレイMARYL又はM
ARYRの選択されたワード線に結合されるn+1個の
メモリセルから対応する相補ビット縁立0〜gnすなわ
ちセンスアンプSAの各単位回路の相補入出力ノードi
0〜Snに出力された微小読み出し信号が、回路の電源
電圧VDL及び接地電位VSS間にフルスイングされる
べく増幅される。
一方、センスアンプSAの各単位プリチャージ回路UP
Cは、特に制限されないが、各単位回路の非反転及び反
転入出力ノード間に直並列形態に設けられるNチャンネ
ル型の3個のプリチャージMOSFETQ42〜Q44
を含む。これらのプリチャージMO3FETのゲートに
は、タイミング発生回路TGからタイミング信号φpc
lが共通に供給され、MOSFETQ42及びQ43の
共通結合されたノードには、上記内部電圧HVDが供給
される。ここで、タイミング信号φpclは、特に制限
されないが、第3図に示されるように、aSハイレベル
とされ、ロウアドレスストローブ信号RASNがロウレ
ベルとされダイナミック型RAMが選択状態とされると
き、所定のタイミングでロウレベルとされる。
単位プリチャージ回路UPCのプリチャージMOSFE
TQ42〜Q44は、上記タイミング信号φpclがハ
イレベルとされることで、選択的にオン状態とされる。
その結果、センスアンプSAの対応する単位回路の相補
入出力ノードSO〜Snが、内部電圧HVDのようなハ
ーフプリチャージレベルとされる。
工9 センスアンプSAの各単位回路は、前述のように、さら
にNチャンネル型の一対のスイッチMOSFETQ40
及びQ41を含む。これらのMOSFETの一方は、セ
ンスアンプSAの対応する単位回路の非反転入出力ノー
ド5OP−5nP又は反転入出力ノード5ON−5nN
にそれぞれ結合され、その他方は、相補共通データ線C
D(第1の相補共通データ線)の非反転又は反転信号線
に共通結合される。また、上記スイッチMO3FETの
ゲートには、後述するカラムアドレスデコーダCADか
ら、対応するカラム選択信号YSO〜YSnがそれぞれ
供給される。ここで、カラム選択信号YSO〜YSnは
、通常すべてロウレベルとされ、ダイナミック型RAM
が選択状態とされるとき、Yアドレス信号AYO〜AY
iに従って択一的にハイレベルとされる。
センスアンプSAのスイッチMO3FETQ40及びQ
41は、上記カラム選択信号YSO〜YSnが択一的に
ハイレベルとされることで、選択的にオン状態とされる
。その結果、センスアンプSAの対応する単位回路の相
補入出力ノードi0〜Snが、言い換えるならばメモリ
アレイMARYL又はMARYRの指定されたー・組の
相補ピント縁立0〜旦nが、さらに相補共通データ縁立
りに選択的に接続される。
I!J2図において、カラムアドレスデコーダCADに
は、特に制限されないが、カラムアドレスバッファCA
Bから1+1ビツトの相補内部アドレス信号ayQ〜a
yiが供給され、またタイミング発生回路TGからタイ
ミング信号φyが供給される。このうち、相補内部アド
レス?i号ayQ〜ayiは、アドレス遷移検出回路A
TDにも供給される。ここで、タイミング信号φyは、
特に制限されないが、第3図に示されるように、後述す
るアドレス遷移検出回路ATDの出力信号すなわちタイ
ミング信号φatが一時的にハイレベルとされさらにロ
ウレベルに戻された時点で、ハイレベルとされる。
カラムアドレスデコーダCADは、上記タイミング信号
φyがハイレベルとされることで、選択的に動作状態と
される。この動作状態において、カラムアドレスデコー
ダCADは、相補内部アドレス信号ayO=a)”をデ
コードし、対応する上記カラム選択信号yso〜YSn
を択一的にハイレベルとする。
アドレス遷移検出回路ATDは、カラムアドレスバッフ
ァCABから供給される相補内部アドレス信号ayQ〜
ayiをモニタし、これらの相補内部アドレス信号が1
ビツトでも変化されたことを検出して、その出力信号す
なわちタイミング信号φatを一時的にハイレベルとす
る。このタイミング信号φatは、タイミング発生回路
TGに供給される。
カラムアドレスバッファCABは、特に制限されないが
、アドレス入力端子AO=Aiを介して時分割的に供給
されるYアドレス信号AYO−AYiを、タイミング発
生回路TGから供給されるタイミング信号φacに従っ
て取り込み、保持する。また、これらのYアドレス信号
をもとに、上記相補内部アドレス信号ayQ〜ayiを
形成して、カラムアドレスデコーダCAD及びアドレス
遷移検出回路ATDに供給する。
センスアンプSAの指定された単位回路すなわちメモリ
アレイMARYL又はMARYRの指定された相補ビッ
ト線が択一的に接続される相補共通データ縁立りは、分
離中継回路SRCに結合される0分離中継回路SRCの
相補出力端子は、相補共通データ線SD(第2の相補共
通データ線)を介して、メインアンプMAに結合される
。この実施例において、メインアンプMAは、センスア
ンプSAつまりメモリアレイMARYL及びMARYR
から比較的長い距離をおいて配置される。
また、分離中継回路SRCは、センスアンプSAから分
離中継回路SRCまでの相補共通データ線C,Dの配線
長が充分に短いものとなるように、センスアンプSAつ
まりメモリアレイMARYL及びMARYRに近接して
配置される。このため、相補共通データ線上りは、比較
的長い距離にわたって配置されることとなり、比較的大
きな値の寄生容量Clが結合されるものとなる。その結
果、分離中継回路SRCは、いわゆる容量カット回路と
して機能し、相補共通データ4111SDに結合される
比較的大きな寄生容量CAから相補共通データ線CDを
解放する作用を持つ。
分離中継回路SRCには、タイミング発生回路TGから
タイミング信号φ1)C2及び反転タイミング信号φw
Nが供給される。また、メインアンプMAには、タイミ
ング信号φpc3.  φW、φms及びφmaが供給
される。ここで、タイミング信号φPC2は、第3図に
示されるように、ダイナミ7り型RAMが選択状態とさ
れるとき、所定のタイミングでハイレベルとされ、タイ
ミング信号φpc3は、逆に所定のタイミングでロウレ
ベルとされる。また、タイミング信号φWは、ダイナミ
ック型RAMが書き込みモードで選択状態とされるとき
、所定のタイミングで一時的にハイレベルとされ、反転
タイミング信号φwNは、上記タイミング信号φ豐の反
転他号とされる。さらに、タイミング信号φmsは、特
に制限されないが、第3図に示されるように、ダイナミ
ック型HAMが読み出しモードで選択状態とされる当初
においてハイレベルとされ、タイ気ング(g号φmaは
、タイミング信号φatが一時的にハイレベルとされた
後、言い換えるならばメモリアレイMARYL又はMA
RYRの指定された相補ビット線が相補共通データ縁立
りに択一的に接続された時点で、−時的にハイレベルと
される。
分離中継回路SRCは、特に制限されないが、第1図に
示されるように、そのゲートが相補共通データ縁立りの
算反転及び反転信号線にそれぞれ結合される一対のPチ
ャンネルMOSFETQ4及びC5を含む。これらのM
OSFETのソースは、分離中継回路SRCの相補出力
端子すなわち相補共通データ線−≦−りの非反転及び反
転信号線にそれぞれ結合され、そのドレインは、ともに
対応するNチャンネルMO3FETQ24及びC25を
介して回路の接地電位VSS <第2の電源電圧)に結
合される。MO3FETQ24及びC25のゲートは、
回路の電源電圧VDL (第1の電源電圧)に結合され
る。これにより、MOSFETQ4及びQ5は、いわゆ
る容置カットMO3FE1゛として作用し、MO3FE
TQ24及びQ25は、これらの容にカントM OS 
F E T’に対する電流制限M OS F E ’l
”として作用する。
分離中MIilil路SRCは、さらに相補共通データ
縁立りの非反転及び反転信号線と相補共通データ線SD
の非反転及び反転信号線との間にそれぞれ設けられるP
チャンネル型の一対の書き込みMOSFETQ6及びQ
7と、相補共通データ線SVの非反転及び反転信号線と
回路の電#l電圧との間にそれぞれ設けられるNチャン
ネル型の一対の中継MO5FBTQ26及びQ27とを
含み、加えて相補共通データ縁立りの非反転及び反転信
号線間に直並列形!I4に設けられるPチャンネル型の
3個のプリチャージMO5FI5TQl 6〜Q18を
含む、このうち、暑き込みMO3FETQ6及びQ7の
ゲートには、上記反転タイミング信号φWN ([き込
み制御信号)が共通に供給され、中継MO5Fε”l’
Q2&及びQ27のゲートは、4@補共通データ線旦り
の非反転及び反転信号線にそれぞれ結合される。また、
プリチャージMO3FETQ16〜Q18のゲートには
、上記タイミング信号φpc’lが共通に供給され、M
OSFETQ16及びQ17の共通結合されたノードに
は、上記内部電圧HVDが供給される。
メインアンプMAは、特に制限されないが、第1図に示
されるように、相補共通データ線SDの非反転及び反転
信号線と回路の電源電圧VDLとの間にそれぞれ設けら
れるNチャンネル型の一対のプリチャージMOSFET
Q47及びQ48を含み、またデータ人力バッファDI
Bから出力される相補書き込み信号旦Iを相補共通デー
タ縁立りに伝達するNチャンネル型の一対の署き込みM
OSFETQ49及びQ50を含む。
このうち、プリチャージMO3FETQ47及びQ48
のゲートには、上記タイミング信号φpC3が共通に供
給される。これにより、プリチャージMOSFETQ4
7及びQ48は、ダイナミック型RAMが非選択状態と
されタイミング信号φpc3がハイレベルとされること
で、選択的に2 °l オン状態とされる。その結果、相補共通データ線SDの
非反転及び反転信号線が、ともに回路の電m電圧VDL
よりMOSFETQ47及びQ48のしきい値電圧V2
O3分だけ低い電位にプリチャージされる。その結果、
後述する初段メインアンプFMAの感度が高められ、メ
インアンプMAの増幅動作が高速化される。
一方、メインアンプMAの書き込みMOSFETQ49
及びQ50のゲートには、上記タイミング信号φWが共
通に供給される。これにより、書き込みMOSFETQ
49及びQ50は、グイナミ7り型RAMが書き込みモ
ードで選択状態とされタイミング信号φWがハイレベル
とされることで、選択的にオン状態とされる。その結果
、データ人力バッファDIBから出力された相補書き込
み信号−仄Iが、これらの書き込みMOSFETを介し
て相補共通データl4js Dに伝達される。相補共通
データ線−3Dに伝達された相補書き込み信号は、前述
のように、反転タイミング信号φwNがロウレベルとさ
れるとき、分離中継回路SRCの書き込みMOSFET
Q6及びQ7を介して相補共通データ線CDに伝達され
、さらにメモリアレイMARYL又はMARYRの選択
されたメモリセルに書き込まれる。
メインアンプMAは、特に制限されないが、さらに直列
接続される一対の電流ミラー型増幅回路すなわち初段メ
インアンプFMA及び次段メインアンプSMAと、ナン
トゲート回路NAI及びNA2を基本構成とする出力ラ
ンチOLを含む、このうち、初段メインアンプFMAは
、ダイナミック型RAMが読み出しモードで選択状態と
される当初において、タイミング信号φmsがハイレベ
ルとされることでスタンバイ状態とされ、さらにタイミ
ング信号φmaがハイレベルとされることで、本格的な
増幅動作を開始する。同様に、次段メインアンプSMA
は、上記タイミング信号φmaがハイレベルとされるこ
とで、その増幅動作を開始し、初段メインアンプFMA
の相補出力信号FMをさらに増幅する。そして、出力ラ
ンチOLは、上記タイミング信号φmaがハイレベルと
されることで、上記次段メインアンプSMAの相補出力
信号SMを取り込み、保持するとともに、メインアンプ
MAの相補出力(i号MOとして、データ出力ハソフプ
DOBに伝達する。
ダイナミック型RAMが非選択状態とされるとき、前述
のように、クイーング信号φpc2はロウレー、ルとさ
れ、分離中継回路SRCのプリチャージMOSFETQ
16〜Q18かオン状態となる。このため、相補共通デ
ータ線CVの非反転及び反転信号線は、第3図に示され
るように、ともに内部電圧1(VDすなわち回路の電源
電圧VDL及び接地電位vSSのほぼ中間電位にプリチ
ャージされる。このとき、メインアンプMAでは、前述
のように、Nチャンネル型のプリチャージMO5FE’
I’Q47及びQ48がオン状態となり、相補共通デー
タ線SDの非反転及び反転信号線が回路の電源電圧VD
LよりMOSFETQ47及びQ4Bのしきい値電圧V
THN分だけ低い、言い換えるならば上記内部亀fEH
VDより容置カットMOS F B TQ 4及びQ5
のしきい(lki4圧VTHPだけ高い所定の電位にプ
リチャージされる。
ところで、この実施例のダイナミック型RAMにおいて
、回路の電源電圧VDL及び接地電位vSS間の電位差
は、前述のように、+3.3 Vとされ、@3図に示さ
れるように、はぼNチャンネルMOSFETのしきい値
電圧VTHNとPナヤンネルMO3FETのしきい値電
圧VTHPを加えて二倍した値に近似した値とされる。
したがって、相補共通データ縁立りの非反転及び反転信
号線が内部電圧HVDにプリチャージされ、相補共通デ
ータ線50の非反転及び反転信号線が回路のtiiR電
圧VDLよりMOSFET共通結合され47及びQ48
のしきい値電圧VTHN分だけ低い所定の電位にプリチ
ャージされるとき、分離中−回路SRCの容量カントM
O3FETQ4及びQ5は、すぐにオン状態となりうる
状態にバイアスされる。
このため、相補共通データ線CDの非反転又は反転信号
線のレベル低下は、第3図に例示されるように、ただち
に相補共通データ線上りの非反転又は反転信号線に伝達
される。その結果、相補共通データ縁立りのレベル変化
は遅延されることなく相補共通データMAsDに伝達さ
れ、これによって相補共通データ線における読み出し信
号の伝達速度が鳥速化される。このとき、分離中継回路
SRCの中継MOSFETQ26及びQ27は、逆バイ
アスされた状態となり、当初、読み出し/&号の伝達に
は寄与しない。そして、第3図に例示されるように、相
補共通データ線旦りの非反転又は反転信号線のレベルが
相補共通データ縁立りの非反転又は反転信号線のレベル
よりそのしきい値電圧VTHN分以上高くなったときに
初めてオン状態となり、読み出し信号の伝達に寄与する
ダイナ(ツク型RAMが読み出しモードで選択状態とさ
れると、相補共通データ縁立りには、第3図に示される
ように、タ1゛ミング48号φyがハイレベルとされた
時点で、相補ピント瞭BO−Bnにおいて増幅された読
み出し信号が択一的に伝達される。そして、例えば相補
共通データ線−〇〇の非反転信号線CDPのレベル低下
に従って、まず相補共通データ線−5Dの非反転信号線
SDPのレベルが低下し、非反転信号縁CDPより容晋
力y ) M OS F E T Q 4 (7)しき
い値電圧VTHP分だけ高いレベルでクランプされる。
このとき、例えば相補共通データ縁立りの反転信号線C
DNのレベルは上昇するが、その最も高いレベルが相補
共通データ線SDの反転信号線SUNのプリチャージレ
ベルよりも中−MO3FETQ27のしきい値電圧VT
HN分だけしか高くない。このため、反転信号線SDN
は、上記プリチャージレベルのままクランプされた状態
となる。
次に、例えばダイナミック型RAMがスタティックカラ
ムモードとされ、第3図に例示されるように、反転した
次の読み出し信号が相補共通データ線CDに伝達される
と、まずその反転信号線CDNのレベルが相補共通デー
タ線SDの反転信号線SDNよりしきい値電圧■□肘分
だけ低くなった時点で、容量カントMOSFETQ5が
オン状態となり、反転信号線SDNのレベルが低下し始
める。また、例えば相補共通データ線CDの非反転信号
線CDPのレベルが相補共通データ線SDの非反転信号
線SDPよりしきい値電圧VTHN分だけ高くなった時
点で、生検MO8FE′rQ6がオン状態となり、非反
転信号線SDPのレベルが上昇し始める。
つまり、この実施例のダイナミック型RAMでは、容量
カフ 1−M03FETQ4及びQ5が、相補共通デー
タ線旦〇に結合される寄生容量Clを相補共通データ縁
立りから分離する容量カン1−MOSFETとして作用
!l−るとともに、相補共通データ縁立りの非反転又は
反転信号線のレベル低下を相補共通データ線SDの非反
転又は反転信号線に伝達よる中継MO3FE’rとして
作用する。このとき、MOSFETQ4及びQ5は、N
チャンネル型の中fiMO5FIETQ26及びQ27
とともに一対の非反転増幅回路を構成し、これによって
相補共通データ線CD及びSDのレベルは同相で変化さ
れるものとなる。言うまでもなく、MOSFETQ4及
びQ5ならびにQ26及びQ27は、相補共通アーク線
旦〇の非反転及び反転信号線のレベルをV D L−V
THN又はVSStVrHpのレベルで制限するクラン
プ素子としての作用もあわせ持つ。また、分離中継回路
SRCには、前述のように、比較的離れた位置に配置さ
れるメインアンプMAの書き込みM OS F E T
Q 49及びQ50を移動させることなく、相補書き込
み信号を伝達する書き込みM OS I” E T Q
 6及びQ7が設けられる。これらのことから、この実
施例の分離中継回路SRCは、標準的な従来のダイナ(
ツク型RAMに大きな変更を加えることなく追加設置で
きるとともに、相補共通データ線SDのレベルが制限さ
れることにより、メインアンプMAの増幅動作が高速化
されるものとなる。
なお、ダイナミック型RA Mがスタティックカラムモ
ードを備えない場合、分離中継回路SRCは、必ずしも
Nチャンネル型の中−M OS F E ′rQ26及
びQ27を必要としない。しかし、ダイナミック型RA
Mがスタティックカラムモードを備える場合、Pチャン
ネル型の容量カットMOSFETQ4及びQ5だけでは
相補共通データ縁立りのレベルを強制的に反転すること
ができない。
したがって、中継MOSFETQ26及びQ27は、い
わばスタティックカラムモードを補償するための重要な
役割を果たすことになる。
ダイナミック型RAMが書き込みモードで選択状態とさ
れるとき、相補共通データ線SDには、後述するように
、データ入力バッファDIBからメインアンプMAを介
して所定の相補書き込み信号が供給される。これらの相
補書き込み信号は、反転タイミング信号φwNが一時的
にロウレベルとされ、分離中継回路SRCの書き込みM
O5FgTQ6及びQ7がオン状態とされることで、相
補共通データ線CDに伝達され、さらにメモリアレイM
ARYL又はMARYRの選択された1個のメモリセル
に書き込まれる。
第2図において、データ入力バッファDIBの入力端子
は、データ入力端子pinに結合され、データ出力バッ
ファDOBの出力端子は、データ出力端子Doutに結
合される。データ出力)\ツファDOBには、タイミン
グ発生回路TGからタイミング信号φOeが供給される
G データ入力バッファDIBは、特に制限されないが、ダ
イナミック型RAMが書き込みモードで選択状態とされ
るとき、データ入力端子1)inを介して供給される書
き込みデータをもとに所定の相補書き込み信号DIを形
成し、メインアンプMAに供給する。
データ出力バッファDOBは、特に制限されないが、タ
イミング信号φOeがハイレベルとされることで、選択
的に動作状態とされる。この動作状態において、データ
出力バッファDOBは、メインアンプMAの相補出力信
号4M、0をもとに所定の出力信号を形成し、データ出
力端子DOutを介して外部に出力する。特に制限され
ないが、上記タイミング信号φOeがロウレベルとされ
るとき、データ出力バッファDOBの出力はノ\イイン
ピーダンス状態とされる。
タイミング発生回路TGは、特に制限されないが、外部
から起動制御信号として供給されるロウアドレスストロ
ーブ信号RASN、カラムアドレスストローブ信号CA
SN及びライトイネーブル信号WENと、ロウアドレス
バッファRABから供給される最上位ビットの相補内部
アドレス信号axiならびにアドレス遷移検出回路AT
Dから供給されるタイミング信号φatをもとに、上記
各種のタイミング信号を形成し、ダイナミック型RAM
の各回路に供給する。
以上の本実施例に示されるように、この発明をメモリア
レイの指定される相補ビット線が択一的に接続される相
補共通データ線と電流ミラー型のメインアンプとを備え
たダイナミック型RAM等の半導体記憶装置に適用する
ことで、次のような作用効果が得られる。すなわち、 +11メモリアレイから比較的長い距離をおいて配置さ
れるメインアンプの前段に、メモリアレイ側の相補共通
データ線をメインアンプ側の相補共通データ線から分離
し、選択されたメモリセルからメモリアレイ側の相補共
通データ線に出力される読み出し信号をメインアンプ側
の相補共通データ線に伝達する分離中継回路を設けるこ
とで、メインアンプ側の相補共通データ線に結合される
寄生容量からメモリアレイ側の相補共通データ線を解放
できるため、メモリアレイ側の相補共通データ線の信号
量を拡大し、そのレベル変化を高速化できるという効果
が得られる。
(2)上記(11項において、分離中継回路に設けられ
る容量カントMOSFETを、そのゲートがメモリアレ
イ側の相補共通データ線の非反転及び反転信号線にそれ
ぞれ結合され、そのソースがメインアンプ側の相補共通
データ線の非反転及び反転信号線にそれぞれ結合され、
そのドレインがともに対応する電流制限MO3FETを
介して回路の接地電位に結合される一対のPチャンネル
MOSFETにより構成するとともに、メモリアレイ側
の相補共通データ線を回路の電源電圧及び接地電位のほ
ぼ中間電位にプリチャージし、メインアンプ側の相補共
通データ線を上記メモリアレイ側の相補共通データ線の
プリチャージレベルより少なくとも容量カントMOSF
ETのしきい値電圧分高い電位にプリチャージすること
で、これらの相補共通データ線間において読み出し信号
のチャージシエアを生じさせることなく、容置力、)M
OSFETに最適のバイアス電圧を与えることができる
という効果が得られる。
(3)上記(1)項及び(2)項により、相補共通デー
タ線における読み出し信号の伝達速度を高速化できると
いう効果が得られる。
(4)上記111項〜(3)項において、分離中継回路
に、そのゲートがメモリアレイ側の相補共通データ線の
非反転又は反転信号線にそれぞれ結合され、そのソース
がメインアンプ側の相補共通データ線の非反転及び反転
信号線にそれぞれ結合され、そのドレインが回路の電源
電圧に結合されるNチャンネル型の一対の中継MO3F
ETを設けることで、スタティックカラムモードにおけ
るメインアンプ側の相補共通データ線のレベル反転を補
償できるという効果が得られる。
(5)上記(11項〜(4)項において、回路の電源電
圧及び接地電位間の電位差を、上記容量カフ トM O
S FETのしきい値電圧と上記中47M05FETの
しきい値電圧とを加えて二倍した値に近似した値とする
ことで、分離中継回路におけるレベル配分を最適化でき
るという効果が得られる。
(6)上記(11項〜(5)項において、メインアンプ
側の相補共通データ線のハイレベルを、回路の電源電圧
より上記中継MO3FETのしきい値亀圧分だけ低いレ
ベルでクランプし、そのロウレベルを、回路の接地電位
より上記容量カン)MOSFETのしきい値電圧分だけ
高いレベルでクランプすることで、メインアンプ側の相
補共通データ線の信号振幅を制限し、メインアンプの増
幅動作を高速化できるという効果が得られる。
(7)上記(1)項〜(6)項において、メモリアレイ
側の相補共通データ線とメインアンプ側の相補共通デー
タ線のレベルを同相で変化させ、また、分離中継回路に
、データ入カバソファからメインアンプを介して供給さ
れる相補書き込み信号をメモリアレイ側の相補共通デー
タ線に伝達する一対の書き込みMOSFETを設けるこ
とで、標準的な従来のダイナミック型RAMに大きな変
更を加えることなく、分離中継回路を追加設置すること
ができるという効果が得られる。
(8)上記(11項〜(7)項により、ダイナミック型
RAMの読み出し動作を高速化し、そのアクセスタイム
を高速化できるという効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、第1図におい
て、分離中継回路SRCの書き込みMOSFETQ6及
びQ7ならびにプリチャージMOSFETQI 6〜Q
l 8は、NナヤンネルMO3FETに置き換えること
ができる。また、ダイナミック型RAMは、同様な複数
の相補共通データ線を備えることができるし、読み出し
専用の相補共通データ線と書き込み専用の相補共通デー
タ線を別個に備えるものであってもよい。この場合、分
離中−回路SRCは、読み出し専用の相補共通データ線
に設け、書き込みMO3FETQ6及びQ7は削除すれ
ばよい。第2図において、ダイナミック型RAMは、複
数のメモリマントを備えることができるし、複数ビット
の記憶データを同時に入出力するいわゆる多ピント構成
を採るものであってもよい。さらに、第1図に示される
分離中−回路やメインアンプならびにメモリアレイ及び
センスアンプの具体的な回路構成と、@2図に示される
ダイナミック型RAMのブロック構成ならびに第3図に
示される制御信号やアドレス信号及び電源電圧等の組み
合わせ等は、種々の実施形態を採りうる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるダイナミック型RA
Mに通用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、例えば、ダイナミック型RAMを基本
構成とするマルチポートRAM及び論理機能付メモリ等
にも通用できる。本発明は、少なくとも、相補共通デー
タ線とメインアンプを備える半導体記憶装置ならびにこ
のような半導体記憶装置を搭載するディジタル集積回路
装置に広く適用できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。すなわち、メインアンプの前段に、メモリアレイに
近接して配置され、かつそのゲートがメモリアレイ側の
相補共通データ線に結合されるPナヤンネル型の一対の
容量カットMO3FET及びNチャンネル型の一対の中
111MO3F E Tと、所定の書き込み制御信号に
従って選択的にオン状態とされ相補書き込み信号をメモ
リアレイ側の相補共通データ線に伝達する一対の書き込
みMOSFETを含む分離中継回路を設け、メモリアレ
イ側の相補共通データ線を回路の電源電圧及び接地電位
のほぼ中間電位にプリチャージし、メインアンプ側の相
補共通データ線を上記プリチャージレベルより少なくと
も上記容量カットMO3FETのしきい値電圧分高い電
位にプリチャージすることで、読み出し信号のチャージ
シェアを防止しつつ、メモリアレイ側の相補共通データ
線をメインアンプ側の寄生容量及び配線抵抗から解放し
、相補共通データ線における読み出し信号の伝達速度を
高速化できる。その結果、ダイナミック型RAMの読み
出し動作を高速化し、そのアクセスタイムを高速化でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明が通用されたダイナミック型RAM
の分離中継回路及びその周辺回路の一実施例を示す回路
図、 第2図は、この発明が通用されたダイナミック型RAM
の一実施例を示すブロック図、第3図は、第2図のダイ
ナミック型RAMの読み出しモードの一例を示すタイミ
ング図、第4図は、従来のダイナミック型RAMの一例
を示すブロック図である。 SRC・・・分離中継回路、MARYL、MARYR・
・・メモリアレイ、C!3・・・情報蓄積用キャパシタ
、Qa・・・アドレス選択用MO3FET、SA・・・
センスアンプ、USA・・・単位増幅回路、UPA・・
・単位プリチャージ回路、MA・・・メインアンプ、F
MA・・・初段メインアンプ、SMA・・・次段メイン
アンプ、OL・・・出力ランチ、Ql−Q20・・・P
チャンネルMO3FET、Q21〜Q54・・・Nチャ
ンネルMO3FET、Ni−N2・・・インバータ回路
、NAI〜NA2・・・ナントゲート回路、CJ・・・
寄生容置。 RADL、RADR・・・ロウアドレスデコーダ、RA
B・・・ロウアドレスバッファ、RFC・・・リフレッ
シュアドレスカウンタ、CAD・・・カラムアドレスデ
コーダ、CAB・・・カラムアドレスバッファ、ATD
・・・アドレス遷移検出回路、DIB・・・データ入力
バッファ、DOB・・・データ出カバソファ、TG・・
・タイミング発生回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)複数の相補ビット線を含むメモリアレイと、上記相
    補ビット線を択一的に第1の相補共通データ線に接続す
    るセンスアンプと、そのゲートが上記第1の相補共通デ
    ータ線に結合される一対の容量カットMOSFETを含
    み上記第1の相補共通データ線を介して出力される読み
    出し信号を第2の相補共通データ線を介してメインアン
    プに伝達する分離中継回路とを具備することを特徴とす
    る半導体記憶装置。 2)上記分離中継回路は、上記センスアンプに近接して
    配置され、上記メインアンプは、上記分離中継回路から
    比較的長い距離をおいて配置されるものであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3)上記メインアンプは、電流ミラー型増幅回路を基本
    として構成されるものであって、上記第1の相補共通デ
    ータ線の非反転及び反転信号線は、第1及び第2の電源
    電圧のほぼ中間電位にプリチャージされ、上記第2の相
    補共通データ線の非反転及び反転信号線は、上記第1の
    相補共通データ線のプリチャージレベルより少なくとも
    上記容量カットMOSFETのしきい値電圧分高い電位
    にプリチャージされるものであることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項又は第2項記載の半導体記憶装置。 4)上記容量カットMOSFETは、そのソースが上記
    第2の共通データ線の非反転及び反転信号線にそれぞれ
    結合され、そのドレインがともに対応する電流制限MO
    SFETを介して第2の電源電圧に結合される一対のP
    チャンネルMOSFETによって構成されるものである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項又は第
    3項記載の半導体記憶装置。 5)上記分離中継回路は、そのゲートが上記第1の共通
    データ線の非反転及び反転信号線にそれぞれ結合され、
    そのソースが上記第2の共通データ線の非反転及び反転
    信号線にそれぞれ結合され、そのドレインがともに第1
    の電源電圧に結合されるNチャンネル型の一対の中継M
    OSFETを含むものであることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項、第2項、第3項又は第4項記載の半導体
    記憶装置。 6)上記分離中継回路は、上記第1の共通データ線の非
    反転及び反転信号線と上記第2の共通データ線の非反転
    及び反転信号線との間にそれぞれ設けられ所定の書き込
    み制御信号に従って選択的にオン状態とされる一対の書
    き込みMOSFETを含むものであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項又は第
    5項記載の半導体記憶装置。 7)上記第1及び第2の電源電圧の電位差は、上記容量
    カットMOSFETのしきい値電圧と上記中継MOSF
    ETのしきい値電圧を加えて二倍した値に近似した値と
    されるものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項、第2項、第3項、第4項、第5項又は第6項記載の
    半導体記憶装置。 8)上記半導体記憶装置は、ダイナミック型RAMであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項、第2項、第
    3項、第4項、第5項、第6項又は第7項記載の半導体
    記憶装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002216480A (ja) * 2001-01-22 2002-08-02 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

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