JPH0448163B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、固体の性質を測定するための装置に
関するものである。

〔従来技術〕

ある物質の性質を決定するために、その物質に
くいこむ物体の挙動を用いるおそらく最もよく知
られている例は、物質の硬さを測定することであ
る。その硬さ測定にはかなりの数の方法があり、
シヨアー硬さ測定、ビツカース硬さ測定、ロツク
ウエル硬さ測定、プリネル硬さ測定、ハーバート
振り子などがその例である。しかし、表面層が完
全に、または部分的に破壊されることからそれら
の方法は非常に多くの用途には使用できない。た
とえば、塗装の硬さを測定しようとする時はその
塗料層に完全に押しこむわけにはいかないことが
ある。しかし、完全に押しこまなくても塗装が損
われて、その部分が局部的な腐食の核となるが、
その他の塗装部分は依然として支障がないという
ことがある。このような理由から、完成品を測定
せずに試験片について測定することが行われる。
しかし試験片は完成品ではない。

押し込んだときの固体の挙動から固体の性質を
測定する非破壊的な方法もある。

例えば、物質の上に超音波プローブを置くこと
により周波数の不整合を測定できることが知られ
ている。この方法は、試験物体との結合度に非常
に影響される。また、測定される値はその試験物
体の弾性率、被覆の厚さ、物体の形、とくに厚さ
に大幅に依存するから、測定されるのは硬さだけ
ではない。この方法は比較値を測定するためにの
み使用できるのであつて、絶対測定には向かな
い。

絶対測定を行う別の非破壊測定方法が雑誌「イ
ンドウストリー・アンツアイガー（Industrie
Anzeiger）」1981年12月２日、所載の「鍛造品の
表面硬さ分布を試験する方法（Method for
Testing the Case Hardness Distribution of
Forgings）」という論文に示されている。しか
し、この方法は実施に非常に費用がかかり、ま
た、その方法を実施する装置が非常に大型である
から、試験物体をその装置の所へ持つていかなけ
ればならず、その逆は可能ではない。力が誘導的
に加えられ、押しこみの深さは光学的な変位の測
定により測定される。測定に用いられるセンサ装
置に起因して、押しこみの深さをミクロンの範囲
で安全に決定することは可能ではない。この方法
は典型的な押しこみ深さが500ミクロンで表面硬
さを測定するように構成されている。マイクロメ
ータのねじゲージの場合と同様に、この装置は非
常に硬いヨークを必要とする。ある与えられた力
における押しこみ深さが使用困難なモノグラムに
より変換される。その理由は、測定値が加えられ
た力の複雑な関数だからである。

〔発明の概要〕

本発明の目的は、製作が容易で、持ち運びがで
きるほど小型であり、非破壊的に測定でき、再現
性があり、絶対測定を行え、不均質な物体の場合
でも１番上の被覆を実際に測定でき、簡単な関数
関係に導き、超音波センサのような特殊な装置や
干渉測定などを使用せず、訓練を受けていない人
でも操作できる前記した種類の装置を得ることで
ある。

この目的は、特許請求の範囲の記載で明らかな
本発明に従つて達成される。本発明は下記のよう
な利点を有する。

(a) 公知のプローブにより広い範囲の厚さにわた
つて被覆の厚さを非常に正確に測定できる。非
常に正確な絶対測定が可能であるために、被覆
の厚さの差を高い確度で測定することが可能で
ある。たとえば、被覆の厚さが20ミクロンであ
る場合には0.05ミクロンの厚さ変化を容易に検
出できる。あるいは、被覆の厚さが100〜500ミ
クロンの場合には0.1ミクロンの厚さ変化を容
易に測定できる。そのように小さい被覆厚さ変
化は非常に小さい接触力によつて生ずる。必要
な力の大きさはたとえば0.05〜1Nである。

(b) それらの小さい力は極めて軟かい被覆でも破
壊することはない。

(c) 必要な力が非常に小さいから、装置が自重で
曲る危険はなく、非常に少い使用材料で、本発
明の目的のために十分な剛性を持たせることが
可能である。

(d) そのように小さい力により、測定は実際に表
面領域だけで行われ、このことはどのような場
合にも最も重要である。

(e) 測定領域がそのように狭いから、測定自体は
何の痕跡も残さない。

(f) 高いエネルギーを加える必要がないから、高
いエネルギーを供給する必要もない。従がつ
て、この装置を電池で動作させることが完全に
可能である。

(g) 測定値には事実上変動はなく、得られる結果
は全て有効である。

(h) この装置は非常に小さい表面、曲つた表面ま
たは非常に小さくて曲つた表面を測定するため
に使用できる。

そのように薄い被覆を高い確度で測定するため
のプローブは以前から知られており、たとえばド
イツ実用新案第7243915号、第7336864号、ドイツ
特許開示第255634号、未決のドイツ特許出願第
P3331407号に開示されている。

特許請求の範囲第２項記載の特徴より、測定す
べき性質を物質の硬さとすることができる。

特許請求の範囲第３項記載の特徴により、関数
が一次関数であるためにこう配が驚くほど十分に
一定であるから指示を非常に簡単にできる。

特許請求の範囲第４項記載の特徴により、測定
点をあらゆる力の増分において測定点をとること
ができ、かつその測定値を通つて平均直線を引く
ことができる。

特許請求の範囲第５項記載の特徴により、力の
増分を発生する回路を特に簡単にでき、広く分離
された測定値より特定の確度で直線を引くことが
できる。

特許請求の範囲第６項記載の特徴により、連続
使用で変動なしに動作し、モーメントしたがつて
力を極めて良く再現できる、簡単な市販されてい
る電気的駆動装置を使用できる。

特許請求の範囲第７項記載の特徴により、回転
磁石の場合に力を発生するために常に必要である
レバーを使用せずにすむ。そのようなリニヤモー
タは、たとえば、レコードの針の先において接触
圧を発生するためにレコードプレーヤーで使用さ
れるような種類のものとすることができる。

特許請求の範囲第８項記載の特徴により、遊び
のない中間歯車装置を使用でき、測定には事実上
変動がないから、回転磁石が回転することにより
プローブが擬似直線運動を行うことになる。

特許請求の範囲第９項記載の特徴により、プロ
ーブの重量を簡単なやり方で補償できる。

少くとも現在の技術状態に関する限りは、二極
プローブを使用することもできる。しかし、単極
プローブを使用することにより、二極プローブ
が、避けることのできない遊びとともに、必要と
する全カルダン（Karda）とりつけ、またはセミ
カルダンとりつけを使用せずにすむ。

特許請求の範囲第１１項記載の特徴により、非
常に硬い物体を測定する場合にも、押しこみ物体
の特徴を一定のままとすることができる。

特許請求の範囲第１２項記載の特徴により、プ
ローブの力線をあまり遠くへ移動させないよう
に、押しつけ物体を保持する管状マウントの力線
の出口面を物体の表面に近く、ただし非常に近く
ではなく、置くことができる。

特許請求の範囲第１３項に記載されている値
は、非常に良く確かめられている。驚くべきこと
に、直線のこう配はくぼみの曲率半径に非常に僅
か依存するだけである。0.15mmと0.2mmの半径の
差は５％以下である。実際の測定においては、押
みこみの深さは通常は押しこみ物体の先端部の丸
くされた領域程度である。

特許請求の範囲第１４項記載の特徴により、プ
ローブに加えられる力により装置が持ちあげられ
ないように装置の重量を決めることができる。

特許請求の範囲第１５項記載の特徴により、静
的な冗長性を避けることができる。

特許請求の範囲第１６項記載の特徴により、ト
ランジスタは温度センサとして機能できるから、
物体の温度を測定に含めることができる。

特許請求の範囲第１７項記載の特徴により、プ
ローブの保護装置を基板上に設けることができ
る。

特許請求の範囲第１８項記載の特徴により、線
の復旧力を無視できる。

特許請求の範囲第１９項記載の特徴により、実
際には線のスチフネスを完全に無視できるよう
に、線のスチフネスが力にほとんど影響しないよ
うにできる。

特許請求の範囲第２０項記載の特徴により、物
質のクリープ性質を測定できる。このことは、物
質がプラスチツクの場合に特に重要である。

特許請求の範囲第２１項記載の特徴により、測
定点が直線上にあるから指示が非常に簡単であ
る。この場合には力を一定に保たなければならな
いが、可能な任意の対数を使用できる。

〔実施例〕

以下、図面を参照して本発明を詳しく説明す
る。

まず第１図を参照して、金属板１６は長方形
で、重く、かつ硬い。その金属板の左右の後方隅
に設けられているねじ穴にねじこまれている２本
の止めねじ１７，１８により、金属板１６は固定
される。それらの止めねじは、中心平面１９に関
して対称的に配置される。その中心平面１９内に
は、第３の調節できない脚としてトランジスタ２
１が配置される。そのトランジスタ２１は熱感知
器として機能し、基板２３の表面に付着されてい
る被覆２２の温度を測定するために使用できる
（第２図）。金属板１６の裏面からねじこまれる止
めねじにより、垂直支持性２４が金属板１６の各
隅に固定される。それらの支持柱の上に硬くて重
い金属覆い板２６が、ねじにより固定される。こ
の金属覆い板２６は、垂直支持柱２４および金属
板１６とともに、十分な重量の非常に硬くて重い
保護かごを形成する。金属板１６の後部には、回
転磁石集合体２７が中心平面１９に関して対称的
に設けられる（第２図）。この回転磁石集合体は
市販されているものである。その回転磁石集合体
２７は、端部枠２８により金属板１６に固定され
る。回転磁石集合体２７の出力軸２９は、端部枠
２８を貫通している。その出力軸２９は中心平面
１９内に含まれる。出力軸２９にはレバー３１が
とりつけられる（第２図）。レバー３１は左側ア
ーム３２と右側アーム３３を有する。そのレバー
３１は金属製であつて、重い。レバーはそれの広
い構造のために、ここで考えている目的のために
は、回転方向３４には絶対的に硬い。レバー３１
が出力軸２９に絶対に比例して追従するようにす
るために、レバー３１のうしろに広い面積を有す
る固定ワツシヤ３６が設けられ、ねじ３７により
レバー３１の中心領域に平らになるようにして押
しつけられる。更に、レバー３１を固定ワツシヤ
３６に同様に連結するために２本の止めねじ３８
も設けられる。

第１図の右側には多極ソケツト３９が設けられ
る。そのソケツトの線は、レバー３１の前方で金
属板１６にとりつけられている端子盤４２まで延
びる。２本の線４３，４４が、レバー３１または
それに関連する部品のいずれにも接触することな
しに、端子盤４２から回転磁石集合体２７まで延
びる。回転磁石集合体は、線４３，４４を流れる
電流がある特定の大きさである限りは、再現性あ
る正確なトルクを出力軸２９へ与えるように構成
されている。出力軸２９の回転が阻止されていて
も、回転磁石集合体２７は、損傷を受けることな
しに、連続動作をさせることができる。

右側のアーム３３には、プローブ集合体４７の
重量を補償する釣合おもり４６がとりつけられ
る。プローブ集合体４７は、重い金属ブロツク４
９を有する（第３図）。その金属ブロツクは、左
側アーム３２の後部に２本のねじ４８により固定
される。ブロツク４９は貫通穴５１を有する。こ
の貫通穴５１は中心平面１９に平行で、かつ中心
軸５２に沿つて延びる。測定位置においては、中
心軸５２は被覆２２に垂直で、中心平面１９に平
行に延びる。実際のプローブ５３が、中心軸５２
と同様状になつて、貫通穴５１の中に接着剤５４
により接着される（第４図）。非常に柔軟な３本
の線５６，５７，５８が、貫通穴５１から出て第
１図に示すように曲げられ、中心平面１９とレバ
ーアーム平面６１の間の交わる部分においてクリ
ツプ５９により固定され、そこから端子盤４２ま
で延びる。ハウジングの保持リングとして形成さ
れている部分の広い接触領域の上に、プローブ５
３が接着剤５４を用いて接着される。保持リング
６２の下側部分は、円錐６３を形成する。この円
錐はカラー６４内で終端する。中心軸５２と同軸
の貫通穴６６が保持リング６２と、円錐６３と、
カラー６４とを貫通する。ブロツク４９の右側に
は、線５６，５７，５８を通すための溝６７が上
方へ延びる（第５図）。

貫通穴６６が同軸状の円筒形ポツトコア穴６８
まで下方へ延びる（第５図）。そのポツトコア穴
の中には、ポツトコア７１の殻６９が配置され
る。第５図に示すように、ポツトコア７１は、同
軸状のスラストワツシヤ７２を有する。そのスラ
ストワツシヤは貫通穴６６の中に保持される。ポ
ツトコア７１は中心軸５２と同軸のシリンダ７３
を有する。そのシリンダの前面７４は、殻６９の
底面７６から突き出る。殻６９とシリンダ７３の
間の空間には一次コイル７７が配置される。この
コイルは線５６，５７により一定の交流電流によ
り付勢される。一定コイル７７の下側には二次コ
イル７８が設けられる。その二次コイルの底面は
殻６９の底面７６に近接して置かれる。二次コイ
ル７８は、線５７，５８により指示器回路７９に
接続される。被覆２２が非導電体で、基基体２３
が非磁性体であれば、コイル７７は500KHzの交
流電流により励磁される。

被覆２２が非磁性体で、基体２３が磁性体であ
れば、コイル７７は約200Hzの低周波交流電流に
より励磁される。用途に応じて、ポツトコア７１
を、軟鉄またはフエライトで作ることができる。

シリンダ７３には、下向きの円筒形状盲穴８１
が設けられる。その盲穴の中には小型の管状マウ
ント８２が軸線方向に固定される。そのマウント
８２の後部の円形肩部８４が、シリンダ７３の前
面７４にぴつたり接触する。マウント８２の外面
８５はシリンダ７３の外面と面一である。マウン
ト８２の下面９０は、中心軸５２を中心として
120度の角度で傾しやしている。管状マウント８
２の下側部分の中に、そのマウント８２と同軸状
になるようにして、ダイヤモンド８６が、接着剤
またははんだ８７により固定される。そのダイヤ
モンドの下面８８は、120度の立体角を有する円
錐を形成する。その下面８８はマウント８２の下
面９０と面一にされる。半径が0.2mmの半径方向
頂部８９を形成するようにダイヤモンド８６の下
面８８は丸められる。

ダイヤモンド８６と管状マウント８２との具対
的な構造を除き、プローブ５３はあらゆる面で現
在の技術状態を表す。

金属板１６の左側アーム３２の左端部下側部分
に、段つきの切抜き部９１が設けられる。この切
抜き部によりプローブ５３を第３図に示す動作位
置に置くことができる。この装置を輸送する場合
には、ダイヤモンド８６が傷つかないようにダイ
ヤモンドを引きあげて第４図に示す位置にする。

第６図に示す動作位置においては、力線９２が
ほぼ図示のように延びるから、力線が実際に１個
所に集中して飽和してしまうことが避けられる。
マウント８２は、ニツケル鉄のような高透磁率の
材料で作られる。

第１１図に示すブロツク図には、支持柱２４と
覆い板２６を有する金属板１６を表す固体ベース
９３が示されている。レバー３１と、プローブ５
３と、温度センサとして使用されるトランジスタ
２１も示されている。更に、コイル９５を有する
回転磁石集合体２７も示されている。被覆の厚さ
を測定する回路９４が、プローブ５２により正常
な被覆厚さ測定を行う。温度測定回路９６は通常
の温度測定を行う。回転磁石回路９７には、プロ
グラム可能な電流制御器９８が設けられている。
これはコイル９５に流れる電流を指示する。情報
が公称値電流線１０１を介して公称値−実施値比
較器９９へ与えられる。

公称値−実施値比較器９９は、実際値電流も実
際値電流線１０２を通じて受ける。公称値電流と
実際値電流の比較の結果が、線１０３を通じて最
後の制御素子へ与えられる。その制御素子は線４
４上に正しい電流を設定する。

マイクロプロセツサ１０７に接続されているバ
ス１０６により、データのやりとりが行われる。
データの流れる向きが矢印で示されている。

マイクロプロセツサには、デイスプレーおよび
キーボード１０８が設けられている。インターフ
エース１０９により、他の装置への接続が可能と
なる。

回転磁石集合体の制御に関して非常に重要な点
は、ダイヤモンド８６−またはその他の任意のく
いこみ体−が被覆上で絶対にはねかえることがな
いように降ろすことである。これは、ダイヤモン
ドまたはその他の試験体が砕けることがあるから
ではなく、はねかえりに伴う運動エネルギーによ
り試験点を前もつて変形させないためである。は
ねかえりを生ぜずに降ろすことを保証するため
に、レコードの針を降ろすために使用されるよう
な機構を使用でき、または、はねかえることなし
にプローブ５３を降ろすように回転磁石集合体２
７を制御できる。

たとえば、被覆２２の硬さを測定するものとす
ると、はねかえらないように降ろした後で、基本
荷重を加えなければならない。その基本荷重に従
つて、半径方向頂部８９が一定の深さだけ被覆を
くぼませる。この一定の深さは、２％＋0.1ミク
ロンである。それから力Ｆを増加し、その力の各
増分に関連する被覆の厚さを同時に測定する。こ
のようにして、被覆の厚さの変化分Δdと力Ｆの
間の非直線的な関係が得られる。ΔdをＦの平方
根の関数としてグラフを描くと、第７図に示すよ
うに直線が得られる。第７図のグラフから計算さ
れたこう配m_F＝δd／δ√は被覆の表面の硬さ
を明確に表す。

回転磁石集合体２７は第９図に示す階段状の電
流により励磁される。力が直線的に増加するよう
にその励磁電流は選択される。時間、、は
通常は0.8秒と同じ長さである。力は第９図に示
すように時間の経過につれて大きくなる。

第１０図は、第９図に示す時間の間における
プローブ５３の電圧出力Ｕ(d)と時間の関係を示す
グラフである。電圧出力Ｕ(d)は被覆の厚さ(d)の非
直線的な関数であるから、被覆の厚さ測定回路
は、被測定値が被測定変量に正比例するように、
２つの値Ｕ（d₁）−Ｕ（d₂）の差から被覆の厚さを
変換する。ダイアモンドが被覆２２の表面にくい
こむ時に発生される抵抗値のモーメントのため
に、電圧ｕ(d)は力Ｆに自然に追従することはな
い。この理由から、電圧の値を求める時点では、
電圧ｕ(d)が事実上一定となつているように、電流
の増分を選択せねばならない。その時点が第１
０図に上向きの矢印で示されている。その時点は
時間の始まる直前となるように定められること
がわかる。同じことが時間とについてもあて
はまる。測定値はまず貯えられ、それから、第７
図に示すように変換された直線的な関係が得られ
るようにそれらの測定値が更に処理される。

硬さの代りに被覆２２のクリープ挙動を測定す
るものとすると、等距離の対数間隔で被覆の厚さ
Δdが得られる。この情報は処理されてから表示
器およびキーボード装置１０８において表示され
る。第８図に示す直線のこう配はクリープ挙動を
直接に表す。こう配の式は、m_t＝δd／δ1nΔtで与
えられる。

種々の材料の特性値のために較正値を必要とす
るときは、表示器およキーボード装置１０８によ
り較正値を入力できる。

マイクロプロセツサ１０７は、指定されてトル
クを表す一定電流により回転磁石集合体２７を制
御する。中心平面１９とレバーアーム平面６１と
の交わる部分から半径方向頂部８９までの距離を
マイクロプロセツサ１０７が知つているから、そ
れらの変量からマイクロプロセツサは力Ｆを計算
できる。一定電流のために、回転磁石集合体２７
のコイル−抵抗器の温度が変化しても力の増分が
実際には一定であるために、コイル−抵抗器の温
度変化は測定においては何の役割も演じない。

種々の目的のためにインターフエース１０９を
使用できる。たとえば、第７図、第８図に示す種
類のグラフを出力するプリンタを接続できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の装置の一実施例を示す一部切
欠き斜視図、第２図は支持性と覆い板を除いて示
す第１図の装置の正面図、第３図は第２図の矢印
３に沿う断面図、第４図はプローブを引きあげた
状態を示す第３図と同じ断面図、第５図はプロー
ブの下側領域における拡大断面図、第６図は第５
図の１点鎖線円で囲まれている部分の拡大断面
図、第７図は硬さ測定を表すグラフを示す図、第
８図はクリープ挙動を示すグラフを示す図、第９
図は時間の関数として加えられる力を示す図、第
１０図はプローブにより与えられる電圧と第９図
に示す時間との関係を示す図、第１１図は測定装
置のブロツク図である。 ２１……トランジスタ、２７……回転磁石集合
体、３２，３３……アーム、４７……プローブ集
合体、４９……金属ブロツク、５３……プロー
ブ、６３……円錐、７３……シリンダ、７７……
一次コイル、７８……二次コイル、７９……指示
器回路、８６……ダイヤモンド、９４……被覆厚
さ測定回路、９７……回転磁石回路、９８……電
流制御器、９５……コイル、９９……公称−実際
比較器、１０７……マイクロプロセツサ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 固体にくい込む物体をその固体の表面上に導
   く案内機構と電気的処理回路とを有し、前記固体
   にくい込む前記物体の挙動から固体の性質を絶対
   測定するための装置において、 (a) 前記固体にくい込む物体は、数千ミクロンま
   たはそれ以下の範囲の薄い皮膜の厚さを測定す
   る固体上に載せられ出力として電圧を発生する
   プローブの先端インサートであり、 (b) 前記案内機構は、前記固体にくい込む物体を
   所定のただし変化できる力で固体の表面に押し
   つける電気的駆動装置に連結され、かつ (c) 皮膜厚さ及びくい込む力を表す電圧出力を前
   記電気的処理回路に送り、そのくい込む力に対
   する皮膜厚さの変化に応じて硬さ及びクリープ
   挙動を演算する手段を有することを特徴とする
   固体の性質を絶対測定するための装置。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつて、
   処理回路は費やした力を表す変量を受けることを
   特徴とする装置。 ３ 特許請求の範囲第２項記載の装置であつて、
   処理回路はｄ（皮膜の厚さ）対√（力）の関数
   のこう配を指示することを特徴とする装置。 ４ 特許請求の範囲第２項記載の装置であつて、
   力は段階的に変えられることを特徴とする装置。 ５ 特許請求の範囲第２項記載の装置であつて、
   増分の大きさは等しいことを特徴とする装置。 ６ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつて、
   電気的駆動装置には回転磁石が設けられることを
   特徴とする装置。 ７ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつて、
   電気的駆動装置にはリニヤモータが設けられるこ
   とを特徴とする装置。 ８ 特許請求の範囲第６項記載の装置であつて、
   案内機構はレバーであり、そのレバーは回転磁石
   の出力軸に固定され、そのレバーはプローブを回
   転の向きに垂直に保持することを特徴とする装
   置。 ９ 特許請求の範囲第８項記載の装置であつて、
   レバーは２本のアームを有し、かつプローブを保
   持する面と反対側の面に釣合いおもりを保持する
   ことを特徴とする装置。 １０ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつ
   て、プローブは単極プローブであることを特徴と
   する装置。 １１ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつ
   て、くい込む物体はダイヤモンドであることを特
   徴とする装置。 １２ 特許請求の範囲第１項または第１１項記載
   の装置であつて、くい込む物体の単面は120度プ
   ラスマイナス20度の立体角を有する円錐の切頭体
   を形成することを特徴とする装置。 １３ 特許請求の範囲第１項、第１１項または第
   １２項記載の装置であつて、円錐の切頭体の先端
   は0.1〜0.3mm、好ましくは0.2mmの曲率半径を有す
   る頂部に丸められることを特徴とする装置。 １４ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつ
   て、プローブと案内機構及び駆動装置は重量が
   300グラム以上で、固体上に載せられる携帯可能
   な機器のためのものであることを特徴とする装
   置。 １５ 特許請求の範囲第１４項記載の装置であつ
   て、前記機器は３本の脚で立つことを特徴とする
   装置。 １６ 特許請求の範囲第１５項記載の装置であつ
   て、１本の脚はトランジスタであることを特徴と
   すする装置。 １７ 特許請求の範囲第１６項記載の装置であつ
   て、機器は重い基板を有し、その基板にはプロー
   ブを通す切欠き部が設けられることを特徴とする
   装置。 １８ 特許請求の範囲第１項記載の装置であつ
   て、プローブおよびある静止点の間にかけわされ
   る電線は柔軟であることを特徴とする装置。 １９ 特許請求の範囲第６項または第１８項記載
   の装置であつて、電線は回転磁石の回転中心にお
   いてレバー上に固定されていることを特徴とする
   装置。 ２０ 特許請求の範囲第１項乃至第１９項のいず
   れかに記載の装置であつて、処理回路は時間を表
   す変量を受けることを特徴とする装置。 ２１ 特許請求の範囲第２０項記載の装置であつ
   て、時間の対数を表す変量が受けられることを特
   徴とする装置。