JPH0445166A - アゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光体 - Google Patents
アゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光体Info
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、電子写真感光体における電荷発生材料とし
て好適なアゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光
体に関する。
て好適なアゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光
体に関する。
〈従来の技術〉
近年、複写機なとの画像形成装置における電子写真感光
体として、加工性に優れ、製造コストの面で有利である
とともに、機能設計の自由度が大きい有機感光体が使用
されている。
体として、加工性に優れ、製造コストの面で有利である
とともに、機能設計の自由度が大きい有機感光体が使用
されている。
また、電子写真感光体を用いて複写画像を形成する場合
には、カールソンプロセスが広く利用されている。カー
ルソンプロセスは、コロナ放電により感光体を均一に帯
電させる帯電工程と、帯電した感光体に原稿像を露光し
、原稿像に対応した静電潜像を形成する露光工程と、静
電潜像をトナーを含有する現像剤で現像し、トナー像を
形成する現像工程と、トナー像を紙などの基材に転写す
る転写工程と、基材に転写されたトナー像を定着させる
定着工程と、転写工程の後、感光体上に残留するトナー
を除去するクリーニング工程とを含んでいる。このカー
ルソンプロセスにおいて高品質の画像を形成するには、
電子写真感光体が帯電特性及び感光特性に優れているこ
と及び、露光後の残留電位か低いことが要求される。
には、カールソンプロセスが広く利用されている。カー
ルソンプロセスは、コロナ放電により感光体を均一に帯
電させる帯電工程と、帯電した感光体に原稿像を露光し
、原稿像に対応した静電潜像を形成する露光工程と、静
電潜像をトナーを含有する現像剤で現像し、トナー像を
形成する現像工程と、トナー像を紙などの基材に転写す
る転写工程と、基材に転写されたトナー像を定着させる
定着工程と、転写工程の後、感光体上に残留するトナー
を除去するクリーニング工程とを含んでいる。このカー
ルソンプロセスにおいて高品質の画像を形成するには、
電子写真感光体が帯電特性及び感光特性に優れているこ
と及び、露光後の残留電位か低いことが要求される。
従来より、セレンや硫化カドミウム等の無機光導電体が
電子写真感光体材料として公知ではあるか、これらは毒
性があり、しかも生産コストが高く望ましくない。
電子写真感光体材料として公知ではあるか、これらは毒
性があり、しかも生産コストが高く望ましくない。
そこで、これらの無機物質に代えて、種々の有機物質を
用いた、いわゆる有機電子写真感光体か提案されている
。かかる有機電子写真感光体は、通常、露光により電荷
を発生する電荷発生材料と、発生した電荷を輸送する機
能を有する電荷輸送材料とからなる感光層を有する。
用いた、いわゆる有機電子写真感光体か提案されている
。かかる有機電子写真感光体は、通常、露光により電荷
を発生する電荷発生材料と、発生した電荷を輸送する機
能を有する電荷輸送材料とからなる感光層を有する。
かかる有機電子写真感光体に望まれる各種の条件を満足
させるためには、これらの電荷発生材料と電荷輸送材料
との選択を適切に行う必要かある。
させるためには、これらの電荷発生材料と電荷輸送材料
との選択を適切に行う必要かある。
電荷発生材料としては、ポリビニルカルバゾール等の有
機光導電性ポリマー ヒドラゾン系化合物等の低分子有
機光導電体、フタロシアニン系化合物、ペリレン系化合
物、キナクリドン系化合物、アンサンスロン系化合物、
アゾ系化合物等多くの化合物が提案されている。例えば
アゾ系化合物としては、特開昭47−37543号公報
に開示のものが知られている。
機光導電性ポリマー ヒドラゾン系化合物等の低分子有
機光導電体、フタロシアニン系化合物、ペリレン系化合
物、キナクリドン系化合物、アンサンスロン系化合物、
アゾ系化合物等多くの化合物が提案されている。例えば
アゾ系化合物としては、特開昭47−37543号公報
に開示のものが知られている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、上記従来の電荷発生材料は、感光波長領域が狭
かフたり、近赤外領域に強い吸収を有するものが多く、
可視光領域全体にわたる感光波長特性を有していない。
かフたり、近赤外領域に強い吸収を有するものが多く、
可視光領域全体にわたる感光波長特性を有していない。
したかって、上記従来の電荷発生材料を用いた電子写真
感光体は、感光体の吸収波長特性によってはカラー原稿
を忠実に再現することか困難であり、全体として感度か
十分てないという問題があった。
感光体は、感光体の吸収波長特性によってはカラー原稿
を忠実に再現することか困難であり、全体として感度か
十分てないという問題があった。
特に、電荷発生材料としての従来公知のアゾ系化合物は
、長期間使用していると感光体の感光特性が変化し、耐
久性か充分でないと共に、感度も低下するという欠点か
あるため、実用化に至ったものはほとんどなかった。
、長期間使用していると感光体の感光特性が変化し、耐
久性か充分でないと共に、感度も低下するという欠点か
あるため、実用化に至ったものはほとんどなかった。
この発明は上記の問題点を解決するものであり、より優
れた感光特性を有し、かつ繰返し特性にも優れ、光に対
しても安定した感度を有する新規なアゾ系化合物とそれ
を用いた電子写真感光体を提供することを目的とする。
れた感光特性を有し、かつ繰返し特性にも優れ、光に対
しても安定した感度を有する新規なアゾ系化合物とそれ
を用いた電子写真感光体を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段及び作用〉[式中、R1,
R2は、同一または異なって、アルキル基、アリール基
、アルコキン基、ハロケン原子、水酸基、カルボキシ基
、アリル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基
、水素原子またはシアノ基を示し、R3はアルキル基、
アルコキシ基、アミノ基、N−置換アミノ基、アリル基
、アリール基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、
アリル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
水素原子またはシアノ基を示し、Aはカップラー残基を
示す。]で表されるアゾ系化合物である。
R2は、同一または異なって、アルキル基、アリール基
、アルコキン基、ハロケン原子、水酸基、カルボキシ基
、アリル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基
、水素原子またはシアノ基を示し、R3はアルキル基、
アルコキシ基、アミノ基、N−置換アミノ基、アリル基
、アリール基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、
アリル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
水素原子またはシアノ基を示し、Aはカップラー残基を
示す。]で表されるアゾ系化合物である。
かかる本発明のアゾ系化合物を含有した感光層を導電性
基村上に設けて、電子写真感光体が得られる。
基村上に設けて、電子写真感光体が得られる。
このアゾ系化合物を含有する本発明の電子写真感光体は
、可視光領域、特に450〜600nmの可視域に高感
度で、繰返使用による表面電位の低下か防止できる。さ
らに、長時間の光露光や高温下での光露光に対して、安
定した高感度を有し、光安定性に優れている。
、可視光領域、特に450〜600nmの可視域に高感
度で、繰返使用による表面電位の低下か防止できる。さ
らに、長時間の光露光や高温下での光露光に対して、安
定した高感度を有し、光安定性に優れている。
本発明のアゾ系化合物かこのような高い耐久性と安定し
た感度を有する理由としては、以下のようなことが考え
られる。
た感度を有する理由としては、以下のようなことが考え
られる。
すなわち、この発明のアゾ系化合物は、例えば、前記し
た特開昭47−37543号に例示の下2己一般式(■
): で示される従来のジスアゾ系化合物に比して、分子の中
心骨格に共役したπ結合が多く存在するので、化合物の
分子構造の平面化がより一層促進されて、分子間の重な
り合い等による分子間相互作用が強まるからであると推
定される。
た特開昭47−37543号に例示の下2己一般式(■
): で示される従来のジスアゾ系化合物に比して、分子の中
心骨格に共役したπ結合が多く存在するので、化合物の
分子構造の平面化がより一層促進されて、分子間の重な
り合い等による分子間相互作用が強まるからであると推
定される。
前記−船蔵mで表されるこの発明のアゾ系化合物におい
て、カップラー残基としては、下記−船蔵(al〜(9
]て示される基か例示される。
て、カップラー残基としては、下記−船蔵(al〜(9
]て示される基か例示される。
R′:l
上記各式中、
はヒ
Fロキシル基、
基
RIORIIC式中、R10およびR”は同一または異
なって、水素原子またはアルキル基を示す。)または基
ニーNH3O2R12(式中、R12は水素原子、アル
キル基、アルケニル基またはアリール基を示す。)を示
す。
なって、水素原子またはアルキル基を示す。)または基
ニーNH3O2R12(式中、R12は水素原子、アル
キル基、アルケニル基またはアリール基を示す。)を示
す。
R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アリール基またはスルファモイル基を示し
、アルキル基またはアルコキシ基はハロゲン原子、フェ
ニル基、ナフチル基、ニトロ基、シアノ基等の置換基を
有してもよい。
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アリール基またはスルファモイル基を示し
、アルキル基またはアルコキシ基はハロゲン原子、フェ
ニル基、ナフチル基、ニトロ基、シアノ基等の置換基を
有してもよい。
また、カルバモイル基またはスルファモイル基はハロゲ
ン原子、フェニル基、ナフチル基、アルキル基、アルケ
ニル基、カルボニル基、カルボキシル基等の置換基を有
してもよい。
ン原子、フェニル基、ナフチル基、アルキル基、アルケ
ニル基、カルボニル基、カルボキシル基等の置換基を有
してもよい。
R6はR4およびR5を有するベンゼン環と縮合して芳
香族環、脂肪族環または複素環を形成するのに必要な原
子団を表し、これらの環は前記と同様な置換基を有して
もよい。
香族環、脂肪族環または複素環を形成するのに必要な原
子団を表し、これらの環は前記と同様な置換基を有して
もよい。
R7は水素原子、アミノ基、N−置換アミノ基、アルキ
ル基、アルケニル基、ヒドロキシル基、カルバモイル基
、カルボキシル基またはアルコキシカルボニル基を示し
、アルキル基、アルケニル基、カルバモイル基は前記と
同様な置換基を有してもよい。
ル基、アルケニル基、ヒドロキシル基、カルバモイル基
、カルボキシル基またはアルコキシカルボニル基を示し
、アルキル基、アルケニル基、カルバモイル基は前記と
同様な置換基を有してもよい。
R8は水素原子、アルキル基またはアリール基を示し、
アルキル基またはアリール基は前記と同様な置換基を有
してもよい。
アルキル基またはアリール基は前記と同様な置換基を有
してもよい。
R9はフェニレン基またはナフチレン基を示す。
これらのフェニレン基またはナフチレン基も前記と同様
な置換基を有してもよい。
な置換基を有してもよい。
前記アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロプル、ブチル、イソブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜6の低級ア
ルキル基かあげられる。
ピル、イソプロプル、ブチル、イソブチル、tert−
ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜6の低級ア
ルキル基かあげられる。
前記アルケニル基としては、例えばビニル、アリル、2
−ブテニル、3−ブテニル、1−メチルアリル、2−ペ
ンテニル、2−へキセニル等の炭素数2〜6の低級アル
ケニル基かあげられる。
−ブテニル、3−ブテニル、1−メチルアリル、2−ペ
ンテニル、2−へキセニル等の炭素数2〜6の低級アル
ケニル基かあげられる。
前記ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子、フッ素原子があげられる。
素原子、フッ素原子があげられる。
前記アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等のアルコキシ部
分の炭素数か1〜6の低級アルコキシ基があげられる。
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等のアルコキシ部
分の炭素数か1〜6の低級アルコキシ基があげられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル等のアルコキシ部分の炭素数
が1〜6の低級アルコキシカルボニル基があげられる。
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
イソブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル等のアルコキシ部分の炭素数
が1〜6の低級アルコキシカルボニル基があげられる。
前記アシツ素としては、例えばホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソ
バレリル、ヘキサモイルがあげられる。
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソ
バレリル、ヘキサモイルがあげられる。
また、R6において、R’およびR5を有するベンゼン
環と縮合して脂肪族環を形成するのに必要な原子団とし
ては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、
ブチレン基等の炭素数1〜4のアルキレン基かあげられ
る。
環と縮合して脂肪族環を形成するのに必要な原子団とし
ては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、
ブチレン基等の炭素数1〜4のアルキレン基かあげられ
る。
R6において、R4およびR5を存するベンゼン環と縮
合して複素環を形成するのに必要な原子団としては、例
えばベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、インドリル
、IH−インドリル、ベゾオキサゾリル、ベンゾチアゾ
リル、IH−インダドリル、ベンゾイミダゾリル、クロ
メニル、クロマニル、イソクロマニル、キノリニル、イ
ソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾニ
リル、キノキサリニル、ジベンゾフラニル、カルバゾリ
ル、キサンテニル、アクリジニル、フェノキサジニル、
フタラジニル、フェノキサジニル、チアントレニル等が
あげられる。
合して複素環を形成するのに必要な原子団としては、例
えばベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、インドリル
、IH−インドリル、ベゾオキサゾリル、ベンゾチアゾ
リル、IH−インダドリル、ベンゾイミダゾリル、クロ
メニル、クロマニル、イソクロマニル、キノリニル、イ
ソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾニ
リル、キノキサリニル、ジベンゾフラニル、カルバゾリ
ル、キサンテニル、アクリジニル、フェノキサジニル、
フタラジニル、フェノキサジニル、チアントレニル等が
あげられる。
一般式(Ilで表されるアゾ系化合物としては、具体的
には次のような化合物があげられる。
には次のような化合物があげられる。
(以下余白)
第1表
第1表(続き)
第1表(続き)
第1表(続き)
第1表(続き)
上記−船蔵[11で表される本発明のアゾ系化合物は、
種々の方法で合成することができる。例えば、下記反応
式に示すように、ジアミンをジアゾ化してテトラゾニウ
ム塩とし、次いてこれを所定のカップラーと有機溶媒中
でカップリングさせることにより容易に製造することが
できる。
種々の方法で合成することができる。例えば、下記反応
式に示すように、ジアミンをジアゾ化してテトラゾニウ
ム塩とし、次いてこれを所定のカップラーと有機溶媒中
でカップリングさせることにより容易に製造することが
できる。
[式中、R1、R2、R3およびAは前記と同じ、Xは
Cj Br NO3−BF2−等の陰イオンを
示す。] ジアゾ化は、ジアミン(1)の酸性水溶液に亜硝酸ナト
リウムまたは亜硝酸を攪拌しなから低温下(通常、−1
0〜5℃)で滴下し、次いでホウフッ化水素、ハロゲン
化水素、硫酸等を加えて結晶化したテトラゾニウム塩(
2)を得る。
Cj Br NO3−BF2−等の陰イオンを
示す。] ジアゾ化は、ジアミン(1)の酸性水溶液に亜硝酸ナト
リウムまたは亜硝酸を攪拌しなから低温下(通常、−1
0〜5℃)で滴下し、次いでホウフッ化水素、ハロゲン
化水素、硫酸等を加えて結晶化したテトラゾニウム塩(
2)を得る。
カップリング反応は、有機溶媒中にて前記テトラゾニウ
ム塩(2)に所定量のカップラーを加え、反応させる。
ム塩(2)に所定量のカップラーを加え、反応させる。
有機溶媒としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等があげられる。
チルスルホキシド等があげられる。
この発明のアゾ系化合物は、電荷発生材料として単独で
用いられるほか、従来公知の他の電荷発生材料と組み合
わせて使用することができる。
用いられるほか、従来公知の他の電荷発生材料と組み合
わせて使用することができる。
他の電荷発生材料としては、例えば、アモルファスシリ
コン、ピリリウム塩、アンサンスロン系顔料、フタロシ
アニン系顔料、インジゴ系部料、トリフェニルメタン系
顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系
顔料、ペリレン系顔料、キナクリドン系顔料等かあげら
れる。
コン、ピリリウム塩、アンサンスロン系顔料、フタロシ
アニン系顔料、インジゴ系部料、トリフェニルメタン系
顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系
顔料、ペリレン系顔料、キナクリドン系顔料等かあげら
れる。
これらの電荷発生材料は、所望の領域に吸収波長域を有
するように、1種または2種以上混合して用いられる。
するように、1種または2種以上混合して用いられる。
上記−船蔵(Ilで表される化合物は、いわゆる単層型
及び積層型の電子写真感光体のいずれにも適用すること
ができる。
及び積層型の電子写真感光体のいずれにも適用すること
ができる。
単層型電子写真感光体とするには、電荷発生材料である
この発明のアゾ系化合物、電荷輸送材料、結着樹脂等を
含有する感光層を塗布等の手段により導電性基村上に形
成すればよい。
この発明のアゾ系化合物、電荷輸送材料、結着樹脂等を
含有する感光層を塗布等の手段により導電性基村上に形
成すればよい。
また、積層型の電子写真感光体とするには、導電性基村
上に、塗布等の手段によりこの発明のアゾ系化合物を含
有する電荷発生材料を含有する電荷発生層を形成し、こ
の電荷発生層上に、電荷輸送材料と結合材樹脂とを含有
する電荷輸送層を形成すればよい。また、上記とは逆に
、導電性基材上に上記と同様の電荷輸送層を形成し、次
いて塗布等の手段により電荷発生材料を含有する電荷発
生層を形成してもよい。さらに、電荷発生層は電荷発生
材料と電荷輸送材料とを結着剤樹脂中に分散して塗布す
ることにより形成してもよい。
上に、塗布等の手段によりこの発明のアゾ系化合物を含
有する電荷発生材料を含有する電荷発生層を形成し、こ
の電荷発生層上に、電荷輸送材料と結合材樹脂とを含有
する電荷輸送層を形成すればよい。また、上記とは逆に
、導電性基材上に上記と同様の電荷輸送層を形成し、次
いて塗布等の手段により電荷発生材料を含有する電荷発
生層を形成してもよい。さらに、電荷発生層は電荷発生
材料と電荷輸送材料とを結着剤樹脂中に分散して塗布す
ることにより形成してもよい。
前記電荷輸送材料としては、従来公知の材料を用いるこ
とかでき、例えば2,5−シ(4−メチルアミノフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサンアゾ
ール系化合物、9−(4−ジエチルアミノスチリル)ア
ントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカルバゾ
ール等のカルバゾール系化合物、1−フェニル−3−(
p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリ
ン系化合物、ヒドラゾン系化合物、トリフェニルアミン
系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物
、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チ
アジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾ
ール系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式化
合物、縮合多環式化合物かあげられる。
とかでき、例えば2,5−シ(4−メチルアミノフェニ
ル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサンアゾ
ール系化合物、9−(4−ジエチルアミノスチリル)ア
ントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカルバゾ
ール等のカルバゾール系化合物、1−フェニル−3−(
p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリ
ン系化合物、ヒドラゾン系化合物、トリフェニルアミン
系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物
、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チ
アジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾ
ール系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式化
合物、縮合多環式化合物かあげられる。
これらの電荷輸送材料は、1種または2種以上混合して
用いられる。なお、ポリビニルカルバゾール等の成膜性
を有する電荷輸送材料を用いる場合には、結着樹脂は必
ずしも必要ではない。
用いられる。なお、ポリビニルカルバゾール等の成膜性
を有する電荷輸送材料を用いる場合には、結着樹脂は必
ずしも必要ではない。
また、上記単層型や積層型の感光体において使用される
結着樹脂としては、種々の樹脂を使用することかでき、
例えばスチレン系重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−
マレイン酸共重合体、アクリル系重合体、スチレン−ア
クリル系共重合体、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル
共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
プロピレン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエ
ステル、アルキッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジ
アリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリエーテル樹脂等の熱可塑性樹脂や、シリ
コーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂、さらに
エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレート等の光
硬化性樹脂等の種々の重合体かあげられる。
結着樹脂としては、種々の樹脂を使用することかでき、
例えばスチレン系重合体、スチレン−ブタジェン共重合
体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−
マレイン酸共重合体、アクリル系重合体、スチレン−ア
クリル系共重合体、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル
共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
プロピレン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエ
ステル、アルキッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリスルホン、ジ
アリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂、ポリエーテル樹脂等の熱可塑性樹脂や、シリ
コーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂、さらに
エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレート等の光
硬化性樹脂等の種々の重合体かあげられる。
これらの結着剤樹脂は1種または2種以上混合して用い
られる。
られる。
また、塗布手法等により電荷発生層および電荷輸送層を
形成する場合には溶剤か使用される。この溶剤としては
、種々の有機溶剤を使用することが可能であり、例えば
メタノール、エタノール、イソプロパツール、ブタノー
ル等のアルコール類、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類
、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド等の種々の溶剤かあげられる。
形成する場合には溶剤か使用される。この溶剤としては
、種々の有機溶剤を使用することが可能であり、例えば
メタノール、エタノール、イソプロパツール、ブタノー
ル等のアルコール類、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類
、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド等の種々の溶剤かあげられる。
これらの溶剤は1種または2種以上混合して用いること
かできる。
かできる。
また、上記電荷発生層の感度をよくするために、例エバ
、ターフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレン
等の公知の増感剤を上記電荷発生材料と共に用いてもよ
い。さらには、電荷輸送材料や電荷発生材料の分散性、
染工性等をよくするために界面活性剤、レベリング剤等
を使用してもよい。
、ターフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレン
等の公知の増感剤を上記電荷発生材料と共に用いてもよ
い。さらには、電荷輸送材料や電荷発生材料の分散性、
染工性等をよくするために界面活性剤、レベリング剤等
を使用してもよい。
上記導電性基材としては、導電性を有する種々の材料を
使用することができる。例えば、アルミニウム、銅、ス
ズ、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、
カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウ
ム、ステンレス鋼、真鍮等の金属単体や、上記金属が蒸
着またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化ア
ルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で被覆された
ガラス等かあげられる。
使用することができる。例えば、アルミニウム、銅、ス
ズ、白金、金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、
カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウ
ム、ステンレス鋼、真鍮等の金属単体や、上記金属が蒸
着またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化ア
ルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で被覆された
ガラス等かあげられる。
上記導電性基材はシート状、ドラム状のいずれでもよく
、基材自体が導電性を有するか、あるいは基材の表面か
導電性を有していればよい。この基材としては、使用に
際し、十分な機械的強度を有するものか好ましい。
、基材自体が導電性を有するか、あるいは基材の表面か
導電性を有していればよい。この基材としては、使用に
際し、十分な機械的強度を有するものか好ましい。
単層型および積層型の各有機感光層には、増感剤、フル
オレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化
防止剤、可塑剤等の添加剤を含有させることかできる。
オレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの劣化
防止剤、可塑剤等の添加剤を含有させることかできる。
単層型の感光層における電荷輸送材料の添加量は、結着
樹脂100重量部に対して40〜200重量部、好まし
くは50〜100重量部であるのが適当である。また、
積層型の電荷輸送層における前記電荷輸送材料の添加量
は、結着樹脂100重量部に対して10〜500重量部
、好ましくは25〜200重量部であるのが適当である
。
樹脂100重量部に対して40〜200重量部、好まし
くは50〜100重量部であるのが適当である。また、
積層型の電荷輸送層における前記電荷輸送材料の添加量
は、結着樹脂100重量部に対して10〜500重量部
、好ましくは25〜200重量部であるのが適当である
。
単層型の感光層における電荷発生材料の添加量は、結着
型j1100重量部に対して2〜20重量部、好ましく
は3〜15重量部であるのが適当である。また、積層型
の電荷発生層における前記電荷発生材料の添加量は、結
着樹脂100重量部に対して5〜500重量部、好まし
くは10〜250重量部であるのか適当である。
型j1100重量部に対して2〜20重量部、好ましく
は3〜15重量部であるのが適当である。また、積層型
の電荷発生層における前記電荷発生材料の添加量は、結
着樹脂100重量部に対して5〜500重量部、好まし
くは10〜250重量部であるのか適当である。
形成される感光層の厚さは、単層型の場合で10〜50
μm程度、なかんづ<115−25Ii程度であるのか
好ましい。一方、積層型の場合は、電荷発生層の厚さか
0,01〜5μm程度、好ましくは0.1〜3μm程度
、電荷輸送層の厚さが2〜100μm程度、なかんづく
5〜30μm程度であるのが好ましい。
μm程度、なかんづ<115−25Ii程度であるのか
好ましい。一方、積層型の場合は、電荷発生層の厚さか
0,01〜5μm程度、好ましくは0.1〜3μm程度
、電荷輸送層の厚さが2〜100μm程度、なかんづく
5〜30μm程度であるのが好ましい。
また、単層型電子写真用感光体にあっては、上記基材と
感光層との間に、また、積層型電子写真用感光体にあっ
ては、上記基材と電荷発生層との間や基材と電荷輸送層
との間及び電荷発生層と電荷輸送層との間に、感光体の
特性を阻害しない範囲でバリア層が形成されていてもよ
く、感光体の表面には、保護層か形成されていてもよい
。
感光層との間に、また、積層型電子写真用感光体にあっ
ては、上記基材と電荷発生層との間や基材と電荷輸送層
との間及び電荷発生層と電荷輸送層との間に、感光体の
特性を阻害しない範囲でバリア層が形成されていてもよ
く、感光体の表面には、保護層か形成されていてもよい
。
上記電荷発生層及び電荷輸送層を、塗布の方法により形
成する場合には、電荷発生材料等と結着樹脂などを公知
の方法、例えば、ロールミル、ボールミル、アトライタ
、ペイントシェーカーあるいは超音波分散器等を用いて
分散混合して調製し、これを公知の手段により塗布、乾
燥すればよい。
成する場合には、電荷発生材料等と結着樹脂などを公知
の方法、例えば、ロールミル、ボールミル、アトライタ
、ペイントシェーカーあるいは超音波分散器等を用いて
分散混合して調製し、これを公知の手段により塗布、乾
燥すればよい。
なお上述のように、電荷発生層は上記電荷発生材料を蒸
着することにより形成してもよい。
着することにより形成してもよい。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
〈実施例〉
(1)電荷発生材料の合成例
実施例1
10%塩酸75mJに前記第1表にNo、lで表される
ジアミン10.18g (0,023モル)を加え、氷
水浴で冷却しながら攪拌し、液温を一1℃に保った。次
に、この溶液に亜硝酸ソーダ3.54g (0,005
1モル)を水10mJに溶解した水溶液を、液温−2〜
1℃に保ったまま30分間で滴下し、さらに滴下終了後
1時間攪拌して冷却放置した。次いでこれに42%ポウ
フッ化水素20m1を加え、生成した結晶を濾過し、エ
タノールで洗浄後乾燥してテトラゾニウムジフルオロボ
レート11.50g (収率78.1%)を得た。
ジアミン10.18g (0,023モル)を加え、氷
水浴で冷却しながら攪拌し、液温を一1℃に保った。次
に、この溶液に亜硝酸ソーダ3.54g (0,005
1モル)を水10mJに溶解した水溶液を、液温−2〜
1℃に保ったまま30分間で滴下し、さらに滴下終了後
1時間攪拌して冷却放置した。次いでこれに42%ポウ
フッ化水素20m1を加え、生成した結晶を濾過し、エ
タノールで洗浄後乾燥してテトラゾニウムジフルオロボ
レート11.50g (収率78.1%)を得た。
次にこのテトラゾニウム塩1.28g (0,002モ
ル)と弐圓: で表されるカップラー1.06g (0,004モル)
をN、N−ジメチルホルムアミド100mJ中に溶解し
、これに酢酸ソーダ0.35g (0゜0043モル)
を水5mJに溶解した液を17〜21”Cに保ったまま
5分間で滴下した。さらに3時間攪拌後、生成した沈澱
物を濾過し、N、N−ジメチルホルムアミド200mj
で5回洗浄した。
ル)と弐圓: で表されるカップラー1.06g (0,004モル)
をN、N−ジメチルホルムアミド100mJ中に溶解し
、これに酢酸ソーダ0.35g (0゜0043モル)
を水5mJに溶解した液を17〜21”Cに保ったまま
5分間で滴下した。さらに3時間攪拌後、生成した沈澱
物を濾過し、N、N−ジメチルホルムアミド200mj
で5回洗浄した。
次に、2回水で洗浄した後、減圧乾燥して下記−て表さ
れるアゾ系化合物1゜ 7g (収率 79.2%)を得た。
れるアゾ系化合物1゜ 7g (収率 79.2%)を得た。
得られたアゾ系化合物の元素分析結果を以下に記す。
C64H46N s O4として
計算値(%) C77,561(4,68N+、1.
31実験値(%) C77,43H4,78N11.
20実施例2 カップラーとしてp−クレゾールを用いた他は、上記実
施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
31実験値(%) C77,43H4,78N11.
20実施例2 カップラーとしてp−クレゾールを用いた他は、上記実
施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
C44H36N b 02として
計算値(%) C77,63N5.33 N13.
’34実験値(%) C77,42N5.46 N
12.20実施例3 カップラーとして4−ヒドロキシインドリンを用いた他
は、上記実施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
’34実験値(%) C77,42N5.46 N
12.20実施例3 カップラーとして4−ヒドロキシインドリンを用いた他
は、上記実施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
C46H38N a O2として
計算値(%) C75,19N5.21 N15.
25実験値(%) C75,33N5.1. N1
5.29実施例4 カップラーとしてN−メチルアニリンを用いた他は、上
記実施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
25実験値(%) C75,33N5.1. N1
5.29実施例4 カップラーとしてN−メチルアニリンを用いた他は、上
記実施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
C44H38N8として
計算値(%) C77,85N5.64 N16.
51実験値(%) C77,93N5.50 N]
、6.74実施例5 カップラーとして1−メチル−5−ヒドロキシピラゾー
ルを用いた他は、上記実施例1と同様にして、アゾ系化
合物を得た。
51実験値(%) C77,93N5.50 N]
、6.74実施例5 カップラーとして1−メチル−5−ヒドロキシピラゾー
ルを用いた他は、上記実施例1と同様にして、アゾ系化
合物を得た。
C38H32N +002として
計算値(%) C60,0884,88N21.20
実験値(%) C60,21N5.02 N20.
.98実施例6 カップラーとして下記式で表される物質を用いた他は、
上記実施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
実験値(%) C60,21N5.02 N20.
.98実施例6 カップラーとして下記式で表される物質を用いた他は、
上記実施例1と同様にして、アゾ系化合物を得た。
H3
C56H38N s 06として
計算値(%)
実験値(%)
C73,19
C73,02
H4,17
H4,57
N12.19
N12.30
実施例7
カップラーとL7て下記式で表される物質を用いた他は
、上記実施例1と同様にして、アゾ系化合C66H4O
N 804として 計算値(%) C78,56H4,0ON11.10
実験値(%) C78,63H3,89NLL、23
(2)電子写真感光体の調製 単層型電子写真感光体の調製 電荷発生材料として上記実施例1〜7で合成した本発明
化合物8重量部、電荷輸送材料として3゜3′−ジメチ
ル−N、N、N’ 、N’ −テトラキス−4−メチル
フェニル(1,1’ −ビフェニル)−4,4’ −ジ
アミン100重量部、結着樹脂としてポリ−(4,4’
−シクロへキシリデンジフェニル)カーボネート(三
菱瓦斯化学社製、ポリカーボネートZ200)100重
量部及び所定量のテトラヒドロフランを、超音波分散器
にて混合分散し、単層型感光層用塗布液を調製した。こ
の塗布液をアルミニウム素管上に塗布した後、暗所にて
100℃で30分間加熱乾燥させて、厚み24μmの単
層型感光層を有するドラム型の電子写真感光体を作製し
た。
、上記実施例1と同様にして、アゾ系化合C66H4O
N 804として 計算値(%) C78,56H4,0ON11.10
実験値(%) C78,63H3,89NLL、23
(2)電子写真感光体の調製 単層型電子写真感光体の調製 電荷発生材料として上記実施例1〜7で合成した本発明
化合物8重量部、電荷輸送材料として3゜3′−ジメチ
ル−N、N、N’ 、N’ −テトラキス−4−メチル
フェニル(1,1’ −ビフェニル)−4,4’ −ジ
アミン100重量部、結着樹脂としてポリ−(4,4’
−シクロへキシリデンジフェニル)カーボネート(三
菱瓦斯化学社製、ポリカーボネートZ200)100重
量部及び所定量のテトラヒドロフランを、超音波分散器
にて混合分散し、単層型感光層用塗布液を調製した。こ
の塗布液をアルミニウム素管上に塗布した後、暗所にて
100℃で30分間加熱乾燥させて、厚み24μmの単
層型感光層を有するドラム型の電子写真感光体を作製し
た。
積層型電子写真感光体の調製
結着樹脂としてポリビニルブチラール(積木化学社製、
商品名工スレツクBLI)100重量部と、電荷発生材
料として上記実施例1〜7で合成した本発明化合物10
0重量部と、所定量のテトラヒドロフランとをボールミ
ルに仕込み、24時間撹拌混合して電荷発生層用塗布液
を調製し、この塗布液をアルミニウム素管上に浸漬法に
よって塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化さ
せることにより膜厚0.5μmの電荷発生層を形成した
。
商品名工スレツクBLI)100重量部と、電荷発生材
料として上記実施例1〜7で合成した本発明化合物10
0重量部と、所定量のテトラヒドロフランとをボールミ
ルに仕込み、24時間撹拌混合して電荷発生層用塗布液
を調製し、この塗布液をアルミニウム素管上に浸漬法に
よって塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化さ
せることにより膜厚0.5μmの電荷発生層を形成した
。
次いで、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂(三菱瓦
斯化学社製、商品名ニーピロン)100重量部と、電荷
輸送材料として3,3′−ジメチル−N、N、N’ 、
N’ −テトラキス−4−メチルフェニル(1,1’−
ビフェニル)−4,4’一ジアミン100重量部と、所
定量のトルエンとをホモミキサで撹拌混合して電荷輸送
層用塗布液を調製した。この塗布液を上記電荷発生層の
表面に浸漬法により塗布し、90℃で3O分間熱風乾燥
することにより膜厚約20μmの電荷輸送層を形成して
、積層型電子写真感光体を作成した。
斯化学社製、商品名ニーピロン)100重量部と、電荷
輸送材料として3,3′−ジメチル−N、N、N’ 、
N’ −テトラキス−4−メチルフェニル(1,1’−
ビフェニル)−4,4’一ジアミン100重量部と、所
定量のトルエンとをホモミキサで撹拌混合して電荷輸送
層用塗布液を調製した。この塗布液を上記電荷発生層の
表面に浸漬法により塗布し、90℃で3O分間熱風乾燥
することにより膜厚約20μmの電荷輸送層を形成して
、積層型電子写真感光体を作成した。
比較例
電荷発生材料として下記一般弐M:
で示されるクロロジアンブルーを用いた以外は上記と同
様にして単層型及び積層型の電子写真感光体を作成した
。
様にして単層型及び積層型の電子写真感光体を作成した
。
(3)電子写真感光体の評価
初期表面電位VSPの測定
上記各単層型電子写真感光体を、静電複写試験装置(ジ
エンチック社製、ジエンチックシンシア30M)に装填
し、その表面を正または負に帯電させて各感光体の表面
電位Vsp(V)を測定した。
エンチック社製、ジエンチックシンシア30M)に装填
し、その表面を正または負に帯電させて各感光体の表面
電位Vsp(V)を測定した。
半減露光量E1/2および残留電位VrPの測定上記帯
電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験装置の
露光光源であるハロゲンランプを用いて101uxで露
光させ、表面電位Vsp(V)か1/2となるまでの時
間を求めて、半減露光量El/2 <1ux−set
)を算出した。
電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験装置の
露光光源であるハロゲンランプを用いて101uxで露
光させ、表面電位Vsp(V)か1/2となるまでの時
間を求めて、半減露光量El/2 <1ux−set
)を算出した。
また、上記露光開始後0.15秒を経過した後の表面電
位を残留電位Vrp(V)とした。
位を残留電位Vrp(V)とした。
上記実施例1〜7及び比較例で得られた電子写真感光体
の電子写真特性の測定結果を第2表に示す。
の電子写真特性の測定結果を第2表に示す。
(以下余白)
第2表
第2表に示すように、本発明のアゾ系化合物を電荷発生
材料として用いた感光体は単層型および積層型のいずれ
も、残留電位vrpか比較例よりも小さく、光に対する
安定性に優れていることか判る。また、半減蕗光量E1
/2も少なく、安定した感度を有していた。さらに、繰
返し特性にも優れていた。
材料として用いた感光体は単層型および積層型のいずれ
も、残留電位vrpか比較例よりも小さく、光に対する
安定性に優れていることか判る。また、半減蕗光量E1
/2も少なく、安定した感度を有していた。さらに、繰
返し特性にも優れていた。
〈発明の効果〉
以上のように、この発明のアゾ系化合物は、可視光領域
において高感度であり、かつ光安定性に優れている。
において高感度であり、かつ光安定性に優れている。
このアゾ系化合物を用いることにより、高感度で光安定
性に優れ、繰返特性にも秀でた電子写真感光体を得るこ
とができる。
性に優れ、繰返特性にも秀でた電子写真感光体を得るこ
とができる。
(他2名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1、R^2は、同一または異なって、アル
キル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、水
酸基、カルボキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、水素原子またはシアノ基を示し、 R^3はアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、N−置
換アミノ基、アリル基、アリール基、ハロゲン原子、水
酸基、カルボキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基水素原子またはシアノ基を示し、 Aはカップラー残基を示す。]で表されるアゾ系化合物
。 2、導電性基材上に、請求項1記載のアゾ系化合物を含
む感光層を設けたこと特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15576290A JPH0445166A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | アゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15576290A JPH0445166A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | アゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0445166A true JPH0445166A (ja) | 1992-02-14 |
Family
ID=15612857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15576290A Pending JPH0445166A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | アゾ系化合物およびそれを用いた電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0445166A (ja) |
-
1990
- 1990-06-12 JP JP15576290A patent/JPH0445166A/ja active Pending
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