JPH0580555A

JPH0580555A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH0580555A
Application number: JP24386091A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Mizuta; 泰史水田; Eiichi Miyamoto; 栄一宮本; Mitsuyoshi Hirano; 光芳平野; Yoichiro Watanabe; 洋一郎渡辺
Original assignee: Mita Industrial Co Ltd
Current assignee: Kyocera Mita Industrial Co Ltd
Priority date: 1991-09-24
Filing date: 1991-09-24
Publication date: 1993-04-02

Abstract

(57)【要約】【目的】高い感度を有し、かつ耐久性に優れた電子写
真感光体を提供する。【構成】導電性基材上に、下記一般式(I) で表される
アゾ系化合物を含む感光層を設けた。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
より詳細には、静電式複写機、レーザービームプリンタ
等に使用される電子写真感光体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体を用いて複写画像を形成
する場合には、カールソンプロセスが広く利用されてい
る。カールソンプロセスは、コロナ放電により感光体を
均一に帯電させる帯電工程と、帯電した感光体に原稿像
を露光し、原稿像に対応した静電潜像を形成する露光工
程と、静電潜像をトナーを含有する現像剤で現像してト
ナー像を形成する現像工程と、トナー像を紙などの基材
に転写する転写工程と、基材に転写されたトナー像を定
着させる定着工程と、転写工程の後、感光体上に残留す
るトナーを除去するクリーニング工程とを含んでいる。

【０００３】このカールソンプロセスにおいて高品質の
画像を形成するには、電子写真感光体が帯電特性及び感
光特性に優れていること及び、露光後の残留電位が低い
ことが要求される。従来より、セレンや硫化カドミウム
等の無機光導電体が電子写真感光体材料として公知では
あるが、これらは毒性があり、しかも生産コストが高く
望ましくない。

【０００４】そこで、これらの無機物質に代えて、加工
性に優れ、製造コストの面で有利であるとともに、機能
設計の自由度が大きい、種々の有機物質を用いた、いわ
ゆる有機電子写真感光体が提案されている。かかる有機
電子写真感光体は、通常、露光により電荷を発生する電
荷発生材料と、発生した電荷を輸送する機能を有する電
荷輸送材料とからなる感光層を有する。

【０００５】かかる有機電子写真感光体に望まれる各種
の条件を満足させるためには、これら電荷発生材料およ
び電荷輸送材料の選択を適切に行う必要がある。電荷発
生材料としては、フタロシアニン系化合物、ペリレン系
化合物、キナクリドン系化合物、アンサンスロン系化合
物、アゾ系化合物等多くの化合物が提案されている。例
えばアゾ系化合物としては、特開昭４７−３７５４３号
公報や同５７−１９５７６７号公報に開示のものが知ら
れている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の電荷発生材料は、感光波長領域が狭かったり、感度
が低かったり、あるいは、光安定性が充分でなかったり
するという問題があり、これらの電荷発生材料を含む感
光体も、感度や耐久性に劣るものであった。本発明は上
記の問題点を解決するものであり、高い感度を有し、か
つ耐久性に優れる等、特性に優れた電子写真感光体を提
供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するための、本発明の電子写真感光体は、導電性基材
上に、下記一般式(I) で表されるアゾ系化合物を含む感
光層を設けたこと特徴とする。

【０００８】

【化２】

【０００９】［式中、Ａはカップラー残基を示す］本発
明者らの検討によれば、上記一般式(I) で表されるアゾ
系化合物は、分子内に、消光剤として知られるｐ−ベン
ジルビフェニルの構造を導入したため、高感度で、か
つ、繰返し使用による表面電位の低下を防止できる。さ
らに、長時間の露光や高温下での露光に対して、安定的
に高感度を維持することができ、光安定性に優れてい
る。したがって、上記アゾ系化合物を含む感光層を有す
る、本発明の電子写真感光体は、高い感度を有し、かつ
耐久性に優れたものである。

【００１０】なお、上記のアゾ系化合物がこのような高
い感度と光安定性を有する理由としては、以下のような
ことが考えられる。すなわち、上記一般式(I) で表され
るアゾ系化合物は、例えば、前記した特開昭４７−３７
５４３号に例示の、下記一般式(III) ：

【００１１】

【化３】

【００１２】［式中、Ａは前記と同じカップラー残基を
示し、Ｙは水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ
基、水酸基、塩素原子または臭素原子を示す］で表され
る従来のビスアゾ系化合物等に比して、上記ｐ−ベンジ
ルビフェニル部分と２つのアゾ基とで形成されるπ電子
共役系が、より大きな拡がりをもっているため、化合物
の分子構造の平面化がより一層促進されて、分子間の重
なり合い等による分子間相互作用が強まるからであると
推定される。

【００１３】上記一般式(I) で表されるアゾ系化合物
は、基本的に下記の一般式(Ia)で表されるビスアゾ系化
合物を含んでいる。

【００１４】

【化４】

【００１５】［式中、Ａは前記と同じカップラー残基を
示す］前記一般式(I) で表されるアゾ系化合物におい
て、カップラー残基Ａとしては、下記一般式(a) 〜(g)
で表される基が例示される。

【００１６】

【化５】

【００１７】各式中Ｒ⁴は、ヒドロキシル基、下記一般
式で表される基： −ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹ （式中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は同一または異なって、水素原
子またはアルキル基を示す）、または、下記一般式で表
される基： −ＮＨＳＯ₂Ｒ¹² （式中、Ｒ¹²は水素原子、アルキル基、アルケニル基ま
たはアリール基を示す）を表す。

【００１８】Ｒ⁵は、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、アリール基またはスルファ
モイル基を表し、アルキル基またはアルコキシ基は、ハ
ロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ニトロ基、シア
ノ基等の置換基を有してもよい。また、カルバモイル基
またはスルファモイル基は、ハロゲン原子、フェニル
基、ナフチル基、アルキル基、アルケニル基、カルボニ
ル基、カルボキシル基等の置換基を有してもよい。

【００１９】Ｒ⁶は、上記Ｒ⁴およびＲ⁵を有するベン
ゼン環と縮合して芳香族環、脂肪族環または複素環を形
成するのに必要な原子団を示し、これらの環は前記と同
様な置換基を有してもよい。Ｒ⁷は、水素原子、アミノ
基、Ｎ−置換アミノ基、アルキル基、アルケニル基、ヒ
ドロキシル基、カルバモイル基、カルボキシル基または
アルコキシカルボニル基を表し、アルキル基、アルケニ
ル基、カルバモイル基は、前記と同様な置換基を有して
もよい。

【００２０】Ｒ⁸は、水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表し、アルキル基またはアリール基は、前記と
同様な置換基を有してもよい。Ｒ⁹は、フェニレン基ま
たはナフチレン基を表す。これらのフェニレン基または
ナフチレン基も前記と同様な置換基を有してもよい。ア
ルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロプル基、ブチル基、イソブチル基、tert
−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の、炭素数１〜
６の低級アルキル基があげられる。

【００２１】アリール基としては、例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、ア
ントリル基、フェナントリル基などがあげられる。アル
ケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、２−ブ
テニル基、３−ブテニル基、１−メチルアリル基、２−
ペンテニル基、２−ヘキセニル基等の、炭素数２〜６の
低級アルケニル基があげられる。

【００２２】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子、フッ素原子があげられる。アルコキシ
基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の、アルコ
キシ部分の炭素数が１〜６の低級アルコキシ基があげら
れる。

【００２３】アルコキシカルボニル基としては、例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等
の、アルコキシ部分の炭素数が１〜６の低級アルコキシ
カルボニル基があげられる。

【００２４】アシル基としては、例えばホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル
基、バレリル基、イソバレリル基、ヘキサモイル基等が
あげられる。前記Ｒ⁶において、Ｒ⁴およびＲ⁵を有す
るベンゼン環と縮合して脂肪族環を形成するのに必要な
原子団としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基等の、炭素数１〜４のアルキレン
基があげられる。

【００２５】また、Ｒ⁶において、Ｒ⁴およびＲ⁵を有
するベンゼン環と縮合して複素環を形成するのに必要な
原子団としては、例えばベンゾフラニル基、ベンゾチオ
フェニル基、インドリル基、１Ｈ−インドリル基、ベゾ
オキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、１Ｈ−インダド
リル基、ベンゾイミダゾリル基、クロメニル基、クロマ
ニル基、イソクロマニル基、キノリニル基、イソキノリ
ニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、キナゾニリ
ル基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバ
ゾリル基、キサンテニル基、アクリジニル基、フェナン
トリジニル基、フェナジニル基、フェノキサジニル基、
チアントレニル基等があげられる。

【００２６】上記Ｒ⁴およびＲ⁵を有するベンゼン環と
Ｒ⁶との縮合により形成される芳香族性複素環基として
は、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、オキサ
ゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチ
アゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾ
リル基、テトラゾリル基、ピリジル基、チアゾリル基が
あげられる。また、芳香族環と縮合した複素環式基（例
えばベンゾフラニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾ
オキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基な
ど）であってもよい。

【００２７】上記一般式(a) 〜(g) で表わされるカップ
ラー残基Ａの具体例としては、以下のような基があげら
れる。

【００２８】

【化６】

【００２９】前記一般式(I) で表される本発明のアゾ系
化合物は、下記一般式(II)で表されるジアゾニウム塩を
中間体として経由する、種々の方法で合成することがで
きる。

【００３０】

【化７】

【００３１】［式中、Ｘは塩酸等のハロゲン化水素酸、
ホウフッ化水素酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、過塩素酸
その他の酸の陰イオンを示す］例えば、前記一般式(Ia)
で表されるビスアゾ系化合物を例に取ると、下記反応式
に示すように、一般式(1) で表されるアミン系化合物中
の、２つのアミノ基を、それぞれジアゾ化してテトラゾ
ニウム塩(IIa) とし、次いで、これを所定のカップラー
と有機溶媒中でカップリングさせることにより、容易に
製造することができる。

【００３２】

【化８】

【００３３】［式中、Ａ、Ｘは前記と同じ］ジアゾ化
は、アミン系化合物(1) の酸性水溶液を攪拌しながら、
亜硝酸ナトリウムまたは亜硝酸を低温下（通常、−１０
〜５℃）で滴下し、次いで、前記陰イオンＸの元になる
酸を加えて、結晶化したテトラゾニウム塩(IIa) を得
る。ついで、このテトラゾニウム塩(IIa) に、有機溶媒
中にて所定量のカップラー(2) を加えてカップリング反
応を行わせることにより、ビスアゾ系化合物(Ia)が得ら
れる。

【００３４】上記反応に使用される有機溶媒としては、
例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドが
あげられる。本発明の電子写真感光体においては、上記
のアゾ系化合物を、電荷発生材料として単独で用いるほ
か、従来公知の他の電荷発生材料と組み合わせて使用す
ることができる。

【００３５】他の電荷発生材料としては、例えば、アモ
ルファスシリコン、ピリリウム塩、アンサンスロン系顔
料、フタロシアニン系顔料、インジゴ系顔料、トリフェ
ニルメタン系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、
ピラゾリン系顔料、ペリレン系顔料、キナクリドン系顔
料等があげられる。これらの電荷発生材料は、所望の領
域に吸収波長域を有するように、１種または２種以上混
合して用いられる。

【００３６】本発明の構成は、いわゆる単層型及び積層
型の電子写真感光体のいずれにも適用することができ
る。単層型感光体とするには、電荷発生材料である、前
記一般式(I) で表されるアゾ系化合物と、電荷輸送材料
と、結着樹脂等とを含有する感光層を塗布等の手段によ
り導電性基材上に形成すればよい。

【００３７】また、積層型の感光体とするには、導電性
基材上に、塗布等の手段により、上記アゾ系化合物を電
荷発生材料として含有する電荷発生層を形成し、この電
荷発生層上に、電荷輸送材料と結合材樹脂とを含有する
電荷輸送層を形成すればよい。また、上記とは逆に、導
電性基材上に上記と同様の電荷輸送層を形成し、次いで
塗布等の手段により、上記アゾ系化合物を電荷発生材料
として含有する電荷発生層を形成してもよい。さらに、
電荷発生層は電荷発生材料と電荷輸送材料とを結着剤樹
脂中に分散して塗布することにより形成してもよい。

【００３８】前記電荷輸送材料としては、従来公知の材
料を用いることができ、例えば２，５−ジ（４−メチル
アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等の
オキサジアゾール系化合物、９−（４−ジエチルアミノ
スチリル）アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビ
ニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物、１−フェ
ニル−３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン
等のピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、トリフ
ェニルアミン系化合物、インドール系化合物、オキサゾ
ール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール
系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化
合物、ピラゾール系化合物、トリアゾール系化合物等の
含窒素環式化合物、縮合多環式化合物があげられる。

【００３９】これらの電荷輸送材料は、１種または２種
以上混合して用いられる。なお、ポリビニルカルバゾー
ル等の成膜性を有する電荷輸送材料を用いる場合には、
結着樹脂は必ずしも必要ではない。また、上記単層型や
積層型の感光体において使用される結着樹脂としては、
種々の樹脂を使用することができ、例えばスチレン系重
合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アク
リロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合
体、アクリル系重合体、スチレン−アクリル系共重合
体、ポリエチレン、エチレン酢酸ビニル共重合体、塩素
化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アルキ
ッド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、ポリスルホン、ジアリルフタレー
ト樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
エーテル樹脂等の熱可塑性樹脂や、シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂、さらにエポキシアク
リレート、ウレタン−アクリレート等の光硬化性樹脂等
の種々の重合体があげられる。

【００４０】これらの結着剤樹脂は１種または２種以上
混合して用いられる。また、塗布手法等により電荷発生
層および電荷輸送層を形成する場合には溶剤が使用され
る。この溶剤としては、種々の有機溶剤を使用すること
が可能であり、例えばメタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ブタノール等のアルコール類、ｎ−ヘキサ
ン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸
メチル等のエステル類、ジメチルホルムアルデヒド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の種々の
溶剤があげられる。

【００４１】これらの溶剤は１種または２種以上混合し
て用いることができる。また、上記電荷発生層の感度を
よくするために、例えば、ターフェニル、ハロナフトキ
ノン類、アセナフチレン等の公知の増感剤を上記電荷発
生材料と共に用いてもよい。さらには、電荷輸送材料や
電荷発生材料の分散性、染工性等をよくするために界面
活性剤、レベリング剤等を使用してもよい。

【００４２】上記導電性基材としては、導電性を有する
種々の材料を使用することができる。例えば、アルミニ
ウム、銅、スズ、白金、金、銀、バナジウム、モリブデ
ン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウ
ム、インジウム、ステンレス鋼、真鍮等の金属単体や、
上記金属が蒸着またはラミネートされたプラスチック材
料、ヨウ化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム等
で被覆されたガラス等があげられる。

【００４３】上記導電性基材はシート状、ドラム状のい
ずれでもよく、基材自体が導電性を有するか、あるいは
基材の表面が導電性を有していればよい。この基材とし
ては、使用に際し、十分な機械的強度を有するものが好
ましい。単層型および積層型の各有機感光層には、増感
剤、フルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤な
どの劣化防止剤、可塑剤等の添加剤を含有させることが
できる。

【００４４】単層型の感光層における電荷輸送材料の添
加量は、結着樹脂１００重量部に対して４０〜２００重
量部、好ましくは５０〜１００重量部であるのが適当で
ある。また、積層型の電荷輸送層における前記電荷輸送
材料の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して１０〜
５００重量部、好ましくは２５〜２００重量部であるの
が適当である。

【００４５】単層型の感光層における電荷発生材料の添
加量は、結着重量１００重量部に対して０．１〜５０重
量部、好ましくは０．５〜３０重量部であるのが適当で
ある。また、積層型の電荷発生層における前記電荷発生
材料の添加量は、結着樹脂１００重量部に対して５〜５
００重量部、好ましくは１０〜３００重量部であるのが
適当である。

【００４６】形成される感光層の厚さは、単層型の場合
で５〜１００μm 程度、なかんづく１５〜２５μｍ程度
であるのが好ましい。一方、積層型の場合は、電荷発生
層の厚さが０．０１〜５μｍ程度、好ましくは０．１〜
３μｍ程度、電荷輸送層の厚さが２〜１００μｍ程度、
なかんづく５〜５０μｍ程度であるのが好ましい。ま
た、単層型電子写真用感光体にあっては、上記基材と感
光層との間に、また、積層型電子写真用感光体にあって
は、上記基材と電荷発生層との間や基材と電荷輸送層と
の間及び電荷発生層と電荷輸送層との間に、感光体の特
性を阻害しない範囲でバリア層が形成されていてもよ
く、感光体の表面には、保護層が形成されていてもよ
い。

【００４７】上記電荷発生層及び電荷輸送層を、塗布の
方法により形成する場合には、電荷発生材料等と結着樹
脂などを公知の方法、例えば、ロールミル、ボールミ
ル、アトライタ、ペイントシェーカーあるいは超音波分
散器等を用いて分散混合して調製し、これを公知の手段
により塗布、乾燥すればよい。なお上述のように、電荷
発生層は上記電荷発生材料を蒸着することにより形成し
てもよい。

【００４８】

【実施例】以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。実施例１電荷発生材料として、下記一般式(IV)で表されるビスア
ゾ系化合物を使用して、以下の手順で、単層型および積
層型の感光体を作製した。

【００４９】

【化９】

【００５０】（単層型感光体の作製）電荷発生材料とし
てのビスアゾ系化合物８重量と、電荷輸送材料としての
３，３′−ジメチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス
−４−メチルフェニル−（１，１′−ビフェニル）−
４，４′−ジアミン１００重量部と、結着樹脂としての
ポリエステル樹脂１００重量部とを、所定量のテトラヒ
ドロフランとともに、ボールミルを用いて混合分散し、
単層型感光層用塗布液を調製した。

【００５１】この塗布液を、直径８０mm×長さ３５０mm
のアルミニウム素管の表面に、浸漬法によって塗布した
後、暗所において、１００℃で３０分間加熱乾燥させ
て、膜厚２４μｍの単層型感光層を有する、ドラム型の
正帯電型電子写真感光体を作製した。（積層型感光体の作製）結着樹脂としてのポリビニルブ
チラール１００重量部と、電荷発生材料としてのビスア
ゾ系化合物１００重量部と、所定量のテトラヒドロフラ
ンとをボールミルに仕込み、２４時間攪拌混合して、電
荷発生層用塗布液を調製した。

【００５２】この塗布液を、直径８０mm×長さ３５０mm
のアルミニウム素管の表面に、浸漬法によって塗布した
後、暗所において、１１０℃で３０分間熱風乾燥して硬
化させて、膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。つ
ぎに、結着樹脂としてのポリカーボネート１００重量部
と、電荷輸送材料としての３，３′−ジメチル−Ｎ，
Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス−４−メチルフェニル−
（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジアミン１００
重量部と、所定量のトルエンとをホモミキサで攪拌混合
して、電荷輸送層用塗布液を調製した。

【００５３】この塗布液を、先に素管の表面に形成した
電荷発生層上に、浸漬法によって塗布し、９０℃で３０
分間熱風乾燥することにより、膜厚約２０μｍの電荷輸
送層を形成し、積層型感光層を有する、ドラム型の負帯
電型電子写真感光体を作製した。実施例２〜７電荷発生材料として、前記一般式(Ia)中のＡが、前記式
(A2)〜(A7)で表されるカップラー残基であるビスアゾ系
化合物を使用したこと以外は、上記実施例１と同様にし
て、単層型および積層型の感光体を作製した。

【００５４】比較例１〜３下記式(i) 〜(iii) で表されるビスアゾ系化合物を使用
したこと以外は、上記実施例１と同様にして、単層型お
よび積層型の感光体を作製した。比較例１：

【００５５】

【化１０】

【００５６】比較例２：

【００５７】

【化１１】

【００５８】比較例３：

【００５９】

【化１２】

【００６０】上記各実施例、比較例の電子写真感光体に
ついて、以下の試験を行い、その特性を評価した。初期表面電位の測定各電子写真感光体を、静電式複写試験装置（ジェンテッ
ク社製の商品名ジェンテックシンシア３０Ｍ）に装填
し、その表面を正または負に帯電させて、初期表面電位
Ｖs.p.（Ｖ）を測定した。

【００６１】半減露光量および残留電位の測定上記初期表面電位の測定で帯電状態となった電子写真感
光体を、静電式複写試験装置の露光光源であるハロゲン
ランプを用いて、露光強度１０lux の条件で露光して、
その表面電位が１／２となるまでの時間を求め、半減露
光量Ｅ1/2 （lux ・sec ）を算出した。

【００６２】また、上記露光開始後、０．１５秒を経過
した時点の表面電位を測定し、残留電位Ｖ１r.p.（Ｖ）
とした。光安定性の測定上記電子写真感光体を、静電式複写機（三田工業社製の
型番ＤＣ−１１１）に装填して１０００枚の連続複写を
行った後、上記と同様にして、繰り返し露光後の残留電
位Ｖ２r.p.（Ｖ）を測定した。そして、前記残留電位Ｖ
１r.p.とＶ２r.p.との差ΔＶr.p.（Ｖ）を求めた。

【００６３】以上の結果を表１に示す。

【００６４】

【表１】

【００６５】上記表１の結果より、本発明の構成である
実施例１〜７の電子写真感光体は、単層型、積層型何れ
のものも、比較例１に比べて初期表面電位Ｖs.p.が高
く、比較例１〜３に比べて残留電位Ｖ１r.p.が低く、か
つ、比較例１〜３に比べて半減露光量Ｅ1/2 が小さいこ
とから、感度特性に優れたものであることが判った。ま
た、上記実施例１〜７は、比較例１〜３に比べてΔＶr.
p.が小さいことから、何れも、耐久性に優れたものであ
ることが判った。

【００６６】

【発明の効果】以上のように、本発明の電子写真感光体
は、高い感度と光安定性を有する特定のアゾ系化合物を
含有する感光層を備えているので、高い感度を有し、か
つ耐久性に優れたものとなっている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渡辺洋一郎大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号三田工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性基材上に、下記一般式(I) で表され
るアゾ系化合物を含む感光層を設けたこと特徴とする感
光体。【化１】［式中、Ａはカップラー残基を示す］