JPH0313539B2 - - Google Patents
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- JPH0313539B2 JPH0313539B2 JP60087647A JP8764785A JPH0313539B2 JP H0313539 B2 JPH0313539 B2 JP H0313539B2 JP 60087647 A JP60087647 A JP 60087647A JP 8764785 A JP8764785 A JP 8764785A JP H0313539 B2 JPH0313539 B2 JP H0313539B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N3/00—Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress
- G01N3/40—Investigating hardness or rebound hardness
- G01N3/42—Investigating hardness or rebound hardness by performing impressions under a steady load by indentors, e.g. sphere, pyramid
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N2203/0058—Kind of property studied
- G01N2203/0076—Hardness, compressibility or resistance to crushing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N2203/0617—Electrical or magnetic indicating, recording or sensing means
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
〔利用分野〕
本発明は、固体物質の特性の非破壊的、絶対的
測定をなすための装置に関し、更に詳細にいえ
ば、その物質に食い込む物体の作用からその特性
を取り出し得、さらに電気的評価回路とともに上
記物質へ食い込み物体を案内する案内装置を有す
る測定装置関する。
測定をなすための装置に関し、更に詳細にいえ
ば、その物質に食い込む物体の作用からその特性
を取り出し得、さらに電気的評価回路とともに上
記物質へ食い込み物体を案内する案内装置を有す
る測定装置関する。
ある物質の特性を測定するためにそれに食い込
む物体の作用を用いる最良の公知例は多分、物質
の硬度測定であろう。たとえば、シヨア硬さ測
定、ヴイツカース硬さ測定、ロツクウエル硬さ測
定、ブリネル硬さ測定、ヘルベルト(Herberts)
振り子など、数多くの方法が既に存在している。
しかし、表面層が完全にもしくは部分的に破壊さ
れるという事実を考えると、これらの方法を多様
な分野で用いることはできない。たとえば、塗料
の硬さを測定する場合、塗料層には完全には貫き
通らないことがある。にもかかわらず、この塗料
は損傷し、そして塗料層の残りには変化がないと
しても試験乃至測点でのさび斑点が腐食の核とな
ることがある。このため、完成品は測定できず、
テスト試料が測定されることになる。しかし、テ
スト試料はあくまで試験用であつて完成(仕上
げ)品ではない。
む物体の作用を用いる最良の公知例は多分、物質
の硬度測定であろう。たとえば、シヨア硬さ測
定、ヴイツカース硬さ測定、ロツクウエル硬さ測
定、ブリネル硬さ測定、ヘルベルト(Herberts)
振り子など、数多くの方法が既に存在している。
しかし、表面層が完全にもしくは部分的に破壊さ
れるという事実を考えると、これらの方法を多様
な分野で用いることはできない。たとえば、塗料
の硬さを測定する場合、塗料層には完全には貫き
通らないことがある。にもかかわらず、この塗料
は損傷し、そして塗料層の残りには変化がないと
しても試験乃至測点でのさび斑点が腐食の核とな
ることがある。このため、完成品は測定できず、
テスト試料が測定されることになる。しかし、テ
スト試料はあくまで試験用であつて完成(仕上
げ)品ではない。
また、貫通されている固体物質の反応から取り
出し得るその物質の特性を測定する非破壊的な方
法がある。たとえば、物質上に超音波プローブを
置くことによつて、周波数不整合を測定できるこ
とが知られている。この方法は試料との結合の度
合いに大きく影響される。加うるに、測定される
のは硬さだけではない(なぜなら、測定値は物質
の弾性係数、コーテイングの厚さ、および試験体
の形状とくに厚さに大きく依存するからである)。
この方法は相対的判断に用いることができるだけ
で、絶対的測定に用いることはできない。
出し得るその物質の特性を測定する非破壊的な方
法がある。たとえば、物質上に超音波プローブを
置くことによつて、周波数不整合を測定できるこ
とが知られている。この方法は試料との結合の度
合いに大きく影響される。加うるに、測定される
のは硬さだけではない(なぜなら、測定値は物質
の弾性係数、コーテイングの厚さ、および試験体
の形状とくに厚さに大きく依存するからである)。
この方法は相対的判断に用いることができるだけ
で、絶対的測定に用いることはできない。
絶対的測定をなす別の非破壊的方法が、1981年
12月1日付の「インドウストリー・アンツアイガ
ー(Industrie‐Anzeiger)」に「鍜造物の硬さ分
布を試験する方法」という題で記載された。記載
された装置は非常に高価である。また、大型なの
で、試験体を装置まで持つてこなければならず、
装置を運ぶことは困難である。力は誘導的に加え
られ、食い込み深さは光学変位測定方法によつて
測定される。測定用に用いられたセンサ装置のた
めに、マイクロメータの領域の食い込み深さを確
実に測定することはできない。ここの方法は典型
的な食い込み深さである500μmで表面硬さを測定
するために設計されている。マイクロメータねじ
ゲージの場合と同様に、装置は非常に硬いヨーク
を必要とする。所定の力での食い込み深さは、そ
の測定値が加えられた力の複雑な関数である故、
使い勝手の良くないノモグラフによつて変換され
る。
12月1日付の「インドウストリー・アンツアイガ
ー(Industrie‐Anzeiger)」に「鍜造物の硬さ分
布を試験する方法」という題で記載された。記載
された装置は非常に高価である。また、大型なの
で、試験体を装置まで持つてこなければならず、
装置を運ぶことは困難である。力は誘導的に加え
られ、食い込み深さは光学変位測定方法によつて
測定される。測定用に用いられたセンサ装置のた
めに、マイクロメータの領域の食い込み深さを確
実に測定することはできない。ここの方法は典型
的な食い込み深さである500μmで表面硬さを測定
するために設計されている。マイクロメータねじ
ゲージの場合と同様に、装置は非常に硬いヨーク
を必要とする。所定の力での食い込み深さは、そ
の測定値が加えられた力の複雑な関数である故、
使い勝手の良くないノモグラフによつて変換され
る。
特願昭59−75655号には、安価に製造でき、使
用場所に持運ぶことができる程小型で、非破壊的
に測定でき、再現性ある絶対測定ができ、異方性
物質の最上部コーテイングの硬さを実際に測定で
き、簡単な関数関係が導かれ、超音波センサ、干
渉測定などのような厄介な装置をもたず、素人に
も取扱いができる装置が記載されている。
用場所に持運ぶことができる程小型で、非破壊的
に測定でき、再現性ある絶対測定ができ、異方性
物質の最上部コーテイングの硬さを実際に測定で
き、簡単な関数関係が導かれ、超音波センサ、干
渉測定などのような厄介な装置をもたず、素人に
も取扱いができる装置が記載されている。
これに示された発明は次のような利点をもつて
いる。
いる。
A プローブ(既に公知)によつて、厚さの広範
囲にわたつて、コーテイング厚さの非常に精密
な測定が可能になる。非常に精密な測定が可能
であることから、コーテイング厚さの差を高精
密度で測定することも可能である。たとえば、
20μmのコーテイング厚さにおいては0.05μmの
コーテイング厚さの変化も容易に検出できる。
また、100〜500μmの範囲では、0.1μmのコー
テイング厚さの変化が容易に測定できる。この
ような小さなコーテイング厚の変化は極めて低
い接触力で発生することがある。所要力の大き
さを考慮して、たとえば、0.05〜1Nの範囲に
おく。
囲にわたつて、コーテイング厚さの非常に精密
な測定が可能になる。非常に精密な測定が可能
であることから、コーテイング厚さの差を高精
密度で測定することも可能である。たとえば、
20μmのコーテイング厚さにおいては0.05μmの
コーテイング厚さの変化も容易に検出できる。
また、100〜500μmの範囲では、0.1μmのコー
テイング厚さの変化が容易に測定できる。この
ような小さなコーテイング厚の変化は極めて低
い接触力で発生することがある。所要力の大き
さを考慮して、たとえば、0.05〜1Nの範囲に
おく。
B これらの最小の力は、最も軟らかいコーテイ
ングさえも破壊しない。
ングさえも破壊しない。
C 所要の力が非常に小さいということから、装
置がそれ自身の重さで曲がるというおそれはな
く、非常に少ない材料でもつてここに述べた目
的に対して十分な剛性をその装置に持たせるこ
とができる。
置がそれ自身の重さで曲がるというおそれはな
く、非常に少ない材料でもつてここに述べた目
的に対して十分な剛性をその装置に持たせるこ
とができる。
D このような小さな力で、測定は実際には、ほ
とんどの応用分野で最も重要な資料となる表面
領域においてなされる。
とんどの応用分野で最も重要な資料となる表面
領域においてなされる。
E 小さな測定面積であり、測定によつては何の
跡も残らない。
跡も残らない。
F 高いエネルギを加える必要がないということ
から、高いエネルギを供給する必要もない。従
つて、装置を小さな電池の電力で用いることが
できる。
から、高いエネルギを供給する必要もない。従
つて、装置を小さな電池の電力で用いることが
できる。
G 測定は、結果がどのような場合であつても、
実際上変位がない。
実際上変位がない。
H 装置は、非常に小さなかつ(または)曲がつ
た表面について測定を行なうのに用いることが
できる。
た表面について測定を行なうのに用いることが
できる。
厚いコーテイングを高精度で測定するプローブ
は従来から公知であり、たとえば、西独実用新案
第7243915号、西独実用新案第7336864号、西独特
許公開第2556340号または西独特許出願第
P3331407号に記載されている。
は従来から公知であり、たとえば、西独実用新案
第7243915号、西独実用新案第7336864号、西独特
許公開第2556340号または西独特許出願第
P3331407号に記載されている。
しかし、前記特願昭59−75655号に記載された
発明は次のような弱点も有している。
発明は次のような弱点も有している。
A たとえば、第2図においてコーテイング22
が基板23上に被着されているように、測定さ
れるべきコーテイングは基板上に被着しなけれ
ばならない。磁気的な方法に基づいたプローブ
が用いられる場合は、コーテイングは軟鉄上に
被着しなければならない。うず電流方法に基づ
いたプローブが用いられる場合は、コーテイン
グは、たとえばアルミニウムまたはそれに類し
た金属上に被着しなければならない。しかし、
基板に被着されていない物質を測定できるのが
望ましい。たとえば、塗料は非常にしばしば、
磁性のもしくは非磁性の基板に塗られる。しか
し、他の多くの場合には、そうではない。
が基板23上に被着されているように、測定さ
れるべきコーテイングは基板上に被着しなけれ
ばならない。磁気的な方法に基づいたプローブ
が用いられる場合は、コーテイングは軟鉄上に
被着しなければならない。うず電流方法に基づ
いたプローブが用いられる場合は、コーテイン
グは、たとえばアルミニウムまたはそれに類し
た金属上に被着しなければならない。しかし、
基板に被着されていない物質を測定できるのが
望ましい。たとえば、塗料は非常にしばしば、
磁性のもしくは非磁性の基板に塗られる。しか
し、他の多くの場合には、そうではない。
B プローブは、その先端が食い込み体ともなる
ので特別に製作しなければならない。
ので特別に製作しなければならない。
C コーテイングが磁気的軟物質に被着されてい
るか、非磁性物質に被着されるかに応じて、
別々の種類のプローブを用いなれけばならな
い。たとえばこのような物質も硬さもしくは流
れ性質を測定することだけに関心のある当業者
は、しばしば測定されるべきコーテイングの下
にどんな基板が用いられているか知らないし、
その基板の磁気的性質について全く知識をもた
ないか、もつたとしても非常にばくぜんとして
いるのが常である。
るか、非磁性物質に被着されるかに応じて、
別々の種類のプローブを用いなれけばならな
い。たとえばこのような物質も硬さもしくは流
れ性質を測定することだけに関心のある当業者
は、しばしば測定されるべきコーテイングの下
にどんな基板が用いられているか知らないし、
その基板の磁気的性質について全く知識をもた
ないか、もつたとしても非常にばくぜんとして
いるのが常である。
本発明の目的は、電気的評価回路および固体物
質へ食い込み体を案内する案内装置を有し、固体
物質への食い込み体の動作から物質の特性を導出
する非破壊の絶対的測定装置のすべての利点を有
し、測定されるべきコーテイングを基板に被着さ
せなくても、物質の特性が測定できる測定装置を
提供することにある。
質へ食い込み体を案内する案内装置を有し、固体
物質への食い込み体の動作から物質の特性を導出
する非破壊の絶対的測定装置のすべての利点を有
し、測定されるべきコーテイングを基板に被着さ
せなくても、物質の特性が測定できる測定装置を
提供することにある。
この本発明の目的は、固体物質へ押圧される食
い込み体の挙動から導出される固体物質の特性
を、非破壊で絶対的に測定するため、食い込み体
を担持しその食い込み体をその押圧運動方向に沿
つて前記固体物質へと案内する案内装置と、電気
的評価回路とを有する測定装置において: (a) 前記案内装置に結合され、可変であるが特定
された力で前記食い込み体を前記固体物質へと
押圧するための電気駆動装置を備え; (b) 第1部分および第2部分を有し、それら相互
間の、前記押圧運動方向に沿つた距離につい
て、食い込み体による食い込み深さの測定に十
分な解像度でもつて測定を可能とする、浮動式
の距離測定装置を備え; (c) 前記第1部分は前記食い込み体に剛に結合さ
れ; (d) 前記第2部分に結合された従節であつて、前
記第1部分に対する前記第2部分の機械的接触
を介して前記食い込み体を前記固体物質の表面
へと跳ね返りなしに案内する従節を備え; (e) 前記押圧運動方向において前記従節を微細に
動かす手段を備え、この手段は、前記食い込み
体が前記固体物質の上に着座した後において前
記距離測定装置によりその前記第1部分および
第2部分の間の距離が所定値に至つたことが測
定された時に、滅勢され; (f) 前記距離測定装置から得られる、食い込み深
さを表す電圧出力を、前記電気的評価回路へ導
く手段を備える ことによつて達成される。
い込み体の挙動から導出される固体物質の特性
を、非破壊で絶対的に測定するため、食い込み体
を担持しその食い込み体をその押圧運動方向に沿
つて前記固体物質へと案内する案内装置と、電気
的評価回路とを有する測定装置において: (a) 前記案内装置に結合され、可変であるが特定
された力で前記食い込み体を前記固体物質へと
押圧するための電気駆動装置を備え; (b) 第1部分および第2部分を有し、それら相互
間の、前記押圧運動方向に沿つた距離につい
て、食い込み体による食い込み深さの測定に十
分な解像度でもつて測定を可能とする、浮動式
の距離測定装置を備え; (c) 前記第1部分は前記食い込み体に剛に結合さ
れ; (d) 前記第2部分に結合された従節であつて、前
記第1部分に対する前記第2部分の機械的接触
を介して前記食い込み体を前記固体物質の表面
へと跳ね返りなしに案内する従節を備え; (e) 前記押圧運動方向において前記従節を微細に
動かす手段を備え、この手段は、前記食い込み
体が前記固体物質の上に着座した後において前
記距離測定装置によりその前記第1部分および
第2部分の間の距離が所定値に至つたことが測
定された時に、滅勢され; (f) 前記距離測定装置から得られる、食い込み深
さを表す電圧出力を、前記電気的評価回路へ導
く手段を備える ことによつて達成される。
先発明におけると同様に案内装置が電気駆動装
置の形式で備えられる。しかし、この場合、食い
込み体それ自体は駆動装置に結合して用いること
ができ、プローブはその先端に食い込み体を保持
する必要がない。しかし、基板に関して測定され
るべきコーテイングの厚さは、以前の場合のよう
に直接には測定されないで、種々の力による食い
込み体の食い込みが、装置の別の部分で測定され
る。食い込み体それ自体を物質上に降下させるた
めにその食い込み体に必要な変位は吊り下げ距離
測定装置によつて測定されないで、測定の開始点
は物質の表面を示す位置に移動される。測定のた
めには、上記距離測定装置は、所定の距離(それ
はもちろん所望の食い込み深さよりも大きくなけ
ればならない)で動作を開始する。
置の形式で備えられる。しかし、この場合、食い
込み体それ自体は駆動装置に結合して用いること
ができ、プローブはその先端に食い込み体を保持
する必要がない。しかし、基板に関して測定され
るべきコーテイングの厚さは、以前の場合のよう
に直接には測定されないで、種々の力による食い
込み体の食い込みが、装置の別の部分で測定され
る。食い込み体それ自体を物質上に降下させるた
めにその食い込み体に必要な変位は吊り下げ距離
測定装置によつて測定されないで、測定の開始点
は物質の表面を示す位置に移動される。測定のた
めには、上記距離測定装置は、所定の距離(それ
はもちろん所望の食い込み深さよりも大きくなけ
ればならない)で動作を開始する。
案内装置として、電気駆動装置の駆動軸に固定
されたレバーを用い、そのレバーに回動運動の接
線方向に前記食い込み体を保持させれば、遊びを
もつた中間歯車が不要となり、測定は実際上変位
なく行なわれ、電気駆動装置の回転運動によつて
食い込み体の準線形運動を得ることができる。
されたレバーを用い、そのレバーに回動運動の接
線方向に前記食い込み体を保持させれば、遊びを
もつた中間歯車が不要となり、測定は実際上変位
なく行なわれ、電気駆動装置の回転運動によつて
食い込み体の準線形運動を得ることができる。
食い込み体としてダイヤモンドを使用すれば、
これは既知の最も硬い物質であり、磁気的には中
性で、その側面はかなり高度に研摩できる食い込
み体を与えるので、変化する力が加えられても、
へこみの壁を全く引かかないか、引かいてもほん
のわずかである。従つて、食い込み体は精密なく
さびとして作ることができ、それは、変化する力
のためダイヤモンドを用いる周知の硬さ測定方法
とは全く別の意味を有する。
これは既知の最も硬い物質であり、磁気的には中
性で、その側面はかなり高度に研摩できる食い込
み体を与えるので、変化する力が加えられても、
へこみの壁を全く引かかないか、引かいてもほん
のわずかである。従つて、食い込み体は精密なく
さびとして作ることができ、それは、変化する力
のためダイヤモンドを用いる周知の硬さ測定方法
とは全く別の意味を有する。
食い込み体としてピラミツド形ヴイツカースダ
イヤモンドを使用すれば、ヴイツカース硬さ測定
に関連した豊富な経験のいくつかを用いることが
可能になる。
イヤモンドを使用すれば、ヴイツカース硬さ測定
に関連した豊富な経験のいくつかを用いることが
可能になる。
食い込み体として円錐形のロツクウエルダイヤ
モンドを使用すれば、ロツクウエル硬さ測定に関
連した豊富な経験のいくつかを用いることが可能
になる。
モンドを使用すれば、ロツクウエル硬さ測定に関
連した豊富な経験のいくつかを用いることが可能
になる。
食い込み体としてブリネル鋼球を使用すれば、
ブリネル硬さ測定に関連した豊富な経験のいくつ
かを用いることができる。
ブリネル硬さ測定に関連した豊富な経験のいくつ
かを用いることができる。
食い込み体を交換可能とし、案内装置にねじ込
むことができるようにすることによつて、摩耗し
た食い込み体を新しいものと取り替えることが可
能になり、別の形状の食い込み体を用いることも
可能になる。
むことができるようにすることによつて、摩耗し
た食い込み体を新しいものと取り替えることが可
能になり、別の形状の食い込み体を用いることも
可能になる。
永久的力が案内装置にゆるやかに作用させられ
て、その案内装置を食い込み体の送り方向に対抗
して偏倚させるようにすることにより、食い込み
体を、測定開始のとき、測定の開始位置に安全に
置くことができる。
て、その案内装置を食い込み体の送り方向に対抗
して偏倚させるようにすることにより、食い込み
体を、測定開始のとき、測定の開始位置に安全に
置くことができる。
永久的力を与えるために磁石を使用することに
よつて、疲労、ヒステリシス、摩擦など、ばねの
欠点を回避できる。付加的なエネルギを必要とし
ない磁気装置としては永久磁石が望ましい。特
に、2つの磁石を設けて、案内装置として用いた
レバーに対するそれらの位置に応じて、駆動軸の
右または左にあるようにするのが望ましい。
よつて、疲労、ヒステリシス、摩擦など、ばねの
欠点を回避できる。付加的なエネルギを必要とし
ない磁気装置としては永久磁石が望ましい。特
に、2つの磁石を設けて、案内装置として用いた
レバーに対するそれらの位置に応じて、駆動軸の
右または左にあるようにするのが望ましい。
食い込み体の送り方向に整列させた2つの磁石
を使用すれば、それらの磁石が横方向の力を生じ
ないようにすることができる。
を使用すれば、それらの磁石が横方向の力を生じ
ないようにすることができる。
食い込み体送り方向と逆方向における案内装置
の動きを限定する止め具がその案内装置のために
備えられれば、磁石が相互に接触することを阻止
できる。そうしないと、電気駆動装置に大きな駆
動力の発生が必要となる。止め具によつて磁石は
ある間隔に保たれ、案内装置の運動の範囲ではほ
とんど一定の作用力が得られる。
の動きを限定する止め具がその案内装置のために
備えられれば、磁石が相互に接触することを阻止
できる。そうしないと、電気駆動装置に大きな駆
動力の発生が必要となる。止め具によつて磁石は
ある間隔に保たれ、案内装置の運動の範囲ではほ
とんど一定の作用力が得られる。
距離測定装置が薄いコーテイングを測定するた
めのプローブを含み、そのプローブが距離測定装
置の第1部分および第2部分のうちの一方に固定
され、その相手方となる極体が他方に固定されて
いるものであれば、距離測定において有用性が認
められているプローブまたは周知の特殊な構造を
用いることを可能にする。食い込み体の食い込み
深さの測定は距離測定から導かれ、その距離測定
は装置内に実現されている一定状態の下でなされ
る。従つて、食い込み体によつて作られたへこみ
の形状の観測によらず、食い込み深さの距離測定
は直接になされる。通常、距離測定装置は本発明
装置の内部にある。従つて、プローブは測定され
るべき物質から離れている。それ故、測定される
べき物質が非常に暖かい場合でも、プローブを用
いることができる。このことは、たとえば塗料の
場合は非常に重要である。温度がプローブに達す
る迄に、測定は終了してしまう。なぜなら、1つ
の測定サイクルにおける3〜6個の点は硬さ測定
の場合わずか数秒しか必要としないからである。
温度の関数として硬さの減少が測定される場合
(これはプラスチツクの場合特に重要である)は、
装置の内部を冷却することによつて解決され得
る。ダイヤモンドや他の食い込み体は熱を感じな
い。距離測定装置は本発明装置の内部に配置する
ことができるので、装置の内部は冷却できる。
めのプローブを含み、そのプローブが距離測定装
置の第1部分および第2部分のうちの一方に固定
され、その相手方となる極体が他方に固定されて
いるものであれば、距離測定において有用性が認
められているプローブまたは周知の特殊な構造を
用いることを可能にする。食い込み体の食い込み
深さの測定は距離測定から導かれ、その距離測定
は装置内に実現されている一定状態の下でなされ
る。従つて、食い込み体によつて作られたへこみ
の形状の観測によらず、食い込み深さの距離測定
は直接になされる。通常、距離測定装置は本発明
装置の内部にある。従つて、プローブは測定され
るべき物質から離れている。それ故、測定される
べき物質が非常に暖かい場合でも、プローブを用
いることができる。このことは、たとえば塗料の
場合は非常に重要である。温度がプローブに達す
る迄に、測定は終了してしまう。なぜなら、1つ
の測定サイクルにおける3〜6個の点は硬さ測定
の場合わずか数秒しか必要としないからである。
温度の関数として硬さの減少が測定される場合
(これはプラスチツクの場合特に重要である)は、
装置の内部を冷却することによつて解決され得
る。ダイヤモンドや他の食い込み体は熱を感じな
い。距離測定装置は本発明装置の内部に配置する
ことができるので、装置の内部は冷却できる。
距離測定装置の解像度が少なくとも1μmの1/10
0の範囲内にあるようにすれば、非常に硬い物質
の場合でも測定誤差はわずかであることを意味す
る。食い込み体がたとえば1μmの深さまで食い込
み、分解能がそうであると、その分解能による誤
差はほんの数パーセント程度である。
0の範囲内にあるようにすれば、非常に硬い物質
の場合でも測定誤差はわずかであることを意味す
る。食い込み体がたとえば1μmの深さまで食い込
み、分解能がそうであると、その分解能による誤
差はほんの数パーセント程度である。
プローブが磁場原理で作動するものであれば、
市販の、十分に改良された、高精度のプローブを
用いることが可能になる。容量性の距離測定装置
が入手可能なら、それらを用いることができる。
市販の、十分に改良された、高精度のプローブを
用いることが可能になる。容量性の距離測定装置
が入手可能なら、それらを用いることができる。
距離測定装置には光学目盛定規、光ポインタお
よび鏡で動作するものを用いることもでき、その
場合には、磁場原理で作動するプローブや容量性
プローブと同様に、非接触で高解像度が得られ
る。
よび鏡で動作するものを用いることもでき、その
場合には、磁場原理で作動するプローブや容量性
プローブと同様に、非接触で高解像度が得られ
る。
プローブが磁場板原理で動作するプローブすな
わちホール効果プローブであれば、距離測定装置
用の相手方の極体として鉄を用いることが可能に
なる。
わちホール効果プローブであれば、距離測定装置
用の相手方の極体として鉄を用いることが可能に
なる。
前記相手方となる極体が不活性の薄いコーテイ
ングによつて覆われた金属板を含むものであれ
ば、相手方の極体の表面が時間の経過とともに変
化しないように、すなわち酸化しないようにでき
る。これは、時間が経過しても表面形態が変化し
ないことを意味する。
ングによつて覆われた金属板を含むものであれ
ば、相手方の極体の表面が時間の経過とともに変
化しないように、すなわち酸化しないようにでき
る。これは、時間が経過しても表面形態が変化し
ないことを意味する。
前記不活性の薄いコーテイングが金コーテイン
グであれば、被覆コーテイングが気相被着シリコ
ンである場合に起るようなひび割れを起さないコ
ーテイングを与える簡単な手段によつて酸化が防
がれる。
グであれば、被覆コーテイングが気相被着シリコ
ンである場合に起るようなひび割れを起さないコ
ーテイングを与える簡単な手段によつて酸化が防
がれる。
前記相手方となる極体が前記プローブに垂直に
配列されていれば、異物たとえばほこりが相手方
の極体にたまる危険が減少される。
配列されていれば、異物たとえばほこりが相手方
の極体にたまる危険が減少される。
前記相手方となる極体がプローブの領域に対し
て近似的に無限大に相当する特徴を有する場合、
この特徴は距離測定の較正値が無限大の距離値を
とるならば修正要素は必要ないことを意味する。
て近似的に無限大に相当する特徴を有する場合、
この特徴は距離測定の較正値が無限大の距離値を
とるならば修正要素は必要ないことを意味する。
前記プローブが従節(フオロア)上にあり、前
記相手方となる極体が案内装置上にあるようにす
ることにより、プローブのための導線は案内装置
に対して何の影響も及ぼさず、ただ単に望ましく
ない力としての摩擦を生じさせるにすぎないよう
にできる。従節の目的は単に追随することであつ
て、加えるべき力の決定には関係していない。
記相手方となる極体が案内装置上にあるようにす
ることにより、プローブのための導線は案内装置
に対して何の影響も及ぼさず、ただ単に望ましく
ない力としての摩擦を生じさせるにすぎないよう
にできる。従節の目的は単に追随することであつ
て、加えるべき力の決定には関係していない。
前記距離測定装置が、前記食い込み体の運動の
方向からみてその食い込み体に整列されていれ
ば、距離測定装置の第1部分が第2部分の上に降
されたとき望ましくない力が電気駆動装置および
その軸受に何ら作用しないようにできる。
方向からみてその食い込み体に整列されていれ
ば、距離測定装置の第1部分が第2部分の上に降
されたとき望ましくない力が電気駆動装置および
その軸受に何ら作用しないようにできる。
前記従節がねじ切りスピンドルを備えていれ
ば、従節の動作精度を高くすることができる。
ば、従節の動作精度を高くすることができる。
前記ねじ付きスピンドルが食い込み体の運動方
向と平行になつていれば、遊びをともなつた継手
をさらに用いることが避けられる。
向と平行になつていれば、遊びをともなつた継手
をさらに用いることが避けられる。
前記ねじ切りスピンドルが減速歯車を介して電
動機によつて駆動されるものであれば、ねじ切り
スピンドルが簡単にかつ両回転方向に微細に駆動
され得る。
動機によつて駆動されるものであれば、ねじ切り
スピンドルが簡単にかつ両回転方向に微細に駆動
され得る。
前記距離測定装置に近接してかつ食い込み体の
運動方向に垂直にピボツト軸が備えられ、距離測
定装置の第1部分および第2部分の一方がこのピ
ボツト軸に固定されていれば、距離測定装置に対
する必要な移動の可能性が機械的に非常に直接的
に、かつ簡単に、「がた」なしに、最小の継手で
実現できる。
運動方向に垂直にピボツト軸が備えられ、距離測
定装置の第1部分および第2部分の一方がこのピ
ボツト軸に固定されていれば、距離測定装置に対
する必要な移動の可能性が機械的に非常に直接的
に、かつ簡単に、「がた」なしに、最小の継手で
実現できる。
前記ピボツト軸に、1つのレバーの一端が固定
され、ねじ切りスピンドルによつてそのレバーの
他端が案内されていれば、装置が小型であるにも
かかわらず、従節に対して微細な移動ができるよ
うになる。
され、ねじ切りスピンドルによつてそのレバーの
他端が案内されていれば、装置が小型であるにも
かかわらず、従節に対して微細な移動ができるよ
うになる。
前記レバーは幅広の板ばねであつて、その剛な
方向はその運動方向に平行であり、その他端でね
じ切りスピンドルのねじ山の側面上にバツクラツ
シユなくかみ合うカツプを有し、板ばねに予圧応
力を加えることにより曲げ方向においてそのねじ
山に押し込まれるように構成されていれば、遊び
をもたず一方で極めて剛で他方非常に軽いレバー
を得られる。
方向はその運動方向に平行であり、その他端でね
じ切りスピンドルのねじ山の側面上にバツクラツ
シユなくかみ合うカツプを有し、板ばねに予圧応
力を加えることにより曲げ方向においてそのねじ
山に押し込まれるように構成されていれば、遊び
をもたず一方で極めて剛で他方非常に軽いレバー
を得られる。
前記予圧応力を板ばねがその端部位置に達する
とカツプがねじ山からはずれる程小さくすれば、
ねじ切りスピンドルが端部位置で正確に停止でき
なくとも何も破壊されないようにできる。
とカツプがねじ山からはずれる程小さくすれば、
ねじ切りスピンドルが端部位置で正確に停止でき
なくとも何も破壊されないようにできる。
前記ピボツト軸と前記駆動軸が同じレベルでお
互いに平行に配列されていれば、装置は平らにで
き、同時に距離測定装置と食い込み体の運動の対
比がより容易になる。
互いに平行に配列されていれば、装置は平らにで
き、同時に距離測定装置と食い込み体の運動の対
比がより容易になる。
電気駆動装置の他方の側にある電動機の一端が
装置基板に固定されていれば、レバーが最適の長
さをもつことができ、また電動機の磁場は、プロ
ーブが磁気コイルを有していてもそのプローブを
妨害しないようにできる。
装置基板に固定されていれば、レバーが最適の長
さをもつことができ、また電動機の磁場は、プロ
ーブが磁気コイルを有していてもそのプローブを
妨害しないようにできる。
前記ねじ切りスピンドルが両端に軸受を有し、
これら軸受の少なくとも1つがつば付き軸受であ
るなら、バツクラツシユをおどろく程無くすこと
ができる。電動機ないしその電動駆動装置が多く
のまたは少しのバツクラツシユをもつかどうかは
問題とならなくなる。
これら軸受の少なくとも1つがつば付き軸受であ
るなら、バツクラツシユをおどろく程無くすこと
ができる。電動機ないしその電動駆動装置が多く
のまたは少しのバツクラツシユをもつかどうかは
問題とならなくなる。
装置基板が3本の脚の上に起立し、そのうちの
2本は食い込み体の先端と共通線上にあれば、た
とえばパイプや他のプリズム状物体のような屈曲
体の周囲での測定が容易になる。
2本は食い込み体の先端と共通線上にあれば、た
とえばパイプや他のプリズム状物体のような屈曲
体の周囲での測定が容易になる。
前記共通線が装置の横断縁のうちの1つと平行
に走るような構成は、プリズム状物体に対して測
定がなされるべき場合のより明確な着想を示して
いる。
に走るような構成は、プリズム状物体に対して測
定がなされるべき場合のより明確な着想を示して
いる。
前記2本の脚が硬い球状カツプの形状をしてい
れば、装置を測定されるべき物質の形状に関係な
く最も望ましいように置くことができる。
れば、装置を測定されるべき物質の形状に関係な
く最も望ましいように置くことができる。
開始スイツチを設けることにより、装置が一旦
始動したら手を触れないようにできる。いずれに
しても装置は電子装置を準備するのに10分の数秒
必要とするから、装置を物質上に置くことによつ
て生じるどんな振動もこの時までにおさまつてい
る。
始動したら手を触れないようにできる。いずれに
しても装置は電子装置を準備するのに10分の数秒
必要とするから、装置を物質上に置くことによつ
て生じるどんな振動もこの時までにおさまつてい
る。
この発明の測定装置の較正は、スイツチオンの
後、距離測定装置が第1の距離値に一致する位置
に運ばれ、この第1の値は記憶装置に記憶され、
公称距雄が第2の値としてその記憶装置に記憶さ
れることによつて行うことができる。これは、装
置内でのどんな変化も何の影響ももたないように
第1の距離値が繰返し決定されることを意味す
る。第2の距離値は特別に決定される必要はな
く、装置に既に記憶されている。
後、距離測定装置が第1の距離値に一致する位置
に運ばれ、この第1の値は記憶装置に記憶され、
公称距雄が第2の値としてその記憶装置に記憶さ
れることによつて行うことができる。これは、装
置内でのどんな変化も何の影響ももたないように
第1の距離値が繰返し決定されることを意味す
る。第2の距離値は特別に決定される必要はな
く、装置に既に記憶されている。
前記第1の値を準無限大に対応するものとすれ
ば、第1の値は非常に容易に決定できる。
ば、第1の値は非常に容易に決定できる。
前記第2の値を期待されるべき食い込み深さの
値よりずつと大きい値に対応させれば、第2の値
の数値が、差を形成して食い込み深さを決定する
ために常に得られるようになる。
値よりずつと大きい値に対応させれば、第2の値
の数値が、差を形成して食い込み深さを決定する
ために常に得られるようになる。
前記第2の値は10μ領域、望ましくは10〜80μ、
特に40μ±30%とすることができる。これらの、
数値は実際の測定に使えることがわかつており、
それ程の努力を払わないでも容易に電気的または
機械的に取り扱うことができる。
特に40μ±30%とすることができる。これらの、
数値は実際の測定に使えることがわかつており、
それ程の努力を払わないでも容易に電気的または
機械的に取り扱うことができる。
本発明を好適な実施例を用いて説明する。
金属板16は、矩形で、重く、堅い。金属板1
6は、その底部にねじ込まれ、半球17,18と
なつた硬化表面を有する2つのボルト上に置かれ
る。これら2つのボルトは、中央面19(第4
図)に関して対称となつており、かつその中央面
19に垂直で金属板16の前縁22と平行な横断
面21に関しても対称となつている。横断面21
は前縁22に近い。金属板16は、その後縁23
の近くに、穴24を有していて、その穴の中に
は、第3の、しかし固定された脚として働くトラ
ンジスタ26がある。トランジスタ26は熱検知
器としても働き、その熱検知器で物質27(それ
の特性は食い込み作用の関数として測定される)
の温度を測定できる。垂直の支持柱28が前縁2
2と後縁23の近くの領域にねじ込まれる。堅い
重金属カバー板29はこれら支持柱上に上からね
じ止めされる。このカバー板は、金属板16およ
び支持柱28とともに、非常に剛な、保護用の、
しかも十分に重いかごを形成する。金属板16の
中央には、回転磁気アセンブリ31が置かれてい
る。このアセンブリは市販されている。これは端
わく32によつて金属板16に固定されている。
ほぼ円筒状の回転磁気アセンブリ31をできるだ
け低く着座させるために、円筒の一部を形成する
くぼみが金属板16の円筒下の部分に設けられ
て、アセンブリ31が部分的にそのくぼみに埋ら
れるようにする。回転磁気アセンブリ31の駆動
軸34は端わく32を貫通し、駆動軸34は横断
面21と平行になつている。駆動軸34は左腕3
7および右腕38を有するレバー36を保持して
いる。レバー36は金属でできていて重く、その
幅広形状のために回転方向39において現在の目
的に対しては絶対的な剛体性を有する。レバー3
6は駆動軸34によつて絶対比例的に回転され
る。
6は、その底部にねじ込まれ、半球17,18と
なつた硬化表面を有する2つのボルト上に置かれ
る。これら2つのボルトは、中央面19(第4
図)に関して対称となつており、かつその中央面
19に垂直で金属板16の前縁22と平行な横断
面21に関しても対称となつている。横断面21
は前縁22に近い。金属板16は、その後縁23
の近くに、穴24を有していて、その穴の中に
は、第3の、しかし固定された脚として働くトラ
ンジスタ26がある。トランジスタ26は熱検知
器としても働き、その熱検知器で物質27(それ
の特性は食い込み作用の関数として測定される)
の温度を測定できる。垂直の支持柱28が前縁2
2と後縁23の近くの領域にねじ込まれる。堅い
重金属カバー板29はこれら支持柱上に上からね
じ止めされる。このカバー板は、金属板16およ
び支持柱28とともに、非常に剛な、保護用の、
しかも十分に重いかごを形成する。金属板16の
中央には、回転磁気アセンブリ31が置かれてい
る。このアセンブリは市販されている。これは端
わく32によつて金属板16に固定されている。
ほぼ円筒状の回転磁気アセンブリ31をできるだ
け低く着座させるために、円筒の一部を形成する
くぼみが金属板16の円筒下の部分に設けられ
て、アセンブリ31が部分的にそのくぼみに埋ら
れるようにする。回転磁気アセンブリ31の駆動
軸34は端わく32を貫通し、駆動軸34は横断
面21と平行になつている。駆動軸34は左腕3
7および右腕38を有するレバー36を保持して
いる。レバー36は金属でできていて重く、その
幅広形状のために回転方向39において現在の目
的に対しては絶対的な剛体性を有する。レバー3
6は駆動軸34によつて絶対比例的に回転され
る。
左腕37および右腕38は、中央面19に平行
に走り、端わく32の周縁および回転磁気アセン
ブリ31を越えて延びる中央片41によつて形成
される。各端部では90゜の角部42,43となつ
て内側に向い一体の構成として端片44,46に
連らなる。それによつて端片44,46は、中央
片41と頂度同じ幅になる。測定位置では、端片
44,46は、横断面21と平行に走り、そして
無論お互いに平行である。機械的止め具47が中
央片41と金属板16の間に備えられる。中央片
41は止め具47に接触するときは、レバー36
は第1図による時計回り方向において最も遠い位
置に至つている。何らかの反対方向の力がなけれ
ば、2つの永久磁石の反対極性の磁極48,49
はレバー36をこの位置に保持する。さらに、端
片46をもつ右腕38は、駆動軸34に関して、
左腕37に接続される部品(後述される)を含む
その左腕37の重量とつり合う均合いおもり51
を保持する。
に走り、端わく32の周縁および回転磁気アセン
ブリ31を越えて延びる中央片41によつて形成
される。各端部では90゜の角部42,43となつ
て内側に向い一体の構成として端片44,46に
連らなる。それによつて端片44,46は、中央
片41と頂度同じ幅になる。測定位置では、端片
44,46は、横断面21と平行に走り、そして
無論お互いに平行である。機械的止め具47が中
央片41と金属板16の間に備えられる。中央片
41は止め具47に接触するときは、レバー36
は第1図による時計回り方向において最も遠い位
置に至つている。何らかの反対方向の力がなけれ
ば、2つの永久磁石の反対極性の磁極48,49
はレバー36をこの位置に保持する。さらに、端
片46をもつ右腕38は、駆動軸34に関して、
左腕37に接続される部品(後述される)を含む
その左腕37の重量とつり合う均合いおもり51
を保持する。
第2図によれば、2本のワイヤ53,54が接
続される端子板52が端わく32の頂部に備えら
れる。通常の回転磁気アセンブリ31は、ワイヤ
53,54に流れる電流が特定のレベルに達する
と、正確かつ再現可能なトルクを駆動軸34に与
えるように設計されている。回転磁気アセンブリ
31は、駆動軸34を静止したまゝ、損傷なしに
引続いて駆動されることができる。
続される端子板52が端わく32の頂部に備えら
れる。通常の回転磁気アセンブリ31は、ワイヤ
53,54に流れる電流が特定のレベルに達する
と、正確かつ再現可能なトルクを駆動軸34に与
えるように設計されている。回転磁気アセンブリ
31は、駆動軸34を静止したまゝ、損傷なしに
引続いて駆動されることができる。
端片44は、中央面19を相当に越えて延びて
おり、第2図においてその前面上に、中央面19
の両側に延び図示されていない手段によつて固定
された金属支持ブロツク56を担持している。こ
れは、第2図に一致するように第5図に描かれた
形状をしている。それのベース57は立方体形状
を有している。めくらねじ穴59がその底面58
にあけられている。ここにマウント62のねじ切
りポスト61がそれの円形カラー63に達するま
でねじ込まれる。カラー63はそれの垂直軸線6
4と同軸になつており、その軸線64は、ねじ切
りめくら穴59、えじ切りポスト61、およびく
ぼみ66の中央軸に一致する。ヴイツカースダイ
ヤモンド67は、それの頂部面およびその軸の頂
部領域がくぼみ66に入り、そこで半田68で固
定される。ヴイツカースダイヤモンドは軸線64
と同軸になつている。それの形状はDIN 50133
に記されている。それの下方領域は136゜のフレア
角度をもつピラミツド形状を有している。その先
端は2μmの長さだけ平らになつている。軸線64
はこの先端を通過する。軸線64と整列した金属
板16の貫通孔69によつて、ヴイツカースダイ
ヤモンド67は金属板16を通過できるようにな
る。右腕38の止め具47に中央片41が達する
と、ヴイツカースダイヤモンド67は貫通孔69
から引き出されるので損傷を受けることがない。
図示された実施例では、リニアモータのようなも
のでなく、回転磁気アセンブリ形式の電気駆動装
置が用いられているので、ヴイツカースダイヤモ
ンド67は、やや弧を描いて移動する。したがつ
て、軸線64の位置もこの動きの間にわずかに動
く。しかし、これは重要ではない。ヴイツカース
ダイヤモンド67の先端が物質27の上面に接触
するときだけ、軸線64が物質27の適当な表面
部分と垂直になるようにされるべきである。
おり、第2図においてその前面上に、中央面19
の両側に延び図示されていない手段によつて固定
された金属支持ブロツク56を担持している。こ
れは、第2図に一致するように第5図に描かれた
形状をしている。それのベース57は立方体形状
を有している。めくらねじ穴59がその底面58
にあけられている。ここにマウント62のねじ切
りポスト61がそれの円形カラー63に達するま
でねじ込まれる。カラー63はそれの垂直軸線6
4と同軸になつており、その軸線64は、ねじ切
りめくら穴59、えじ切りポスト61、およびく
ぼみ66の中央軸に一致する。ヴイツカースダイ
ヤモンド67は、それの頂部面およびその軸の頂
部領域がくぼみ66に入り、そこで半田68で固
定される。ヴイツカースダイヤモンドは軸線64
と同軸になつている。それの形状はDIN 50133
に記されている。それの下方領域は136゜のフレア
角度をもつピラミツド形状を有している。その先
端は2μmの長さだけ平らになつている。軸線64
はこの先端を通過する。軸線64と整列した金属
板16の貫通孔69によつて、ヴイツカースダイ
ヤモンド67は金属板16を通過できるようにな
る。右腕38の止め具47に中央片41が達する
と、ヴイツカースダイヤモンド67は貫通孔69
から引き出されるので損傷を受けることがない。
図示された実施例では、リニアモータのようなも
のでなく、回転磁気アセンブリ形式の電気駆動装
置が用いられているので、ヴイツカースダイヤモ
ンド67は、やや弧を描いて移動する。したがつ
て、軸線64の位置もこの動きの間にわずかに動
く。しかし、これは重要ではない。ヴイツカース
ダイヤモンド67の先端が物質27の上面に接触
するときだけ、軸線64が物質27の適当な表面
部分と垂直になるようにされるべきである。
第7図は、ロツクウエルダイヤモンドも用いる
ことができることを示している。それは
DIN50103によれば半径0.2mmの丸い先端をもつた
90゜または120゜の円錐として形成されている。
ことができることを示している。それは
DIN50103によれば半径0.2mmの丸い先端をもつた
90゜または120゜の円錐として形成されている。
問題となつている作業に応じて、他の食い込み
体の形状を用いることもできる。
体の形状を用いることもできる。
ベース57の上ではブロツクは頂部に向かつて
だんだん平らになるくさび71を形成する。中央
面19に関して対称的に溝72がくさび71内に
設けられる。それは第5図にみられるようにその
深さ方向において軸64を越えてかなり右の方に
延びる。くさび71の頂部は同じ幅の平らな板状
部73になり、均一な厚さの軟鉄板74が板状部
の頂部面にあり、水平に走つている。板74は、
矩形で、横断面21とともに軸線64、中央面1
9によつて横切られている。板74の底面は薄い
金のコーテイング76を備えている。金コーテイ
ングは2μmの厚さである。
だんだん平らになるくさび71を形成する。中央
面19に関して対称的に溝72がくさび71内に
設けられる。それは第5図にみられるようにその
深さ方向において軸64を越えてかなり右の方に
延びる。くさび71の頂部は同じ幅の平らな板状
部73になり、均一な厚さの軟鉄板74が板状部
の頂部面にあり、水平に走つている。板74は、
矩形で、横断面21とともに軸線64、中央面1
9によつて横切られている。板74の底面は薄い
金のコーテイング76を備えている。金コーテイ
ングは2μmの厚さである。
板74の下には、上方に向かつて鋭がつてお
り、軸64と整列した状態で、磁気的距離測定原
理で動作するプローブ77がある。これは数年間
出願人によつてGA1.3Hの表示で売られてきた。
プローブ77は、今まで、基板上に被着された薄
いコーテイングの厚さの非破壊的な測定のために
用いられてきた。
り、軸64と整列した状態で、磁気的距離測定原
理で動作するプローブ77がある。これは数年間
出願人によつてGA1.3Hの表示で売られてきた。
プローブ77は、今まで、基板上に被着された薄
いコーテイングの厚さの非破壊的な測定のために
用いられてきた。
出願人による型T3.3Hのプローブ(これはうず
電流原理で動作し、非磁性物質上の薄いコーテイ
ングの厚さの非破壊的測定用として数年間売られ
た)も、プローブ77として用いることができ
る。この場合、板74はアルミニウムでよく、ア
ルミニウムの永久酸化表面層が金コーテイングと
置換されることができる。
電流原理で動作し、非磁性物質上の薄いコーテイ
ングの厚さの非破壊的測定用として数年間売られ
た)も、プローブ77として用いることができ
る。この場合、板74はアルミニウムでよく、ア
ルミニウムの永久酸化表面層が金コーテイングと
置換されることができる。
プローブ77の先端78と金コーテイング76
の間の距離は、これから述べる種々の動作状態の
間にゼロと数ミリの間に設定できる。金コーテイ
ングの厚さは2μmである。
の間の距離は、これから述べる種々の動作状態の
間にゼロと数ミリの間に設定できる。金コーテイ
ングの厚さは2μmである。
アルミニウム上の酸化物コーテイングの厚さは
一般の技術的知識である。
一般の技術的知識である。
後で説明するように、先端78と板74の底面
の間の距離は、重要な変数である。従つて、容量
性距離測定方法、鏡装置等のような十分な解像度
を有する他の距離測定装置を用いることができ
る。
の間の距離は、重要な変数である。従つて、容量
性距離測定方法、鏡装置等のような十分な解像度
を有する他の距離測定装置を用いることができ
る。
プローブ77は、第5図に示されているよう
に、短かく、変形しない腕81の右端の軸線64
と同軸の穴79に固定されている。腕81は、そ
の右方領域においてプローブ77が軸線64と整
列できるところまで溝72へ延びている。第1図
には示されていないが、駆動軸34と同じレベル
にある水平軸82は横断面21と平行に走り、固
定腕81を担持している。軸82はその両端部で
枕ブロツク83,84に着座している。枕ブロツ
ク83,84は固定的に上方へ突出して、軸82
用の遊びのない軸受を形成する。第2a図にみら
れるように、この軸受は簡単な態様で実現され
る。互いに90゜に対称的に傾いたフランクを有す
るプリズム状の溝86が枕ブロツク83,84の
上面に設けられている。軸82は溝のフランク上
に着座している。当然、溝86は軸82の幾何学
的長手軸87に沿つて整列する。ばね板88が各
枕ブロツクの上側にねじ89でねじ込まれ、第2
a図にみられるように2段折りされている。軸8
2上を走る突出片91は溝86のフランクに対し
て軸82を下方に押しつけ、遊びがないようにす
る。枕ブロツク83の前でカラー92が軸82に
ねじ込まれるので軸82は後方へ動くことができ
ないようになる。第2のしかしやゝ大きいカラー
93が枕ブロツク84を越えて延びる軸82の一
部にねじ込まれる。しかしカラー93は動作の間
その枕ブロツクと接触せず、組立ての間すなわち
たたかれた場合でも軸82が第2図のようにあま
り前方に移動しないようにするにすぎない。
に、短かく、変形しない腕81の右端の軸線64
と同軸の穴79に固定されている。腕81は、そ
の右方領域においてプローブ77が軸線64と整
列できるところまで溝72へ延びている。第1図
には示されていないが、駆動軸34と同じレベル
にある水平軸82は横断面21と平行に走り、固
定腕81を担持している。軸82はその両端部で
枕ブロツク83,84に着座している。枕ブロツ
ク83,84は固定的に上方へ突出して、軸82
用の遊びのない軸受を形成する。第2a図にみら
れるように、この軸受は簡単な態様で実現され
る。互いに90゜に対称的に傾いたフランクを有す
るプリズム状の溝86が枕ブロツク83,84の
上面に設けられている。軸82は溝のフランク上
に着座している。当然、溝86は軸82の幾何学
的長手軸87に沿つて整列する。ばね板88が各
枕ブロツクの上側にねじ89でねじ込まれ、第2
a図にみられるように2段折りされている。軸8
2上を走る突出片91は溝86のフランクに対し
て軸82を下方に押しつけ、遊びがないようにす
る。枕ブロツク83の前でカラー92が軸82に
ねじ込まれるので軸82は後方へ動くことができ
ないようになる。第2のしかしやゝ大きいカラー
93が枕ブロツク84を越えて延びる軸82の一
部にねじ込まれる。しかしカラー93は動作の間
その枕ブロツクと接触せず、組立ての間すなわち
たたかれた場合でも軸82が第2図のようにあま
り前方に移動しないようにするにすぎない。
矩形の断面を有する板ばね96の左端は第2図
のようにカラー93の裏面に固定される。この板
ばねは幅よりもずつと薄く、それの固定方向にお
いて中央面19に平行に走る。したがつて、それ
のフレキシブルな方向は中央面19に垂直に走
り、すなわち、幾何学的長手軸87にも直角にな
る。第3図から特によくわかるように、板ばね9
6は回転磁気アセンブリ31の背後をそれに接触
しないで走る。それは、板16の長さの約3/4に
わたつて延び、したがつて比較的長い。第2図で
見て板ばね96の右端には、第3a図に示される
ように貫通孔97が配置されていて、その中には
リベツト98が位置される。板ばね96はばね鋼
でできており、第2図におけるその右端が前方へ
押されるように、幾分応力が与えられている。第
3a図に示されているように、リベツトは真ちゆ
うカツプ99を右手側に有していて、それは、半
球形状で右方へ延びる。第3a図にみられるよう
に、この半球はねじ山103のフランク10,1
02に押し込まれる。このねじ山103はカツプ
99が部分的にかみ合うことができる程の幅をも
つている。ねじ山を有するスピンドル104は真
ちゆうでできており、中央面19に平行にある距
離をもつて配置されている。このスピンドルはそ
の幾何学的長手軸106のを中心として回転でき
る。その長手方向にはいかなるバツクラツシユも
あつてはならない。この目的のために、2つの軸
受板107,108が備えられていて、板16に
固定されており、水平になつていて、図面にみら
れるとおり分離している。これら軸受板107,
108の各々はつば軸受109,111を有して
いて、それによつて、つば軸受111はスピンド
ル10が下方へ動くのを防ぎ、つば軸受109は
スピンドル104が上方へ動くのを防止する。つ
ば軸受109,111は玉軸受として設計されて
いる。確実な案内を与えるために、カツプ99は
第3a図のように90゜フランク101,102上
でねじ山103に深く押し込まれ、さらに、中央
面19に平行で幾何学的長手軸106を貫通する
面に位置する。スピンドル104の上端は軸受板
108およびつば軸受111を通過し、中央面1
9に垂直に回転する比較的大きな大歯車112を
固定的に保持している。
のようにカラー93の裏面に固定される。この板
ばねは幅よりもずつと薄く、それの固定方向にお
いて中央面19に平行に走る。したがつて、それ
のフレキシブルな方向は中央面19に垂直に走
り、すなわち、幾何学的長手軸87にも直角にな
る。第3図から特によくわかるように、板ばね9
6は回転磁気アセンブリ31の背後をそれに接触
しないで走る。それは、板16の長さの約3/4に
わたつて延び、したがつて比較的長い。第2図で
見て板ばね96の右端には、第3a図に示される
ように貫通孔97が配置されていて、その中には
リベツト98が位置される。板ばね96はばね鋼
でできており、第2図におけるその右端が前方へ
押されるように、幾分応力が与えられている。第
3a図に示されているように、リベツトは真ちゆ
うカツプ99を右手側に有していて、それは、半
球形状で右方へ延びる。第3a図にみられるよう
に、この半球はねじ山103のフランク10,1
02に押し込まれる。このねじ山103はカツプ
99が部分的にかみ合うことができる程の幅をも
つている。ねじ山を有するスピンドル104は真
ちゆうでできており、中央面19に平行にある距
離をもつて配置されている。このスピンドルはそ
の幾何学的長手軸106のを中心として回転でき
る。その長手方向にはいかなるバツクラツシユも
あつてはならない。この目的のために、2つの軸
受板107,108が備えられていて、板16に
固定されており、水平になつていて、図面にみら
れるとおり分離している。これら軸受板107,
108の各々はつば軸受109,111を有して
いて、それによつて、つば軸受111はスピンド
ル10が下方へ動くのを防ぎ、つば軸受109は
スピンドル104が上方へ動くのを防止する。つ
ば軸受109,111は玉軸受として設計されて
いる。確実な案内を与えるために、カツプ99は
第3a図のように90゜フランク101,102上
でねじ山103に深く押し込まれ、さらに、中央
面19に平行で幾何学的長手軸106を貫通する
面に位置する。スピンドル104の上端は軸受板
108およびつば軸受111を通過し、中央面1
9に垂直に回転する比較的大きな大歯車112を
固定的に保持している。
大歯車112はそれよりずつと小さい歯車11
3とかみ合う。歯車113は図示されていない減
速歯車によつて駆動される(この減速歯車は第3
図の左後方に配列される電動機によつて駆動され
る)。電動機114はハウジング116内に配置
される。このハウジングは板16に固定され、か
つ軸受板107,108に固定的に一部が結合さ
れている。
3とかみ合う。歯車113は図示されていない減
速歯車によつて駆動される(この減速歯車は第3
図の左後方に配列される電動機によつて駆動され
る)。電動機114はハウジング116内に配置
される。このハウジングは板16に固定され、か
つ軸受板107,108に固定的に一部が結合さ
れている。
第2図の右の支持柱28の前方の領域では、鉄
アングル117が板16にねじで締められ、それ
の垂直起立脚は始動スイツチ119を担持した板
118を保持している。
アングル117が板16にねじで締められ、それ
の垂直起立脚は始動スイツチ119を担持した板
118を保持している。
今迄述べた部品は全てハウジング内に配置さ
れ、そのハウジングの底面が板16の底面とな
る。始動スイツチ119はハウジング壁から突出
している。装置が電池作動装置として用いられる
べき場合は、装置からワイヤを導出する必要はな
い。しかし、そうでなければ、回転磁気アセンブ
リ31、プローブ77および電動機用のワイヤが
導出される。
れ、そのハウジングの底面が板16の底面とな
る。始動スイツチ119はハウジング壁から突出
している。装置が電池作動装置として用いられる
べき場合は、装置からワイヤを導出する必要はな
い。しかし、そうでなければ、回転磁気アセンブ
リ31、プローブ77および電動機用のワイヤが
導出される。
第10図は、冒頭に述べた出願から既に知られ
た部品、すなわちそこで述べたコーテイング厚さ
測定回路94に対応する距離測定回路121を示
している。
た部品、すなわちそこで述べたコーテイング厚さ
測定回路94に対応する距離測定回路121を示
している。
コーテイング厚さ測定は正に距離測定である。
本発明では算出は、コーテイング厚さの形式でで
はなく、後述する距離の形式でなされる。さら
に、デイスプレー・キーボード122、インタフ
エース123、マイクロプロセツサ124、バス
126、回転磁石回路127、プログラム可能な
電流調節器128、回転磁石最終制御素子12
9、公称電流線131、実際電流線132、公称
−実際比較器133、ワイヤ134、ワイヤ5
3,54、コイル136および温度装定回路13
7などが設けられている。
本発明では算出は、コーテイング厚さの形式でで
はなく、後述する距離の形式でなされる。さら
に、デイスプレー・キーボード122、インタフ
エース123、マイクロプロセツサ124、バス
126、回転磁石回路127、プログラム可能な
電流調節器128、回転磁石最終制御素子12
9、公称電流線131、実際電流線132、公称
−実際比較器133、ワイヤ134、ワイヤ5
3,54、コイル136および温度装定回路13
7などが設けられている。
モータオン・オフワイヤ139、およびモータ
公称/無限ワイヤ141が出ているモータ制御装
置138は、新規なものである。これらのワイヤ
は、モータ最終制御素子142に接続される。こ
れは、公称距離回路144からの公称−実際比較
線143から信号を受ける。公称距離回路は、一
方で先端78とプローブ77の距離、他方で先端
78と板74の距離を表わす未だデイジタル化さ
れていない電圧をプローブ77からワイヤ146
を介して供給される。公称距離回路144は、公
称距離値を公称ワイヤ147を介して公称−実際
比較器148に送り、公称−実際比較の結果は、
正確な時期にワイヤ143を介してモータ最終制
御素子142に送られる。これによつて、モータ
114がワイヤ149を介して時計回りまたは反
時計回りのどちらかに駆動される。
公称/無限ワイヤ141が出ているモータ制御装
置138は、新規なものである。これらのワイヤ
は、モータ最終制御素子142に接続される。こ
れは、公称距離回路144からの公称−実際比較
線143から信号を受ける。公称距離回路は、一
方で先端78とプローブ77の距離、他方で先端
78と板74の距離を表わす未だデイジタル化さ
れていない電圧をプローブ77からワイヤ146
を介して供給される。公称距離回路144は、公
称距離値を公称ワイヤ147を介して公称−実際
比較器148に送り、公称−実際比較の結果は、
正確な時期にワイヤ143を介してモータ最終制
御素子142に送られる。これによつて、モータ
114がワイヤ149を介して時計回りまたは反
時計回りのどちらかに駆動される。
装置は次のように動作する。その場合、初期前
提条件は、装置が較正され、初期設定されている
ことである。
提条件は、装置が較正され、初期設定されている
ことである。
永久磁石48,49のために、右腕38は止め
具47に接触する。従つて、ヴイツカースダイヤ
モンド67は最高位位置にあり、物質27から安
全に上昇されている。先端78が距離Oに対応す
る金コーテイング76に接触している。電流がコ
イル136にワイヤ53,54を介して供給さ
れ、永久磁石48,49に抗するトルクが発生さ
れる。40μmという公称距離が、永久的にまたは
マイクロプロセツサ124によつて、公称距離回
路にプログラムされる。この公称距離は、プロー
ブ77によつて維持されるべきものである。モー
タ最終制御素子142は、プローブ77が下に移
動するようにモータを駆動する。コイル136は
なお対抗トルクを発生しているので、点78は調
節動作の間金コーテイング76に接触したまゝで
ある。こうして、第10図の一般配列図において
腕81がそうするように左腕37が反時計方向に
回転する。具体的実施例においては、腕81はそ
れが板ばね96と同じ方向を有しているので、時
計回り方向に回転する。この調節作業でプローブ
77と板74が下に移動できるようになる。ある
特定の時刻に、ヴイツカースダイヤモンド67の
先端は物質27の表面に接触し、それ以上動かな
くなる。これはコイル136によつて発生したト
ルクが永久磁石48,49の力に対抗するには十
分であるがヴイツカースダイヤモンド67の先端
をその物質に押し込むには十分でないからであ
る。こうして回転磁石アセンブリ31のトルクは
低レベルに維持される。公称距離回路144は
40μmという距離を要求するので、モータ最終制
御素子142によつてモータ114はプローブ7
7の先端78が40μmという距離に達するまで運
転される。この点でモータ114も停止する。ヴ
イツカースダイヤモンド67は、先端78が継続
的に板74を支持しているのではね返りなしに降
される。そして、レバーでの減速作用、モータ1
14からのスピンドルでの減速によつて、プロー
ブは非常にゆつくり降下する。
具47に接触する。従つて、ヴイツカースダイヤ
モンド67は最高位位置にあり、物質27から安
全に上昇されている。先端78が距離Oに対応す
る金コーテイング76に接触している。電流がコ
イル136にワイヤ53,54を介して供給さ
れ、永久磁石48,49に抗するトルクが発生さ
れる。40μmという公称距離が、永久的にまたは
マイクロプロセツサ124によつて、公称距離回
路にプログラムされる。この公称距離は、プロー
ブ77によつて維持されるべきものである。モー
タ最終制御素子142は、プローブ77が下に移
動するようにモータを駆動する。コイル136は
なお対抗トルクを発生しているので、点78は調
節動作の間金コーテイング76に接触したまゝで
ある。こうして、第10図の一般配列図において
腕81がそうするように左腕37が反時計方向に
回転する。具体的実施例においては、腕81はそ
れが板ばね96と同じ方向を有しているので、時
計回り方向に回転する。この調節作業でプローブ
77と板74が下に移動できるようになる。ある
特定の時刻に、ヴイツカースダイヤモンド67の
先端は物質27の表面に接触し、それ以上動かな
くなる。これはコイル136によつて発生したト
ルクが永久磁石48,49の力に対抗するには十
分であるがヴイツカースダイヤモンド67の先端
をその物質に押し込むには十分でないからであ
る。こうして回転磁石アセンブリ31のトルクは
低レベルに維持される。公称距離回路144は
40μmという距離を要求するので、モータ最終制
御素子142によつてモータ114はプローブ7
7の先端78が40μmという距離に達するまで運
転される。この点でモータ114も停止する。ヴ
イツカースダイヤモンド67は、先端78が継続
的に板74を支持しているのではね返りなしに降
される。そして、レバーでの減速作用、モータ1
14からのスピンドルでの減速によつて、プロー
ブは非常にゆつくり降下する。
冒頭に述べた出願の場合と同じ様に、力Fは第
13図に示されているように、時間間隔tで段階
的に増大する。回転磁石回路127、ワイヤ5
3,54を介して段階的に増大する電流を出力す
る。時間間隔No.,,は等しく、普通0.8秒
である。こうして、力は第13図に示されている
ように時間とともに増大する。先端67は、物質
27へ一定量だけ食い込む。この量は、大体、2
〜0.1μmでよい。力を増大させつつ、力のレベル
毎に先端78と板74の間の距離の測定が行われ
る。測定のたびに、距離は小さくなる。距離が
39.5μmである場合、これは、差をとることで、
ヴイツカースダイヤモンド67の先端は0.5μmだ
け物質27に食い込んだことを意味する。この差
はデイスプレイ・キーボード122に表示され、
もし適当なら、インタフエース123を介してマ
イクロプロセツサ装置124に送られる。力Fが
第13図に一致して増大する場合、各力レベルに
関連した食い込み深さは絶えず減少する距離から
得られる。距離変化Δdは力Fの非線形関数であ
る。第11図のように、Δdが√に対してブロ
ツトされた場合、線形関係になることがわかる。
第11図に従つて計算された勾配mFは物質27
の表面での硬さの明確な尺度となる。したがつ
て、次の硬さを定義できる。
13図に示されているように、時間間隔tで段階
的に増大する。回転磁石回路127、ワイヤ5
3,54を介して段階的に増大する電流を出力す
る。時間間隔No.,,は等しく、普通0.8秒
である。こうして、力は第13図に示されている
ように時間とともに増大する。先端67は、物質
27へ一定量だけ食い込む。この量は、大体、2
〜0.1μmでよい。力を増大させつつ、力のレベル
毎に先端78と板74の間の距離の測定が行われ
る。測定のたびに、距離は小さくなる。距離が
39.5μmである場合、これは、差をとることで、
ヴイツカースダイヤモンド67の先端は0.5μmだ
け物質27に食い込んだことを意味する。この差
はデイスプレイ・キーボード122に表示され、
もし適当なら、インタフエース123を介してマ
イクロプロセツサ装置124に送られる。力Fが
第13図に一致して増大する場合、各力レベルに
関連した食い込み深さは絶えず減少する距離から
得られる。距離変化Δdは力Fの非線形関数であ
る。第11図のように、Δdが√に対してブロ
ツトされた場合、線形関係になることがわかる。
第11図に従つて計算された勾配mFは物質27
の表面での硬さの明確な尺度となる。したがつ
て、次の硬さを定義できる。
フイツシヤ硬さ=1/mF=δ√/δd
第14図は、第13図の時間間隔No.の間にお
ける時間関数としてのプローブ77によつて出力
された電圧U(d)を示す。電圧U(d)出力は距離(d)の
差の非線形関数であるから、2つの値の差U
(d1)−U(d2)の差からの距離差の変化は、測定
値が測定変数に正比例するように距離測定回路1
21で変換される。電圧U(d)は、ヴイツカースダ
イヤモンド67の物質27の表面への食い込みか
ら惹起される抵抗モーメントのため力Fに自然に
追随することができない。このため、ワイヤ5
3,54を流れる電流Iの増分は、電圧値が読み
取られるときその電圧U(d)がほとんど一定のまゝ
であるように選択される。この時点は、上方を指
す矢印によつて第14図の右方に示されている。
電圧は期間が開始する直前に読取られることが
わかる。同じことは第2、第3の期間についても
あてはまり、測定値は始めに記憶され、さらに第
11図による変換線形関係が得られるように処理
される。
ける時間関数としてのプローブ77によつて出力
された電圧U(d)を示す。電圧U(d)出力は距離(d)の
差の非線形関数であるから、2つの値の差U
(d1)−U(d2)の差からの距離差の変化は、測定
値が測定変数に正比例するように距離測定回路1
21で変換される。電圧U(d)は、ヴイツカースダ
イヤモンド67の物質27の表面への食い込みか
ら惹起される抵抗モーメントのため力Fに自然に
追随することができない。このため、ワイヤ5
3,54を流れる電流Iの増分は、電圧値が読み
取られるときその電圧U(d)がほとんど一定のまゝ
であるように選択される。この時点は、上方を指
す矢印によつて第14図の右方に示されている。
電圧は期間が開始する直前に読取られることが
わかる。同じことは第2、第3の期間についても
あてはまり、測定値は始めに記憶され、さらに第
11図による変換線形関係が得られるように処理
される。
物質が軟らかければ、40μmという最大許容食
い込み深さでは十分でないことがありうる。この
場合、公称距離回路144にはたとえば100μm以
上という公称距離が与えられる。硬さの代りに、
物質27の流れ性を決定すべき場合、距離差の変
化δdは第12図に従つた対数等距離時間間隔で
読み取られる。この情報は処理され、デイスプレ
イ・キーボード122に表示される。第12図に
示された直線の勾配は、流れ性(flow
behaviour)の直接的読みである。勾配式は第1
2図中に示されている。
い込み深さでは十分でないことがありうる。この
場合、公称距離回路144にはたとえば100μm以
上という公称距離が与えられる。硬さの代りに、
物質27の流れ性を決定すべき場合、距離差の変
化δdは第12図に従つた対数等距離時間間隔で
読み取られる。この情報は処理され、デイスプレ
イ・キーボード122に表示される。第12図に
示された直線の勾配は、流れ性(flow
behaviour)の直接的読みである。勾配式は第1
2図中に示されている。
マイクロプロセツサ124はトルク出力に適し
た一定の電流で回転磁気アセンブリ31を駆動す
る。マイクロプロセツサ124は、駆動軸34の
幾何学的長手軸からのヴイツカースダイヤモンド
の先端の距離を知るから、これらの変数から力F
を計算することができる。一定電流のため温度変
動が回転磁石アセンブリ31のコイル抵抗に影響
を及ぼすことはない。いずれにしても、力Fの増
分は一定であるからである。
た一定の電流で回転磁気アセンブリ31を駆動す
る。マイクロプロセツサ124は、駆動軸34の
幾何学的長手軸からのヴイツカースダイヤモンド
の先端の距離を知るから、これらの変数から力F
を計算することができる。一定電流のため温度変
動が回転磁石アセンブリ31のコイル抵抗に影響
を及ぼすことはない。いずれにしても、力Fの増
分は一定であるからである。
インタフエース123はいくつかの目的を果す
ことができる。たとえば、プリンタをそこに接続
し、第11図および第12図に示されているよう
な特性曲線を出力することができる。
ことができる。たとえば、プリンタをそこに接続
し、第11図および第12図に示されているよう
な特性曲線を出力することができる。
ヴイツカースダイヤモンド67の先端は弧を描
いて移動する。特定位置では、その先端は、物質
27の平らな表面に完全に垂直に立つように設計
されている。物質27の表面がこの理想位置の上
または下にある場合には、ヴイツカースダイヤモ
ンド67は正確に垂直とはいえない。しかし、こ
のことは重要ではない。すなわち、第1図の左腕
37の長さが35mmで、物質27の上面がその理想
位置から±1mmずれているとするなら、0.04%の
誤差が生じるが、これは測定の不確定性という点
からすれば問題にならない程度の誤差である。明
確にするため、上記手順を次の流れによつてもう
一度説明する。
いて移動する。特定位置では、その先端は、物質
27の平らな表面に完全に垂直に立つように設計
されている。物質27の表面がこの理想位置の上
または下にある場合には、ヴイツカースダイヤモ
ンド67は正確に垂直とはいえない。しかし、こ
のことは重要ではない。すなわち、第1図の左腕
37の長さが35mmで、物質27の上面がその理想
位置から±1mmずれているとするなら、0.04%の
誤差が生じるが、これは測定の不確定性という点
からすれば問題にならない程度の誤差である。明
確にするため、上記手順を次の流れによつてもう
一度説明する。
ステツプ 1
開始状態
「初期設定後の状態」をみよ。
ステツプ 2
永久磁石抗する電気的対抗トルクをセツト。
装置の作用:
a プローブが板に接触する。
b プローブは公称距離(40μm)を維持しよう
とする。
とする。
c プローブと板が下方に移動する。
d ダイヤモンドの先端が試料上に降される。
e プローブはもう一度公称距離をとることがで
きる。
きる。
ステツプ 3
モータ停止
ステツプ 4
一連の測定
ステツプ 5
測定の最後の状態
「初期設定後の状態」をみよ。
上の流れからわかるように、また既に述べたよ
うに、装置は最初に較正されなければならない。
この操作は次のようにしてなされる。まず、スイ
ツチ・オンの後で先端78は板74から特定の距
離たとえば40μm程度離れていることがわかる。
ここでモータ114がスイツチオンされる。板7
4は止め具47および永久磁石48,49のため
上記位置に保たれている。プローブ77は電圧変
化dU/dt=0になるまで板74から離される。
これは、プローブ77がダンプされなくなるとこ
ろまでそのプローブが板74から離されることを
意味する。したがつて、この距離は「無限大」と
仮定することができる。この電圧はマイクロプロ
セツサ107に受け入れられ、そこに記憶され
る。その後、プローブ77は、装置が「無限大」
と「公称距離」の2つの値を知るように、たとえ
ば40μmという公称距離まで駆動される。こうし
て装置は、測定開始の前提条件である測定準備が
なされる。初期設定のために必要な工程を次の流
れを用いてもう一度説明する。
うに、装置は最初に較正されなければならない。
この操作は次のようにしてなされる。まず、スイ
ツチ・オンの後で先端78は板74から特定の距
離たとえば40μm程度離れていることがわかる。
ここでモータ114がスイツチオンされる。板7
4は止め具47および永久磁石48,49のため
上記位置に保たれている。プローブ77は電圧変
化dU/dt=0になるまで板74から離される。
これは、プローブ77がダンプされなくなるとこ
ろまでそのプローブが板74から離されることを
意味する。したがつて、この距離は「無限大」と
仮定することができる。この電圧はマイクロプロ
セツサ107に受け入れられ、そこに記憶され
る。その後、プローブ77は、装置が「無限大」
と「公称距離」の2つの値を知るように、たとえ
ば40μmという公称距離まで駆動される。こうし
て装置は、測定開始の前提条件である測定準備が
なされる。初期設定のために必要な工程を次の流
れを用いてもう一度説明する。
ステツプ 1
開始状態:回転磁石アセンブリ31は“OFF”
モータ114は“OFF” 板74:永久磁石48,49のため機械的
止め具47の位置 プローブ77:通常約40μm距離 ステツプ 2 無限大点をフエツチ このために:モータ“ON”+モータ“無限大”
無限大点を決定。
モータ114は“OFF” 板74:永久磁石48,49のため機械的
止め具47の位置 プローブ77:通常約40μm距離 ステツプ 2 無限大点をフエツチ このために:モータ“ON”+モータ“無限大”
無限大点を決定。
ステツプ 3
プローブ77を公称距離(約40μm)に駆動。
ステツプ 4
初期設定後の状態:
回転磁気アセンブリ31“ON”、力Fは
0ニユートンモータ114“ON”で公称
値に駆動される。
0ニユートンモータ114“ON”で公称
値に駆動される。
板74:永久磁石のため機械的止め具位置
(電気的力=0) プローブ77:公称距離(約40μm)制御
状態 腕81が板ばね96と同じ方向に延び、両てこ
の一方が回転磁気アセンブリ31の方向にあり、
少なくとも一方の長さが一方で節約でき、他方で
てこ37は十分に短かくできるので、てき装置は
より簡単になり、ヴイツカースダイヤモンド67
との整列はより容易になされる。長さが重要でな
い場合は第1図のようなてこ形状も選択すること
ができる。
(電気的力=0) プローブ77:公称距離(約40μm)制御
状態 腕81が板ばね96と同じ方向に延び、両てこ
の一方が回転磁気アセンブリ31の方向にあり、
少なくとも一方の長さが一方で節約でき、他方で
てこ37は十分に短かくできるので、てき装置は
より簡単になり、ヴイツカースダイヤモンド67
との整列はより容易になされる。長さが重要でな
い場合は第1図のようなてこ形状も選択すること
ができる。
本発明による装置の測定範囲は驚くべき程広
い。めがねレンズの反射防止特性のために用いら
れる非常に薄い石英コーテイングの硬さは容易に
測定できる。同時に非常に軟らかいゴムのような
弾性物質も測定できる。
い。めがねレンズの反射防止特性のために用いら
れる非常に薄い石英コーテイングの硬さは容易に
測定できる。同時に非常に軟らかいゴムのような
弾性物質も測定できる。
測定物質の表面が汚れのないものであるかどう
かでさえチエツクすることが可能である。たとえ
ば、上記コーテイングが測定以前に変性アルコー
ルで洗滌されていなければ、どんな汚れ層の硬さ
も測定される。この事実は、測定点が第11図に
示された直線の付近から分散していることから容
易に認められる。
かでさえチエツクすることが可能である。たとえ
ば、上記コーテイングが測定以前に変性アルコー
ルで洗滌されていなければ、どんな汚れ層の硬さ
も測定される。この事実は、測定点が第11図に
示された直線の付近から分散していることから容
易に認められる。
測定物質が完全に良好な表面を有し、測定点が
回帰則(regression law)が許す以上に散らばつ
ているとするなら、これらの測定点が正確な測定
では使用できず、誤差が色々なところから生じる
ことがわかる。測定点は事実、回帰則によつて要
求されるように直線のごく付近または直線上にあ
るにちがいない。それ故不正確な測定は容易に区
別できる。装置は弾性領域(フツクの法則)。永
久的なひずみは残らない。
回帰則(regression law)が許す以上に散らばつ
ているとするなら、これらの測定点が正確な測定
では使用できず、誤差が色々なところから生じる
ことがわかる。測定点は事実、回帰則によつて要
求されるように直線のごく付近または直線上にあ
るにちがいない。それ故不正確な測定は容易に区
別できる。装置は弾性領域(フツクの法則)。永
久的なひずみは残らない。
第1図は本発明の全体構造を示す側面図であ
る。第2図は、本発明装置の一部切欠斜視図であ
る。第2a図はバツクラツシのない軸受の断面図
である。第3図は第2図の背面図で、第2図と同
じスケールで描かれているがカバープレートは省
かれている。第3a図は板ばねとの活性接続を含
むねじ切りスピンドルの断面図である。第4図は
第3図の底面図である。第5図は第2図と同じス
ケールで描かれたそれの一部詳細図である。第6
図はヴイツカースダイヤモンドの側面図および底
面図である。第7図はロツクウエルダイヤモンド
とそのマウントの側面図および底面図である。第
8図はねじ領域の断面図である。第9図は装置の
第3の脚の領域の斜視図である。第10図は電気
回路および機械の概略図である。第11図は硬さ
測定に関する図である。第12図は流れ性に関す
る図である。第13図は時間の関数として加えら
れるべき力を示す図である。第14図は第13図
による時間間隔の1つの関数としてプローブによ
つて出力された電圧を示す図である。 27……物質、31……回転磁気アセンブリ、
36……レバー、37……左腕、38……右腕、
48,49……磁極、67……ヴイツカースダイ
ヤモンド、74……板、77……プローブ、81
……固定腕、82……軸、96……板ばね、10
4……スピンドル、114……電動機、121…
…距離測定回路、122……デイスプレー・キー
ボード、123……インターフエース、124…
…マイクロプロセツサ。
る。第2図は、本発明装置の一部切欠斜視図であ
る。第2a図はバツクラツシのない軸受の断面図
である。第3図は第2図の背面図で、第2図と同
じスケールで描かれているがカバープレートは省
かれている。第3a図は板ばねとの活性接続を含
むねじ切りスピンドルの断面図である。第4図は
第3図の底面図である。第5図は第2図と同じス
ケールで描かれたそれの一部詳細図である。第6
図はヴイツカースダイヤモンドの側面図および底
面図である。第7図はロツクウエルダイヤモンド
とそのマウントの側面図および底面図である。第
8図はねじ領域の断面図である。第9図は装置の
第3の脚の領域の斜視図である。第10図は電気
回路および機械の概略図である。第11図は硬さ
測定に関する図である。第12図は流れ性に関す
る図である。第13図は時間の関数として加えら
れるべき力を示す図である。第14図は第13図
による時間間隔の1つの関数としてプローブによ
つて出力された電圧を示す図である。 27……物質、31……回転磁気アセンブリ、
36……レバー、37……左腕、38……右腕、
48,49……磁極、67……ヴイツカースダイ
ヤモンド、74……板、77……プローブ、81
……固定腕、82……軸、96……板ばね、10
4……スピンドル、114……電動機、121…
…距離測定回路、122……デイスプレー・キー
ボード、123……インターフエース、124…
…マイクロプロセツサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 固体物質へ押圧される食い込み体の挙動から
導出される固体物質の特性を、非破壊で絶対的に
測定するため、食い込み体67を担持しその食い
込み体67をその押圧運動方向64に沿つて前記
固体物質27へと案内する案内装置37と、電気
的評価回路とを有する測定装置において: (a) 前記案内装置37に結合され、可変であるが
特定された力で前記食い込み体67を前記固体
物質27へと押圧するための電気駆動装置31
を備え; (b) 第1部分74および第2部分77を有し、そ
れら相互間の、前記押圧運動方向64に沿つた
距離について、食い込み体67による食い込み
深さの測定に十分な解像度でもつて測定を可能
とする、浮動式の距離測定装置を備え; (c) 前記第1部分74は前記食い込み体67に剛
に結合され; (d) 前記第2部分77に結合された従節96,8
2,81であつて、前記第1部分74に対する
前記第2部分77の機械的接触を介して前記食
い込み体67を前記固体物質の表面へと跳ね返
りなしに案内する従節96,82,81を備
え; (e) 前記押圧運動方向64において前記従節を微
細に動かす手段を備え、この手段は、前記食い
込み体67が前記固体物質27の上に着座した
後において前記距離測定装置によりその前記第
1部分74および第2部分77の間の距離が所
定値に至つたことが測定された時に、滅勢さ
れ; (f) 前記距離測定装置から得られる、食い込み深
さを表す電圧出力を、前記電気的評価回路へ導
く手段を備えている ことを特徴とする固体物質の特性の測定装置。 2 特許請求の範囲第1項記載の装置であつて、
前記案内装置はレバーであつて、そのレバーは電
気駆動装置の駆動軸に固定され、その回動運動の
接線方向に前記食い込み体を保持していることを
特徴とする測定装置。 3 特許請求の範囲第1項記載の装置であつて、
前記食い込み体はダイヤモンドであることを特徴
とするとする測定装置。 4 特許請求の範囲第3項記載の装置であつて、
前記ダイヤモンドはピラミツト形ヴイツカースダ
イヤモンドであることを特徴とする測定装置。 5 特許請求の範囲第3項記載の装置において、
前記ダイヤモンドは円錐形のロツクウエルダイヤ
モンドであることを特徴とする測定装置。 6 特許請求の範囲第1項記載の装置であつて、
前記食い込み体はブリネル鋼球であることを特徴
とする測定装置。 7 特許請求の範囲第1項記載の装置であつて、
前記食い込み体は交換可能であつて、案内装置に
ねじ込むことができることを特徴とする測定装
置。 8 特許請求の範囲第1項記載の装置であつて、
永久的力が案内装置にゆるやかに作用させられ
て、その案内装置を食い込み体の送り方向に対抗
して偏倚させることを特徴とする測定装置。 9 特許請求の範囲第8項記載の装置であつて、
前記永久的力を作用させるため少なくとも1つの
磁石を含むことを特徴とする測定装置。 10 特許請求の範囲第9項記載の装置であつ
て、食い込み体送り方向に整列した2つの磁石を
備えていることを特徴とする測定装置。 11 特許請求の範囲第8項記載の装置であつ
て、食い込み体送り方向と逆方向における前記案
内装置の動きを限定する止め具がその案内装置の
ために備えられることを特徴とする測定装置。 12 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、前記距離測定装置は薄いコーテイングを測定
するためのプローブを含み、そのプローブは距離
測定装置の第1部分および第2部分のうちの一方
に固定され、その相手方となる極体が他方に固定
されていることを特徴とする測定装置。 13 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記距離測定装置の解像度は少なくとも1μm
の1/100の範囲内にあることを特徴とする測定装
置。 14 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記プローブは磁場原理で作用するプローブ
であることを特徴とする測定装置。 15 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記プローブは容量性プローブであることを
特徴とする測定装置。 16 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、前記距離測定装置は光学目盛定規、光ポイン
タおよび鏡で動作することを特徴とする測定装
置。 17 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記プローブは磁場板原理で動作するプロー
ブすなわちホール効果プローブであることを特徴
とする測定装置。 18 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記相手方となる極体は不活性の薄いコーテ
イングによつて覆われた金属板を含むことを特徴
とする測定装置。 19 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記不活性の薄いコーテイングは金コーテイ
ングであることを特徴とする測定装置。 20 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記相手方となる極体は前記プローブに垂直
に配列されていることを特徴とする測定装置。 21 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記相手方となる極体はプローブの領域に対
しては近似的に無限大に相当することを特徴とす
る測定装置。 22 特許請求の範囲第12項記載の装置であつ
て、前記プローブは従節上にあり、前記相手方と
なる極体は案内装置上にあることを特徴とする測
定装置。 23 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、前記距離測定装置は、前記食い込み体の運動
の方向からみてその食い込み体と整列しているこ
とを特徴とする測定装置。 24 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、前記従節はねじ切りスピンドルを含むことを
特徴とする測定装置。 25 特許請求の範囲第24項記載の装置であつ
て、前記ねじ付きスピンドルは食い込み体の運動
方向と平行になつていることを特徴とする測定装
置。 26 特許請求の範囲第24項記載の装置であつ
て、前記ねじ切りスピンドルは減速歯車を介して
電動機によつて駆動されることを特徴とする測定
装置。 27 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、前記距離測定装置に近接してかつ食い込み体
の運動方向に垂直にピボツト軸が備えられ、距離
測定装置の第1部分および第2部分の一方がこの
ピボツト軸に固定されていることを特徴とする測
定装置。 28 特許請求の範囲第27項記載の装置であつ
て、1つのレバーの一端が前記ピボツト軸に固定
され、その他端がねじ切りスピンドルによつて案
内されることを特徴とする測定装置。 29 特許請求の範囲第28項記載の装置であつ
て、前記レバーは幅広の板ばねであつて、その剛
な方向はその運動方向に平行であり、その他端で
ねじ切りスピンドルのねじ山の側面上にバツクラ
ツシユなくかみ合うカツプを有し、板ばねに予圧
応力を加えることにより曲げ方向においてそのね
じ山に押し込まれることを特徴とする測定装置。 30 特許請求の範囲第29項記載の装置であつ
て、前記予圧応力は、板ばねがその端部位置に達
すると、カツプがねじ山からはずれる程小さいこ
とを特徴とする測定装置。 31 特許請求の範囲第1項又は第27項記載の
装置であつて、前記ピボツト軸と前記駆動軸は同
じレベルでお互いに平行に配列されていることを
特徴とする測定装置。 32 特許請求の範囲第1項乃至第31項のいず
れか1項に記載の装置であつて、電気駆動装置の
他方の側にある電動機の一端は装置基板に固定さ
れていることを特徴とする測定装置。 33 特許請求の範囲第24項記載の装置であつ
て、前記ねじ切りスピンドルは両端に軸受を有
し、これら軸受の少なくとも1つはつば付き軸受
であることを特徴とする測定装置。 34 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、装置基板は3本の脚の上に起立し、そのうち
の2本は食い込み体の先端と共通線上にあること
を特徴とする測定装置。 35 特許請求の範囲第34項記載の装置であつ
て、前記共通線は装置の横断縁のうちの1つと平
行に走ることを特徴とする測定装置。 36 特許請求の範囲第34項記載の装置であつ
て、前記2本の硬化脚は球状カツプの形状をして
いることを特徴とする測定装置。 37 特許請求の範囲第1項記載の装置であつ
て、開始スイツチを有することを特徴とする測定
装置。 38 特許請求の範囲第12項に記載の装置であ
つて、前記プローブはうず電流原理で動作するプ
ローブであることを特徴とする測定装置。 39 特許請求の範囲第1項乃至第37項の何れ
か1項記載の装置であつて、距離測定装置は実際
の入力で距離公称−実際比較器を駆動するA/D
変換器に接続され、その比較器の公称−実際出力
はモータ最終制御素子を駆動し、そのモータ最終
制御素子は従節サーボモータを駆動し、モータ制
御器はモータオン・オフ線およびモータ公称値/
無限大線を介して前記モータ最終制御素子を駆動
し、マイクロプロセツサがモータ制御器に接続さ
れ、電流最終制御素子を介して電気駆動装置を制
御する電流公称−実際比較器を有するプログラム
可能な電流調整器が備えられ、その電流調整器は
マイクロプロセツサに接続され、そのマイクロプ
ロセツサに接続された表示装置がキーボードとと
もに備えられるように、前記電気的評価回路が構
成されていることを特徴とする測定装置。 40 固体物質へ押圧される食い込み体の挙動か
ら導出される固体物質の特性を、非破壊で絶対的
に測定するため、食い込み体67を担持しその食
い込み体67をその押圧運動方向64に沿つて前
記固体物質27へと案内する案内装置37と、電
気的評価回路とを有する測定装置において、(a)前
記案内装置37に結合され、可変であるが特定さ
れた力で前記食い込み体67を前記固体物質27
へと押圧するための電気駆動装置31を備え、(b)
第1部分74および第2部分77を有し、それら
相互間の、前記押圧運動方向64に沿つた距離に
ついて、食い込み体67による食い込み深さの測
定に十分な解像度でもつて測定を可能とする、浮
動式の距離測定装置を備え、(c)前記第1部分74
は前記食い込み体67に剛に結合され、(d)前記第
2部分77に結合された従節96,82,81で
あつて、前記第1部分74に対する前記第2部分
77の機械的接触を介して前記食い込み体67を
前記固体物質の表面へと跳ね返りなしに案内する
従節96,82,81を備え、(e)前記押圧運動方
向64において前記従節を微細に動かす手段を備
え、この手段は、前記食い込み体67が前記固体
物質27の上に着座した後において前記距離測定
装置によりその前記第1部分74および第2部分
77の間の距離が所定値に至つたことが測定され
た時に、滅勢され、さらに、(f)前記距離測定装置
から得られる、食い込み深さを表す電圧出力を、
前記電気的評価回路へ導く手段を備えている固体
物質の特性の測定装置を較正する方法であつて、
スイツチオンの後、距離測定装置は第1の距離値
に一致する位置に運ばれ、この第1の値は記憶装
置に記憶され、公称距離が第2の値としてその記
憶装置に記憶されることを特徴とする測定装置の
動作方法。 41 特許請求の範囲第40項記載の方法であつ
て、第1の値は準無限大値に対応することを特徴
とする方法。 42 特許請求の範囲第40項記載の方法であつ
て、第2の値は期待されるべき食い込み深さの値
よりずつと大きい値に対応することを特徴とする
方法。 43 特許請求の範囲第42項記載の方法であつ
て、第2の値は10μ領域、望ましくは10〜80μ、
特に40μ±30%にあることを特徴とする方法。 44 固体物質へ押圧される食い込み体の挙動か
ら導出される固体物質の特性を、非破壊で絶対的
に測定するため、食い込み体67を担持しその食
い込み体67をその押圧運動方向64に沿つて前
記固体物質27へと案内する案内装置37と、電
気的評価回路とを有する測定装置において、(a)前
記案内装置37に結合され、可変であるが特定さ
れた力で前記食い込み体67を前記固体物質27
へと押圧するための電気駆動装置31を備え、(b)
第1部分74および第2部分77を有し、それら
相互間の、前記押圧運動方向64に沿つた距離に
ついて、食い込み体67による食い込み深さの測
定に十分な解像度でもつて測定を可能とする、浮
動式の距離測定装置を備え、(c)前記第1部分74
は前記食い込み体67に剛に結合され、(d)前記第
2部分77に結合された従節96,82,81で
あつて、前記第1部分74に対する前記第2部分
77の機械的接触を介して前記食い込み体67を
前記固体物質の表面へと跳ね返りなしに案内する
従節96,82,81を備え、(e)前記押圧運動方
向64において前記従節を微細に動かす手段を備
え、この手段は、前記食い込み体67が前記固体
物質27の上に着座した後において前記距離測定
装置によりその前記第1部分74および第2部分
77の間の距離が所定値に至つたことが測定され
た時に、滅勢され、さらに、(f)前記距離測定装置
から得られる、食い込み深さを表す電圧出力を、
前記電気的評価回路へ導く手段を備えている固体
物質の特性の測定装置を駆動する方法であつて、
力は平方根則に一致して等距離で加えられ、食い
込み深さと力の平方根の間に線形関係が生じ、力
の平方根に対する食い込み深さが硬さの度合を定
数として与えることを特徴とする測定装置の動作
方法。
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