JPH0445266Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0445266Y2 JPH0445266Y2 JP1985084116U JP8411685U JPH0445266Y2 JP H0445266 Y2 JPH0445266 Y2 JP H0445266Y2 JP 1985084116 U JP1985084116 U JP 1985084116U JP 8411685 U JP8411685 U JP 8411685U JP H0445266 Y2 JPH0445266 Y2 JP H0445266Y2
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- Japan
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- tube
- gas port
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- laser
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、軸流型ガスレーザー発振器のレーザ
ー管の構造の改良に関するものである。
ー管の構造の改良に関するものである。
(従来技術及びその問題点)
レーザー光は、その強い指向性や高エネルギー
密度の特性を利用して、各種材料の切断、加工ま
たは溶接等に用いられているが、このレーザー光
の発生装置の一つにガスレーザー発振器がある。
通常このタイプの発振器は、ガラスのような絶縁
材料よりなるレーザー管内での放電により励起さ
れるようになつており、放電に必要な高電圧がレ
ーザー管の電極に加えられるため、絶縁対策上、
レーザー管の外周面に突設された電極端子と電極
端子以外の導電部分との間には充分な距離をとる
ようになつている。
密度の特性を利用して、各種材料の切断、加工ま
たは溶接等に用いられているが、このレーザー光
の発生装置の一つにガスレーザー発振器がある。
通常このタイプの発振器は、ガラスのような絶縁
材料よりなるレーザー管内での放電により励起さ
れるようになつており、放電に必要な高電圧がレ
ーザー管の電極に加えられるため、絶縁対策上、
レーザー管の外周面に突設された電極端子と電極
端子以外の導電部分との間には充分な距離をとる
ようになつている。
第3図は従来の軸流型炭酸ガスレーザー発振器
のレーザー管1を示すもので、レーザー管1は円
筒状のジヤケツト2とジヤケツト2の内部に一体
的に形成されたプラズマ管3とからなり、プラズ
マ管3の内部には放電用の電極4が設けられてお
り、ジヤケツト2の両端部分及び中央部分にはプ
ラズマ管3内にガスを流すための端部ガス口5,
5及び中央ガス口6が設けられている。また、ジ
ヤケツト2とプラズマ管3との間には冷却水を流
すようになつており、そのための冷却水口7a,
7bがジヤケツト2に設けられ、また各電極4に
接続された電極端子8が設けられている。
のレーザー管1を示すもので、レーザー管1は円
筒状のジヤケツト2とジヤケツト2の内部に一体
的に形成されたプラズマ管3とからなり、プラズ
マ管3の内部には放電用の電極4が設けられてお
り、ジヤケツト2の両端部分及び中央部分にはプ
ラズマ管3内にガスを流すための端部ガス口5,
5及び中央ガス口6が設けられている。また、ジ
ヤケツト2とプラズマ管3との間には冷却水を流
すようになつており、そのための冷却水口7a,
7bがジヤケツト2に設けられ、また各電極4に
接続された電極端子8が設けられている。
このレーザー管1は、図示しない基台の支持体
によつて支持され、レーザー管1の端部にはレー
ザー管1とは別個にインバーにより支持されたミ
ラーヘツドが気密に設けられるようになつてい
る。
によつて支持され、レーザー管1の端部にはレー
ザー管1とは別個にインバーにより支持されたミ
ラーヘツドが気密に設けられるようになつてい
る。
この従来のレーザー管1は、ガスを低速で使用
するものであり、また、高電圧により充電された
電極端子8と、レーザー管1の両端面、または端
部ガス口5や中央ガス口に接続されるホースなど
との間の漏電を防ぐために、これらの間に充分な
距離を設けておかなくてはならず、そのために各
部分の長さが不必要に長くなるか、または電極端
子8に高電圧を印加できず、高出力を得られない
という問題があつた。
するものであり、また、高電圧により充電された
電極端子8と、レーザー管1の両端面、または端
部ガス口5や中央ガス口に接続されるホースなど
との間の漏電を防ぐために、これらの間に充分な
距離を設けておかなくてはならず、そのために各
部分の長さが不必要に長くなるか、または電極端
子8に高電圧を印加できず、高出力を得られない
という問題があつた。
(問題点を解決するための手段)
本考案は、上述の問題を解決し高電圧を印加し
ても充分な絶縁性が得られるようにしたもので、
その技術的手段は、略円筒状の外管12の内部
に、放電用の電極25を有した略円筒状の内管1
3が前記外管12と同心状に設けられ、前記外管
12の両端部分及び中央部分に、前記内管13内
にガスを流すための端部ガス口18,18および
中央ガス口19がそれぞれ設けられ、前記外管1
2と前記内管13との間には冷却水を流すための
冷却室16が設けられたレーザー管において、前
記中央ガス口19または端部ガス口18にはその
外周面および内周面が波状に形成された波状管部
が設けられていると共に、中央ガス口19および
端部ガス口18は前記内管13よりも径大に形成
され、これら中央ガス口19および端部ガス口1
8が開口する内管13の端部および中央部分が中
央ガス口19および端部ガス口18と同じく内管
13よりも径大に形成され、この各径大端部13
aおよび中央径大部13bとこれらより径小内管
部13cとの間にそれぞれ漏斗状連結壁部14,
31が設けられていることを特徴とするものであ
る。
ても充分な絶縁性が得られるようにしたもので、
その技術的手段は、略円筒状の外管12の内部
に、放電用の電極25を有した略円筒状の内管1
3が前記外管12と同心状に設けられ、前記外管
12の両端部分及び中央部分に、前記内管13内
にガスを流すための端部ガス口18,18および
中央ガス口19がそれぞれ設けられ、前記外管1
2と前記内管13との間には冷却水を流すための
冷却室16が設けられたレーザー管において、前
記中央ガス口19または端部ガス口18にはその
外周面および内周面が波状に形成された波状管部
が設けられていると共に、中央ガス口19および
端部ガス口18は前記内管13よりも径大に形成
され、これら中央ガス口19および端部ガス口1
8が開口する内管13の端部および中央部分が中
央ガス口19および端部ガス口18と同じく内管
13よりも径大に形成され、この各径大端部13
aおよび中央径大部13bとこれらより径小内管
部13cとの間にそれぞれ漏斗状連結壁部14,
31が設けられていることを特徴とするものであ
る。
(実施例)
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第1図において、レーザー管11は、電極部分
やフランジ部分を除いては石英や硬質ガラスなど
の高強度で熱膨脹率の小さいガラスによつてでき
ており、略円筒状のジヤケツト12とその内部に
同心状に形成された略円筒状のプラズマ管13と
を有し、ほぼ左右対称に形成されている。プラズ
マ管13の両端部はジヤケツト12と同径となる
よう径大に拡径され、その各径大端部13aと径
小のプラズマ管部13cとの間は漏斗状の連結壁
部14によつて一体連結されている。しかして、
ジヤケツト12とプラズマ管13との間の空間部
は、上記各漏斗状連結壁部14により上記各径大
端部13a内の室15と隔絶されて、冷却室16
を形成している。この冷却室16内は、プラズマ
管13を冷却するための冷却水が同図の左から右
へ流れるようになつており、そのための冷却水口
7a,7bがジヤケツト12に設けられている。
やフランジ部分を除いては石英や硬質ガラスなど
の高強度で熱膨脹率の小さいガラスによつてでき
ており、略円筒状のジヤケツト12とその内部に
同心状に形成された略円筒状のプラズマ管13と
を有し、ほぼ左右対称に形成されている。プラズ
マ管13の両端部はジヤケツト12と同径となる
よう径大に拡径され、その各径大端部13aと径
小のプラズマ管部13cとの間は漏斗状の連結壁
部14によつて一体連結されている。しかして、
ジヤケツト12とプラズマ管13との間の空間部
は、上記各漏斗状連結壁部14により上記各径大
端部13a内の室15と隔絶されて、冷却室16
を形成している。この冷却室16内は、プラズマ
管13を冷却するための冷却水が同図の左から右
へ流れるようになつており、そのための冷却水口
7a,7bがジヤケツト12に設けられている。
ジヤケツト12には、その両端部に端部ガス口
18,18が、中央部に中央ガス口19が、ガラ
スなどにより一体的にしかもガスが高速で流れる
ように大径に形成されてそれぞれ設けられてお
り、例えば各端部ガス口18からプラズマ管13
の上記各径大端部内室15に流入したガスは、こ
の室から漏斗状連結壁部14を通じてプラズマ管
13に入り、その両端部分から軸方向中央へ向か
つて高速で流れ、中央ガス口19で合流して流出
するようになつている。端部ガス口18はエルボ
ウ状となつており、その先端部がコバールなどか
らなる円筒管20に溶着し、円筒管20にフラン
ジ21が取付いている。中央ガス口19の設けて
あるジヤケツト12の中央部分は径大部12a形
成しており、そしてこの中央ガス口19が開口す
るプラズマ管部13の中央部分はジヤケツト12
とほぼ同径となるよう径大に拡径されて中央径大
部13bを形成していると共に、この中央径大部
13bと径小プラズマ管部13cとの間は漏斗状
連結壁部31によつて一体連結されている。言う
までもなく、このジヤケツト12の径大部12a
とプラズマ管13の径大部13aとの間の空間部
分は前記冷却室16と連通している。また、中央
ガス口19の先端部はフランジ23の取付いた円
筒管22に溶着しているとともに、外周面および
内周面が波状に形成された波状管部24が設けら
れている。これらフランジ21,23には取付用
の穴が設けられており、これらにガスを供給する
ためのガス源からの適当なホースが接続されるの
である。
18,18が、中央部に中央ガス口19が、ガラ
スなどにより一体的にしかもガスが高速で流れる
ように大径に形成されてそれぞれ設けられてお
り、例えば各端部ガス口18からプラズマ管13
の上記各径大端部内室15に流入したガスは、こ
の室から漏斗状連結壁部14を通じてプラズマ管
13に入り、その両端部分から軸方向中央へ向か
つて高速で流れ、中央ガス口19で合流して流出
するようになつている。端部ガス口18はエルボ
ウ状となつており、その先端部がコバールなどか
らなる円筒管20に溶着し、円筒管20にフラン
ジ21が取付いている。中央ガス口19の設けて
あるジヤケツト12の中央部分は径大部12a形
成しており、そしてこの中央ガス口19が開口す
るプラズマ管部13の中央部分はジヤケツト12
とほぼ同径となるよう径大に拡径されて中央径大
部13bを形成していると共に、この中央径大部
13bと径小プラズマ管部13cとの間は漏斗状
連結壁部31によつて一体連結されている。言う
までもなく、このジヤケツト12の径大部12a
とプラズマ管13の径大部13aとの間の空間部
分は前記冷却室16と連通している。また、中央
ガス口19の先端部はフランジ23の取付いた円
筒管22に溶着しているとともに、外周面および
内周面が波状に形成された波状管部24が設けら
れている。これらフランジ21,23には取付用
の穴が設けられており、これらにガスを供給する
ためのガス源からの適当なホースが接続されるの
である。
プラズマ管13には、左右それぞれの径小プラ
ズマ管部13c,13cの両端付近に放電用の電
極25…が設けられており、ジヤケツト12には
各電極25に接続された電極端子26a,26b
およびこれを支持する電極端子管27…が、横方
向にあまり突出しないように斜め上方へ向かつて
設けられている。なお、プラズマ管13を支持す
るためのサポータ28が適所に設けられている。
また、ジヤケツト12の両端には、円筒管28お
よびフランジ29が溶着により取付けられてお
り、このフランジ29にミラーヘツド30,30
が取付けられるようになつている。
ズマ管部13c,13cの両端付近に放電用の電
極25…が設けられており、ジヤケツト12には
各電極25に接続された電極端子26a,26b
およびこれを支持する電極端子管27…が、横方
向にあまり突出しないように斜め上方へ向かつて
設けられている。なお、プラズマ管13を支持す
るためのサポータ28が適所に設けられている。
また、ジヤケツト12の両端には、円筒管28お
よびフランジ29が溶着により取付けられてお
り、このフランジ29にミラーヘツド30,30
が取付けられるようになつている。
上述のように構造されたレーザー管11は、端
部ガス口18および中央ガス口19がプラズマ管
13よりも径大であり、またこれら端部ガス口1
8および中央ガス口19が開口するプラズマ管1
3の端部および中央部分も径大であつて、これら
より径小のプラズマ管部13cとの間にそれぞれ
漏斗状連結壁部14,31が設けられているの
で、各端部ガス口18あるいは中央ガス口19か
らのガスは効率良くプラズマ管13に流入すると
共に、高速度で該プラズマ管13内を流通し、中
央ガス口19あるいは端部ガス口18より流出す
ることができる。ガスはプラズマ管13の中で加
熱されるので流出側は比較的高温になるが、中央
ガス口19からガスが流出するようにした場合
は、波状管部24により放熱されて過熱すること
がない。放電のための高電圧は、通常、中央部の
2個の電極端子26aが高圧側、両端部の2個の
電極端子26bが低圧側となるように印加される
のであるが、高電圧が印加される中央の2個の電
極端子26aから中央ガス口19の円筒管22と
の間には波状管部24が設けられているが、フラ
ンジ23の突出寸法に比して沿面距離を充分に長
くとることができ、したがつて小型であるにもか
かわらず絶縁性がよくなつている。端部ガス口1
8がエルボウ状になつているので、この部分の突
出寸法に比して沿面距離が長くなり絶縁性が良好
である。また、ジヤケツトの両端にフランジ29
を設けてこれにミラーヘツド30を取付けるよう
にしたので、従来のようなインバーやインバー支
持構造が不要となり、それだけガスレーザー発振
器を容易に構成できるとともに、インバーとレー
ザー管との熱膨脹率の相異によるレーザー管の損
傷や出力の変動が防止されることになる。
部ガス口18および中央ガス口19がプラズマ管
13よりも径大であり、またこれら端部ガス口1
8および中央ガス口19が開口するプラズマ管1
3の端部および中央部分も径大であつて、これら
より径小のプラズマ管部13cとの間にそれぞれ
漏斗状連結壁部14,31が設けられているの
で、各端部ガス口18あるいは中央ガス口19か
らのガスは効率良くプラズマ管13に流入すると
共に、高速度で該プラズマ管13内を流通し、中
央ガス口19あるいは端部ガス口18より流出す
ることができる。ガスはプラズマ管13の中で加
熱されるので流出側は比較的高温になるが、中央
ガス口19からガスが流出するようにした場合
は、波状管部24により放熱されて過熱すること
がない。放電のための高電圧は、通常、中央部の
2個の電極端子26aが高圧側、両端部の2個の
電極端子26bが低圧側となるように印加される
のであるが、高電圧が印加される中央の2個の電
極端子26aから中央ガス口19の円筒管22と
の間には波状管部24が設けられているが、フラ
ンジ23の突出寸法に比して沿面距離を充分に長
くとることができ、したがつて小型であるにもか
かわらず絶縁性がよくなつている。端部ガス口1
8がエルボウ状になつているので、この部分の突
出寸法に比して沿面距離が長くなり絶縁性が良好
である。また、ジヤケツトの両端にフランジ29
を設けてこれにミラーヘツド30を取付けるよう
にしたので、従来のようなインバーやインバー支
持構造が不要となり、それだけガスレーザー発振
器を容易に構成できるとともに、インバーとレー
ザー管との熱膨脹率の相異によるレーザー管の損
傷や出力の変動が防止されることになる。
上述の実施例において、波状管部24を中央ガ
ス口19にのみ設けたが、端部ガス口18,18
にもこのような波状管部を設けてもよく、また、
ガスを流す方向や印加する高電圧の極性によつて
は端部ガス口18,18のみに設けてもよい。
ス口19にのみ設けたが、端部ガス口18,18
にもこのような波状管部を設けてもよく、また、
ガスを流す方向や印加する高電圧の極性によつて
は端部ガス口18,18のみに設けてもよい。
(考案の効果)
本考案によると、中央ガス口または端部ガス口
に波状管部が設けられているので、この部分の沿
面距離が長くなつて絶縁性が向上し、電極端子に
高電圧を印加しても漏電のおそれがなく、また波
状管部が冷却効果を有し、小型で高出力のガスレ
ーザー発振器を構成することが可能である。
に波状管部が設けられているので、この部分の沿
面距離が長くなつて絶縁性が向上し、電極端子に
高電圧を印加しても漏電のおそれがなく、また波
状管部が冷却効果を有し、小型で高出力のガスレ
ーザー発振器を構成することが可能である。
さらに本考案によると、端部ガス口および中央
ガス口がプラズマ管よりも径大であり、またこれ
ら端部ガス口および中央ガス口が開口するプラズ
マ管の端部および中央部分も端部ガス口および中
央ガス口と同じく径大であつて、これらより径小
のプラズマ管部との間にそれぞれ漏斗状連結壁部
が設けられているので、端部ガス口あるいは中央
ガス口から内管(プラズマ管)を通つて中央ガス
口あるいは端部ガス口へ到る流路のガス流に対す
る抵抗が少なくなつて、当該流路にガスを効率良
く流通させることができると共に、漏斗状連結壁
部によるノズル効果によつて端部ガス口あるいは
中央ガス口からのガスを内管へ高速度で流入させ
ることができる。
ガス口がプラズマ管よりも径大であり、またこれ
ら端部ガス口および中央ガス口が開口するプラズ
マ管の端部および中央部分も端部ガス口および中
央ガス口と同じく径大であつて、これらより径小
のプラズマ管部との間にそれぞれ漏斗状連結壁部
が設けられているので、端部ガス口あるいは中央
ガス口から内管(プラズマ管)を通つて中央ガス
口あるいは端部ガス口へ到る流路のガス流に対す
る抵抗が少なくなつて、当該流路にガスを効率良
く流通させることができると共に、漏斗状連結壁
部によるノズル効果によつて端部ガス口あるいは
中央ガス口からのガスを内管へ高速度で流入させ
ることができる。
第1図は本考案のレーザー管の左半分を断面し
て示した平面図、第2図は第1図の−線断面
矢視図、第3図は従来のレーザー管の断面図であ
る。 11……レーザー管、12……ジヤケツト(外
管)、13……プラズマ管(内管)、16……冷却
室、18……端部ガス口、19……中央ガス口、
24……波状管部、25……電極。
て示した平面図、第2図は第1図の−線断面
矢視図、第3図は従来のレーザー管の断面図であ
る。 11……レーザー管、12……ジヤケツト(外
管)、13……プラズマ管(内管)、16……冷却
室、18……端部ガス口、19……中央ガス口、
24……波状管部、25……電極。
Claims (1)
- 略円筒状の外管の内部に、放電用の電極を有し
た略円筒状の内管が前記外管と同心状に設けら
れ、前記外管の両端部分および中央部分に、前記
内管内にガスを流すための端部ガス口および中央
ガス口がそれぞれ設けられ、前記外管と前記内管
との間には冷却水を流すための冷却室が設けられ
たレーザー管において、前記中央ガス口または端
部ガス口にはその外周面および内周面が波状に形
成された波状管部が設けられていると共に、中央
ガス口および端部ガス口は前記内管よりも径大に
形成され、これら中央ガス口および端部ガス口が
開口する内管の端部および中央部分が中央ガス口
および端部ガス口と同じく内管よりも径大に形成
され、この各径大端部および中央径大部とこれら
より径小内管部との間にそれぞれ漏斗状連結壁部
が設けられてなることを特徴とする軸流型ガスレ
ーザー発振器のレーザー管。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985084116U JPH0445266Y2 (ja) | 1985-06-04 | 1985-06-04 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985084116U JPH0445266Y2 (ja) | 1985-06-04 | 1985-06-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61201361U JPS61201361U (ja) | 1986-12-17 |
JPH0445266Y2 true JPH0445266Y2 (ja) | 1992-10-23 |
Family
ID=30633346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985084116U Expired JPH0445266Y2 (ja) | 1985-06-04 | 1985-06-04 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0445266Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62200780A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | 高速軸流型ガスレ−ザ装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5143439U (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-31 | ||
JPS5889883A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-28 | Olympus Optical Co Ltd | レ−ザガス供給装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5265898U (ja) * | 1975-11-11 | 1977-05-16 |
-
1985
- 1985-06-04 JP JP1985084116U patent/JPH0445266Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5143439U (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-31 | ||
JPS5889883A (ja) * | 1981-11-24 | 1983-05-28 | Olympus Optical Co Ltd | レ−ザガス供給装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61201361U (ja) | 1986-12-17 |
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