JPH0448552B2 - - Google Patents

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JPH0448552B2
JPH0448552B2 JP60111770A JP11177085A JPH0448552B2 JP H0448552 B2 JPH0448552 B2 JP H0448552B2 JP 60111770 A JP60111770 A JP 60111770A JP 11177085 A JP11177085 A JP 11177085A JP H0448552 B2 JPH0448552 B2 JP H0448552B2
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JP
Japan
Prior art keywords
metal layer
film
workpiece
laser beam
photomask
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP60111770A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61269995A (ja
Inventor
Jiro Manabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TAKATO SEIKAN KK
Original Assignee
TAKATO SEIKAN KK
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Application filed by TAKATO SEIKAN KK filed Critical TAKATO SEIKAN KK
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  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザ光線が有する鋭い指向性とエ
ネルギ密度の高い性質を利用して、木材や合成樹
脂板に図形や写真等の濃淡が連続的に変化する画
像を精巧に彫刻する方法に関する。
(従来の技術) 例えば特開昭56−71000号公報に記載されてい
るように、被加工材表面に金属製マスク板をあて
がい、これにレーザ光線を照射して凹陥文字、凹
陥図案などを彫刻形成するものがある。
(発明が解決しようとする課題) しかし、彫刻は被加工材を彫るか彫らないかの
2種の表現方法しかないので、黒と白のように色
の境界のはつきりしたものには適するが、中間色
部分を含んだり色分けの境界がはつきりしないも
のは表現できない。
本発明は、濃淡が連続的に変化する写真のよう
なパターンを、浮彫として忠実に再現することを
目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明では、エツチングで腐蝕しない材質の基
材フイルムに金属層を張り合せ、その金属層の表
面にフオトレジスト膜を積層してマスク材を先ず
形成する。そして予め写真原稿を撮影して形成し
た網点により濃淡を連続的に表わした網ネガフイ
ルムのフオトマスクを前記マスク材に重ねてフオ
トエツチング法により金属層を打抜き、これによ
り基材フイルム上にフオトマスクと同一パターン
の金属層を残したレーザマスクを形成する。次に
当該レーザマスクを木材のように被加工材の表面
に重ねて、その上方よりレーザ光線を全面に照射
して金属層で遮光した部分以外を焼き削り、被加
工材の表面に前記金属層で形成されたパターンを
浮彫にする。
(作用) しかして網ネガフイルムのフオトマスクを用い
てマスク材の金属層をフオトエツチングすると、
金属層はフオトマスクの網点と同一パターンの網
目状にエツチングされるが、この金属層は耐蝕性
の基材フイルムに裏打ちされているので各網点の
金属層は、ばらばらに分離しないで基材フイルム
上に一体的に保持され、濃淡が連続的に変化した
網ネガと同一パターンのレーザマスクが得られ
る。
このようにして得られたレーザマスクにより被
加工材を覆つて上方からレーザ光線を照射する
と、レーザマスクの金属層で遮られた部分を除く
他の被加工面が一定の深さだけ蒸発して焼き削ら
れた状態となり、その結果、金属層と同一パター
ン即ち濃淡が連続的に変化したフオトマスクの網
ネガと同一パターンが被加工面に残つて浮彫にな
る。
(実施例) 次に、本発明の実施例を図面に示して説明す
る。
1はエツチングで腐蝕しないような耐蝕性の材
質たとえばポリエステル等から成る厚さ20μ乃至
50μ程度の基材フイルムで、これに鉄、銅、真鋳
のような金属で厚さがエツチング可能な100μ未
満の金属層2を一体的に張り合せ、さらにこの金
属層2の表面に、フオトレジスト膜3を積層し
て、マスク材mを形成する(第2図)。
フオトレジスト膜3はフイルム状のレジストを
金属層2の表面に加熱、加圧してラミネートする
か、液状のレジストを塗布して形成する。
次にこのマスク材mをフオトエツチングするの
であるが、その際に用いるフオトマスク4には次
のようにして作つた網ネガフイルムを使う。
先づポートレートのような黒白の連続階調の写
真原稿を用意し、小さな網目のある網目スクリー
ン(コンタクトスクリーンともいう)を感光性フ
イルムの乳剤面に密着させて前記原稿を撮影し、
網ネガフイルムを作る。この感光性フイルムは、
感光すると臨界露光量を越えた部分は黒化4a
し、それ以下では透明4bになる性質がある。一
方、網目スクリーンの網目は網目の中心ほど透明
度が高いから、原稿の濃い部分(暗い部分)は網
目の中心部分のみ光が通過し、透明度の低い網目
の周辺部は透過光量が少い。このため、網目の中
心部分のみ臨界露光量を越え、この余は臨界露光
量に達しない。従つて、この感光性フイルムを現
像すると網目の中心だけが黒化して小さな黒い網
点になる。逆に原稿の淡い部分(明るい部分)は
光が強く、透明度の低い網目の周縁部も光が多く
透過するから、臨界露光量を越える部分が網目の
中心より四方に広く拡大し大きな黒い網点にな
る。そして、これらの黒化した網点以外は未感光
の透明生地になる。
このような網ネガフイルムの作り方は、写真や
絵のような濃淡が連続する連続階調の原稿をトー
ンセパレートして印刷するための網版法として知
られており、網目スクリーンにも網目が格子状の
ものの他、平行線、破線、同心円、砂目等、各種
商品化されており、そのいづれを使つてもよい。
もつともいづれを使うかによつて網ネガフイルム
の網点の形状が異なることはいうまでもない。た
とえば平行線の網目スクリーンを用いると、原稿
の濃い部分は黒色ストライプの巾が広く、淡い部
分はその巾が狭くなり、このように平行なストラ
イプの巾が広狭に変化することにより連続階調を
トーンセパレートする。
また網ネガフイルムを作るのに写真等の原稿を
網目スクリーンを用いて、一旦、網ポジの印画紙
に焼き、この印画紙を反転して網ネガフイルムを
作つてもよい。このように一旦、印画紙に焼き付
けると画像を容易に修正できる利点がある。
網ネガフイルムが出来上つたら、これをフオト
マスク4として、前記のマスク材mに重ねて(マ
スキングして)フオトエツチングする。
それにはマスク材mのフオトレジスト膜3に網
ネガフイルムの乳剤面を重ね合せ、真空焼枠を用
いて密着露光した後(第2図)、マスク材mを現
像液中に漬け込んで現像する。現像が終つたら非
感光部分の溶解したレジストかすを水で洗い落し
て(第3図)、腐食機(図示しない)に送り込み
エツチング液を吹き付けてレジスト膜より露出し
た部分の金属層2を腐食除去して(ケミカルブラ
ンキング)、基材フイルム1の上にフオトマスク
の網ネガフイルムと同じパターンの金属層を残し
たレーザマスクLMを形成する(第4図)。
次にこのレーザマスクLMをアクリル樹脂のよ
うな合成樹脂または木材等の被加工材5の表面に
密着し、その上方から炭酸ガスレーザのようなレ
ーザ光線Lを全面に照射する。この場合、被加工
材5とレーザ光線Lを互いに交差するX軸及びY
軸方向に相対的に移動してレーザ光線Lを走査す
れば、レーザマスクLMの全面にわたつて的確に
レーザ光線を照射できる。
レーザ光線Lを照射すると、レーザ光線Lは金
属層2で遮断されレーザマスクLMのフオトレジ
スト膜3のみを蒸発せせるが、基材フイルム1が
露出した部分ではその部分の基材フイルム1をも
蒸発させ、さらに被加工材5に達してその表面を
ある深さ(1ミリ乃至3ミリ)まで蒸発させて、
凹部6を彫り込む(第6図)。その結果、被加工
材4の表面に金属層2のパターンと同一のパター
ンすなわちフオトマスク4の網ネガと同一パター
ンが被加工面に残つて浮彫になる(第1図)。
その後、金属層2はその裏側の基材フイルム1
と共に被加工材4の表面から取り去つてもよい
が、基材フイルム1の裏面にあらかじめ接着材を
塗布しておきレーザ光線照射前にレーザマスク
LMを被加工材5の表面に接着させておけば、所
定パターンの浮彫と同時に、浮き出たパターンの
表面にそれと全く同じ輪郭の光沢に富む金属層が
一工程で被着できる。なおこの場合、基材フイル
ム1の裏面に接着剤を塗布するかわりに、基材フ
イルム1と被加工材4の間に両面接着シートを介
装して金属層を接着させてもよいことはいうまで
もない。
またフオトレジスト膜に、感光すると可溶性に
なるタイプのものを用いて金属層2を前述の実施
例とはネガテイブのパターンにエツチングすれ
ば、被加工材5の表面の凹凸が第1図と正反対に
なる。
さらに網ネガフイルムの代りにハイコントラス
トフイルムで中間色を捨て濃淡を強調させたもの
をフオトマスクに用いても、原稿に近い画像を木
材等に彫刻できる。
(発明の効果) これを要するに本発明では、レーザマスクLM
を作るのに網ネガフイルムのフオトマスク4を使
うことを要点とする。このフオトマスク4は写真
原稿を撮影して作成し、原稿の濃淡を網点により
連続的に表わすので、このフオトマスクを使つて
作るレーザマスクLMの基材フイルム1には、フ
オトマスクの網点と同一パターンの金属層2が残
り、この網目状の金属層2により濃淡が連続的に
変化したパターンが形成される。
従つて、このレーザマスクLMを被加工材に重
ねてレーザ光線を照射すると、レーザマスクLM
の金属層により遮られた部分に金属層と同一パタ
ーンの、すなわちフオトマスクの網ネガと同一パ
ターンの形状が被加工面に残つてその余はレーザ
光線により彫り込まれる。その結果、極めて微細
な無数の網点がそれぞれ他の網点より独立して立
体的に浮彫され、各網点の頂面が浮き上がつて周
囲より際立つて見える。このため全体として見る
ときはこれら無数の網点の各頂面の大きさ(面
積)により原稿の濃淡の連続的な変化がそのまま
忠実にしかも明瞭に再現され、極めて写実的な画
像が得られるという効果を奏する。
本発明によればポートレートや絵画のような原
稿を忠実に再現して彫刻でき、広く木材等の装飾
に利用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法により彫刻した被加工材の
拡大斜視図、第2乃至6図は本発明を実施した彫
刻方法の各工程を示す断面図である。 1は基材フイルム、2は金属層、3はフオトレ
ジスト膜、4はフオトマスク、5は被加工材、m
はマスク材、LMはレーザマスク、Lはレーザ光
線。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 エツチングでは腐蝕しない基材フイルムを裏
    面に張り合せた金属層の表面にフオトレジスト膜
    を積層してマスク材を形成し、 予め写真原稿を撮影して作成した、網点により
    濃淡を連続的に表わす網ネガフイルムのフオトマ
    スクを、前記マスク材に重ねてフオトエツチング
    法によりマスク材の金属層を打抜き、 これにより基材フイルム上にフオトマスクと同
    一パターンの金属層を残したレーザマスクを形成
    し、 次に当該レージマスクを被加工材の表面に重ね
    て、その上方よりレーザ光線を照射して前記金属
    層で形成される網点パターンを被加工材表面に浮
    彫にすることを特徴とするレーザ光線による彫刻
    方法。
JP60111770A 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザ光線による彫刻方法 Granted JPS61269995A (ja)

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JP60111770A JPS61269995A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザ光線による彫刻方法

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JP60111770A JPS61269995A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザ光線による彫刻方法

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JPS61269995A JPS61269995A (ja) 1986-11-29
JPH0448552B2 true JPH0448552B2 (ja) 1992-08-07

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JP60111770A Granted JPS61269995A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザ光線による彫刻方法

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JPH0648097A (ja) * 1992-07-29 1994-02-22 Utsudo Retsukusu:Kk レーザ光線による彫刻方法
JP5147330B2 (ja) * 2006-08-25 2013-02-20 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
KR100962778B1 (ko) 2007-12-13 2010-06-09 현대자동차주식회사 우드 패턴 형성을 위한 마스크 제작방법

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JPS61269995A (ja) 1986-11-29

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