JPH044540A - ブラウン管膜点検査装置 - Google Patents
ブラウン管膜点検査装置Info
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- JPH044540A JPH044540A JP10495790A JP10495790A JPH044540A JP H044540 A JPH044540 A JP H044540A JP 10495790 A JP10495790 A JP 10495790A JP 10495790 A JP10495790 A JP 10495790A JP H044540 A JPH044540 A JP H044540A
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- ray tube
- cathode ray
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 11
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- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 abstract description 4
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
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Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はブラウン管膜点検査装置、特に、レーザ走査に
よるブラウン管膜点検査装置に関する。
よるブラウン管膜点検査装置に関する。
従来の技術としては、例えば、テレビジョン学会誌、第
３４巻、第２号（１９８０）に示されているように収束
したレーザビーム走査によるカラーブラウン管のストラ
イブ状の膜（以下ブロックマトリックスと称す）の寸法
検査装置がある。
３４巻、第２号（１９８０）に示されているように収束
したレーザビーム走査によるカラーブラウン管のストラ
イブ状の膜（以下ブロックマトリックスと称す）の寸法
検査装置がある。
従来のブラックマトリックス寸法検査装置は、ブラウン
管のブラックマトリックス面上でブラックガートバンド
の幅とほぼ同じビーム径に収束するレーザビームをブラ
ックマトリックス上で走査させ透過光を受光器で受光し
た後基準電圧で二値化しブラックマトリックスオープニ
ング（以下スドライブと祢す）に相当するパルス幅の時
間からストライプ寸法を求めている。
管のブラックマトリックス面上でブラックガートバンド
の幅とほぼ同じビーム径に収束するレーザビームをブラ
ックマトリックス上で走査させ透過光を受光器で受光し
た後基準電圧で二値化しブラックマトリックスオープニ
ング（以下スドライブと祢す）に相当するパルス幅の時
間からストライプ寸法を求めている。
次に従来の技術について図面を参照して詳細に説明する
。
。
第７図は従来の一例を示すブロック図である。
レーザ２６と、レーザビーム径をブラウン管３２の面上
で所要の寸法に収束する拡大レンズ２７、ピンホール３
０．３０ａ、コリメートレンズ２８および収束レンズ２
９と、レーザ光を２次元走査させるスキャナ３１と、ブ
ラウン管３２からの透過光を均一化する拡散板３４と、
拡散板３４からの透過光を受光する受光器３５と、受光
器３５からの出力により膜点の寸法を求める信号処理部
３６と、信号処理部３６の出力により合否判定を行う合
否判定部３８と、スキャナ３１を制御する制御部３７と
により構成されている。
で所要の寸法に収束する拡大レンズ２７、ピンホール３
０．３０ａ、コリメートレンズ２８および収束レンズ２
９と、レーザ光を２次元走査させるスキャナ３１と、ブ
ラウン管３２からの透過光を均一化する拡散板３４と、
拡散板３４からの透過光を受光する受光器３５と、受光
器３５からの出力により膜点の寸法を求める信号処理部
３６と、信号処理部３６の出力により合否判定を行う合
否判定部３８と、スキャナ３１を制御する制御部３７と
により構成されている。
次にドツトタイプの膜点検査について説明する。第８図
（ａ）、（ｂ）は横方向に１２０μｍピッチ、縦方向に
１００μｍピッチで千鳥状に配列された直径８０μｍの
膜点４５に対してビーム径１００μｍのカラシアン分布
のレーザビーム４２ａか主走査方向３９ａに傾いて走査
された場合の一例を示す平面図および透過光出力の計算
結果を表したグラフである。副走査方向３５ａの位置す
れに伴い透過光出力が変動する。
（ａ）、（ｂ）は横方向に１２０μｍピッチ、縦方向に
１００μｍピッチで千鳥状に配列された直径８０μｍの
膜点４５に対してビーム径１００μｍのカラシアン分布
のレーザビーム４２ａか主走査方向３９ａに傾いて走査
された場合の一例を示す平面図および透過光出力の計算
結果を表したグラフである。副走査方向３５ａの位置す
れに伴い透過光出力が変動する。
一般的に、レーザビームを膜点上で走査させる場合、走
査中にレーザビームの走査中心と膜点の中心が位置すれ
を起こすと透過光出力が変化するためレーザビームが常
に膜点の中心を走査するように副走査方向における高精
度位置合わせ技術が必要となり、実際は位置合わせが困
難であるため目視による検査を行っている。
査中にレーザビームの走査中心と膜点の中心が位置すれ
を起こすと透過光出力が変化するためレーザビームが常
に膜点の中心を走査するように副走査方向における高精
度位置合わせ技術が必要となり、実際は位置合わせが困
難であるため目視による検査を行っている。
上述した従来の技術は、検査対象が膜点の場合、レーザ
ビームを膜点上で走査させる必要があり、主走査方向と
直交する方向（以下副走査方向と称す）における位置合
わせが必要不可欠であり、副走査方向における位置合わ
せ機構のない従来の検査装置は、ブラウン管膜点の検査
には適当てないという欠点があった。
ビームを膜点上で走査させる必要があり、主走査方向と
直交する方向（以下副走査方向と称す）における位置合
わせが必要不可欠であり、副走査方向における位置合わ
せ機構のない従来の検査装置は、ブラウン管膜点の検査
には適当てないという欠点があった。
本発明のブラウン管膜点検査装置は、レーザと、出射レ
ーザ光のビーム径を拡大するビーム径拡大光学系と、前
記光学系で拡大されたレーザビームのほぼ均一な強度分
布を有する中央部から所要のビーム形状をつくり出すス
リットと、前記スリットを通過したレーザ光をブラウン
管膜点面上で収束させる収束レンズと、収束するレーザ
光をブラウン管膜点面上で電子銃水平走査方向く以下主
走査方向と称す）に走査する主走査機構と、前記収束す
るレーザ光をブラウン管膜点面上で前記主走査方向と直
交する方向に走査する副走査機構と、ブラウン管膜点か
らの透過光を集光する集光１、ンズと、集光された透過
光の光出力を検出する受光素子と、前記受光素子の出力
を二つの基準電圧で三値化しパルス数をカウントするカ
ウンタ回路を有する信号処理部とを含んで構成される。
ーザ光のビーム径を拡大するビーム径拡大光学系と、前
記光学系で拡大されたレーザビームのほぼ均一な強度分
布を有する中央部から所要のビーム形状をつくり出すス
リットと、前記スリットを通過したレーザ光をブラウン
管膜点面上で収束させる収束レンズと、収束するレーザ
光をブラウン管膜点面上で電子銃水平走査方向く以下主
走査方向と称す）に走査する主走査機構と、前記収束す
るレーザ光をブラウン管膜点面上で前記主走査方向と直
交する方向に走査する副走査機構と、ブラウン管膜点か
らの透過光を集光する集光１、ンズと、集光された透過
光の光出力を検出する受光素子と、前記受光素子の出力
を二つの基準電圧で三値化しパルス数をカウントするカ
ウンタ回路を有する信号処理部とを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照しこ詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示すブロック図、第２図
は第１図を説明するための斜視図である。
は第１図を説明するための斜視図である。
レーザ１と、レーザ光１０のビーム系を拡大し平行光に
する拡大レンズ１１およびコリメートレンズ１２より成
るビーム径拡大光学系２と、拡大されたレーザビームの
ほぼ均一な強度分布を有する中央部から所要のビーム形
状をつくり出すスリット３と、スリット３を通過したレ
ーザ光１０ａをブラウン管１５の膜点面上で収束させる
収束レンズ４と、収束するレーザ光１０ｂをブラウン管
膜点１８の主走査方向１つに走査させる主走査機構５で
あるガルバノメータ１３と、収束するレーザ光１０ｂを
ブラウン管膜点１８の副走査方向２０に走査させる副走
査機構６であるモータ１４と、ブラウン管膜点１８から
の透過光を集光する集光レンズである２枚のフレネルレ
ンズ１６と、集光された透過光１７の光出力を検出する
受光素子８と、受光素子８の出力を二つの基準電圧で三
値化しパルス数をカウントするカウンタ回路を有する信
号処理部９とを含んで構成される。
する拡大レンズ１１およびコリメートレンズ１２より成
るビーム径拡大光学系２と、拡大されたレーザビームの
ほぼ均一な強度分布を有する中央部から所要のビーム形
状をつくり出すスリット３と、スリット３を通過したレ
ーザ光１０ａをブラウン管１５の膜点面上で収束させる
収束レンズ４と、収束するレーザ光１０ｂをブラウン管
膜点１８の主走査方向１つに走査させる主走査機構５で
あるガルバノメータ１３と、収束するレーザ光１０ｂを
ブラウン管膜点１８の副走査方向２０に走査させる副走
査機構６であるモータ１４と、ブラウン管膜点１８から
の透過光を集光する集光レンズである２枚のフレネルレ
ンズ１６と、集光された透過光１７の光出力を検出する
受光素子８と、受光素子８の出力を二つの基準電圧で三
値化しパルス数をカウントするカウンタ回路を有する信
号処理部９とを含んで構成される。
次に腹黒１８の形状検査について説明する。
第３図（ａ）、（ｂ）は主走査方向１９に１２０μｍピ
ッチ、副走査方向２０に１００μｍピッチで千鳥状に配
列された直径８０μｍの腹黒１８に対してビーム形状が
横１２０μｍ、縦２００μｍの長方形で、その領域内で
均一な強度分布をもつレーザビーム２１を主走査方向１
９に走査させた場合の平面図である。
ッチ、副走査方向２０に１００μｍピッチで千鳥状に配
列された直径８０μｍの腹黒１８に対してビーム形状が
横１２０μｍ、縦２００μｍの長方形で、その領域内で
均一な強度分布をもつレーザビーム２１を主走査方向１
９に走査させた場合の平面図である。
第３図（ａ）はレーザビーム２１の走査中心と当該腹黒
の中心が一致している場合、第３図（ｂ）はレーザビー
ム２１の走査中心と当該腹黒の中心が５０μｍ（副走査
方向２ｏにおけるレーザビーム２１の最大位置すれ量に
相当）すれた場合である。
の中心が一致している場合、第３図（ｂ）はレーザビー
ム２１の走査中心と当該腹黒の中心が５０μｍ（副走査
方向２ｏにおけるレーザビーム２１の最大位置すれ量に
相当）すれた場合である。
いずれの場合もレーザビーム２１に対応する腹黒の総面
積は主走査方向１９における位置にががわらず同じで、
原点２個分に一致している。これは中心の位置ずれが０
〜５０８ｍの間で変化しても同様のことがいえる。すな
わち、レーザビーム２１の走査位置にかかわらず該当す
る腹黒が正常てあればその透過光出力は一定となる。
積は主走査方向１９における位置にががわらず同じで、
原点２個分に一致している。これは中心の位置ずれが０
〜５０８ｍの間で変化しても同様のことがいえる。すな
わち、レーザビーム２１の走査位置にかかわらず該当す
る腹黒が正常てあればその透過光出力は一定となる。
第４図は第３図（ａ）、（ｂ）で示したレーザビーム２
１て走査中に該当する腹黒の直径が変化した場合の透過
光出力への影響を説明するための平面図である。
１て走査中に該当する腹黒の直径が変化した場合の透過
光出力への影響を説明するための平面図である。
腹黒１８−１の直径が８０μｍから７０μｍに小さくな
った場合（腹黒１８ａ−１）、図の斜線部の面積ＳはＳ
＝ （８０２−７０２）π／ ４ ＝ １１７８．１
（μｍ２）でレーザビーム２１に該当する正常な腹黒の
全面積に対する割合はＳ／（（π／４）ｘｇ０２Ｘ ２
））＝０．１１７となり、透過光出力が１１．７％減
少する。
った場合（腹黒１８ａ−１）、図の斜線部の面積ＳはＳ
＝ （８０２−７０２）π／ ４ ＝ １１７８．１
（μｍ２）でレーザビーム２１に該当する正常な腹黒の
全面積に対する割合はＳ／（（π／４）ｘｇ０２Ｘ ２
））＝０．１１７となり、透過光出力が１１．７％減
少する。
一方、腹黒１８−１の直径が８０μｍから９０μｍに大
きくなった場合（Ｍ点１８ｂ−１）、その変化の割合は
（（π／４ ） Ｘ （９０２−８０２’） ／（（π
／４ ） Ｘ８０２Ｘ ２ ）＝０．１３３となり透過
光出力が１３．３％増加する。すなわち腹黒からの透過
光出力を平均出力レベルの９０％および１１０％で三値
化することにより８０±１０μｍ程度の精度で当該腹黒
の良否判定ができる。
きくなった場合（Ｍ点１８ｂ−１）、その変化の割合は
（（π／４ ） Ｘ （９０２−８０２’） ／（（π
／４ ） Ｘ８０２Ｘ ２ ）＝０．１３３となり透過
光出力が１３．３％増加する。すなわち腹黒からの透過
光出力を平均出力レベルの９０％および１１０％で三値
化することにより８０±１０μｍ程度の精度で当該腹黒
の良否判定ができる。
次に均一な強度分布をもつ長方形形状のレーザビームの
生成方法について説明する。
生成方法について説明する。
第５図は拡大されたビーム径３０韻のガウシアン分布の
レーザビームの強度分布を表したグラフである。中央部
のφ５ｉｌ！ｌ＋の領域２２において強度変動５％以内
のほぼ均一な強度分布を持っている。
レーザビームの強度分布を表したグラフである。中央部
のφ５ｉｌ！ｌ＋の領域２２において強度変動５％以内
のほぼ均一な強度分布を持っている。
第６図（ａ）、（ｂ）はスリットおよびそれを通過した
レーザビームの像を表した平面図である。
レーザビームの像を表した平面図である。
スリットの中心Ｏを通過した光はＯａに、また点Ａ１点
Ｂを通過した光はそれぞれＡａ、Ｂｂに結像する。
Ｂを通過した光はそれぞれＡａ、Ｂｂに結像する。
ここでレーザビームを絞り込む場合、集光レンズの焦点
距離をｆ、波長を＾、集光レンズへの入射ビーム径をＷ
。１とすると、スポット径Ｗｏ２は近似的にＷ。２≠ｆ
λ／（πＷｏ１）で表される。
距離をｆ、波長を＾、集光レンズへの入射ビーム径をＷ
。１とすると、スポット径Ｗｏ２は近似的にＷ。２≠ｆ
λ／（πＷｏ１）で表される。
この式から点Ａａ、Ｂｂに集光させるための点Ａおよび
点Ｂの中心０からの距離を求めると、ｆ＝ ６００ ａ
ｍ 、＾＝ ６３２．８ｎｍ、（Ｈｅ−Ｎｅレーザの波
長）として丁Ａ＝２．０龍１丁Ｂ＝１．２ｍｍとなる。
点Ｂの中心０からの距離を求めると、ｆ＝ ６００ ａ
ｍ 、＾＝ ６３２．８ｎｍ、（Ｈｅ−Ｎｅレーザの波
長）として丁Ａ＝２．０龍１丁Ｂ＝１．２ｍｍとなる。
同様にして各結線位置に対応するスリット上の位置を求
めることによりスリット形状を決めることができる。所
要の大きさのほぼ均一な強度分布をもつ長方形形状のレ
ーザビームを腹黒面上に結像できる。
めることによりスリット形状を決めることができる。所
要の大きさのほぼ均一な強度分布をもつ長方形形状のレ
ーザビームを腹黒面上に結像できる。
本発明のブラウン管腹黒検査装置は、１本のレーザビー
ムを腹黒上で走査させその透過光出力により腹黒の形状
識別を行う代りに、腹黒面上で横か腹黒のピッチ幅、縦
が腹黒の２倍のピッチ幅に相当する長方形領域で均一な
強度分布を有するレーザ光を走査し、その透過光出力の
基準出力との大小により腹黒の形状不良を識別すること
により、光が常に腹黒の中心を走査するように光の走査
方向と直交する方向に光の位置合わせをする必要がなく
、装置が簡単な上、位置ずれによる測定誤差の影響がな
いという効果がある。
ムを腹黒上で走査させその透過光出力により腹黒の形状
識別を行う代りに、腹黒面上で横か腹黒のピッチ幅、縦
が腹黒の２倍のピッチ幅に相当する長方形領域で均一な
強度分布を有するレーザ光を走査し、その透過光出力の
基準出力との大小により腹黒の形状不良を識別すること
により、光が常に腹黒の中心を走査するように光の走査
方向と直交する方向に光の位置合わせをする必要がなく
、装置が簡単な上、位置ずれによる測定誤差の影響がな
いという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１区を説明するための斜視図、第３図（ａ）、（ｂ）
はレーザ走査を説明するための平面図、第４図は第３図
（ａ）、（ｂ）に示すレーザビームによる検査原理を説
明するための平面図、第５図はレーザビームの強度分布
を表したグラフ、第６図（ａ）、（ｂ）は第５図に示し
たレーザビームから長方形形状の均一なレーザビームを
つくる方法を説明するための平面図、第７図は従来の技
術の一例を示すブロック図、第８図（ａ）、（ｂ）は１
本のレーザビームをドツトタイプの腹黒上で走査させた
場合の透過光出力の変化を説明するための平面図および
グラフである。 １・・・レーザ、２・・・ビーム径拡大光学系、３・・
・スリット、４・・・収束レンズ、５・・・主走査機構
、６・・・副走査機構、７・・・集光レンズ、８・・・
受光素子、９・・・信号処理部。
第１区を説明するための斜視図、第３図（ａ）、（ｂ）
はレーザ走査を説明するための平面図、第４図は第３図
（ａ）、（ｂ）に示すレーザビームによる検査原理を説
明するための平面図、第５図はレーザビームの強度分布
を表したグラフ、第６図（ａ）、（ｂ）は第５図に示し
たレーザビームから長方形形状の均一なレーザビームを
つくる方法を説明するための平面図、第７図は従来の技
術の一例を示すブロック図、第８図（ａ）、（ｂ）は１
本のレーザビームをドツトタイプの腹黒上で走査させた
場合の透過光出力の変化を説明するための平面図および
グラフである。 １・・・レーザ、２・・・ビーム径拡大光学系、３・・
・スリット、４・・・収束レンズ、５・・・主走査機構
、６・・・副走査機構、７・・・集光レンズ、８・・・
受光素子、９・・・信号処理部。
Claims (1)
- レーザと、出射レーザ光のビーム径を拡大するビーム径
拡大光学系と、前記光学系で拡大されたレーザビームの
ほぼ均一な強度分布を有する中央部から所要のビーム形
状をつくり出すスリットと、前記スリットを通過したレ
ーザ光をブラウン管膜点面上で収束させる収束レンズと
、収束するレーザ光をブラウン管膜点面上で電子銃水平
走査方向（以下主走査方向と称す）に走査する主走査機
構と、前記収束するレーザ光をブラウン管膜点面上で前
記主走査方向と直交する方向に走査する副走査機構と、
ブラウン管膜点からの透過光を集光する集光レンズと、
集光された透過光の光出力を検出する受光素子と、前記
受光素子の出力を二つの基準電圧で三値化しパルス数を
カウントするカウンタ回路を有する信号処理部とを含む
ことを特徴とするブラウン管膜点検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10495790A JPH044540A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | ブラウン管膜点検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10495790A JPH044540A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | ブラウン管膜点検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH044540A true JPH044540A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14394578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10495790A Pending JPH044540A (ja) | 1990-04-20 | 1990-04-20 | ブラウン管膜点検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH044540A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5448153A (en) * | 1977-09-26 | 1979-04-16 | Hitachi Ltd | Test equipment for braun tube panel |
| JPS6221046A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-29 | Dainippon Printing Co Ltd | シヤドウマスクの欠陥検査方法 |
| JPS63153442A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-25 | Olympus Optical Co Ltd | ビ−ムスプリツタの光学特性測定装置 |
| JPH01269036A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 光ディスクの記録膜評価装置の光学系 |
-
1990
- 1990-04-20 JP JP10495790A patent/JPH044540A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5448153A (en) * | 1977-09-26 | 1979-04-16 | Hitachi Ltd | Test equipment for braun tube panel |
| JPS6221046A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-29 | Dainippon Printing Co Ltd | シヤドウマスクの欠陥検査方法 |
| JPS63153442A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-25 | Olympus Optical Co Ltd | ビ−ムスプリツタの光学特性測定装置 |
| JPH01269036A (ja) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 光ディスクの記録膜評価装置の光学系 |
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