JPH0444317A - ウェーハ処理装置の電極装置 - Google Patents
ウェーハ処理装置の電極装置Info
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- JPH0444317A JPH0444317A JP15237990A JP15237990A JPH0444317A JP H0444317 A JPH0444317 A JP H0444317A JP 15237990 A JP15237990 A JP 15237990A JP 15237990 A JP15237990 A JP 15237990A JP H0444317 A JPH0444317 A JP H0444317A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野7
本発明は、半導体素子の材料であるウェーハを処理する
処理装置に用いられる電極装置、特にウェーハチャック
を兼ねる電極装置に関するものである。
処理装置に用いられる電極装置、特にウェーハチャック
を兼ねる電極装置に関するものである。
[従来の技術]
ウェーハは、半導体素子製造の過程でドライエツチング
、CVD(化学蒸着)等の処理を受ける、これらの処理
はウェーハが処理室内に装入され密閉された状態で行わ
れ、処理が完了すると処理室内より取出され、次工程へ
と回される。
、CVD(化学蒸着)等の処理を受ける、これらの処理
はウェーハが処理室内に装入され密閉された状態で行わ
れ、処理が完了すると処理室内より取出され、次工程へ
と回される。
第2図はドライエツチング装置に於ける従来の電極装置
を示し、図中1は、チャックの一部をなす電極であり、
該電iiに対し図示しないもう一方の電極が相対向して
設けられている。
を示し、図中1は、チャックの一部をなす電極であり、
該電iiに対し図示しないもう一方の電極が相対向して
設けられている。
特に、図示していないが、両tS間には高周波電源によ
って、高周波電圧が印加され、両電極間にはエツチング
処理の為のプラズマが発生される。
って、高周波電圧が印加され、両電極間にはエツチング
処理の為のプラズマが発生される。
而して、該プラズマによって前記電極1上にチャックさ
れたウェーハ2がエツチング処理される。
れたウェーハ2がエツチング処理される。
円形の電極1及び冷却盤3は金属であり、電極1、冷却
盤3は絶縁板4を介して基盤5に取付けられ、該基盤5
は真空容器6の底部に該底部に設けた孔7を気密に閉寒
する様に取付けられている。
盤3は絶縁板4を介して基盤5に取付けられ、該基盤5
は真空容器6の底部に該底部に設けた孔7を気密に閉寒
する様に取付けられている。
前記電極1、冷却盤3、絶縁板4の周囲及び該電極1の
ウェーハ2載置面を残して石英材からなるカバー8.9
で覆い、又真空容器6内部は石英材の仕切板10によっ
て上下に仕切られている。
ウェーハ2載置面を残して石英材からなるカバー8.9
で覆い、又真空容器6内部は石英材の仕切板10によっ
て上下に仕切られている。
前記冷却盤3には前記絶縁板3、基盤5を貫通して下方
に延出する中空軸部11が形成されており、該中空軸部
11にリフトロッド12が遊貫されている。該リフトロ
ッド12は前記電極1を貫通して上端面にウェーハ2が
乗載可能であると共にスゲリング13により下方へ付勢
されている。
に延出する中空軸部11が形成されており、該中空軸部
11にリフトロッド12が遊貫されている。該リフトロ
ッド12は前記電極1を貫通して上端面にウェーハ2が
乗載可能であると共にスゲリング13により下方へ付勢
されている。
前記中空軸部11は絶縁ブツシュ14で絶縁され、該中
空軸部11の下端には、ベローズジヨイント15が気密
に取付けられ、該ベローズジヨイント15の下フランジ
16はリフトシリンダ17のロッド18に連結され、又
ベローズジヨイント15の下フランジ16より上方に突
設したブツシュロッド19が前記リフトロッド12の下
端に当接している。
空軸部11の下端には、ベローズジヨイント15が気密
に取付けられ、該ベローズジヨイント15の下フランジ
16はリフトシリンダ17のロッド18に連結され、又
ベローズジヨイント15の下フランジ16より上方に突
設したブツシュロッド19が前記リフトロッド12の下
端に当接している。
該リフトロッド12を挾み、対称な位置にはプルロッド
20.20が前記電極1、冷却盤3、絶縁板4、基!1
5を遊貫して設けられ、該プルロッド20.20の下部
はベローズカバー21.21によって気密に覆われ、該
ベローズカバー21の下フランジ22はチャックシリン
ダ23に連結されている。
20.20が前記電極1、冷却盤3、絶縁板4、基!1
5を遊貫して設けられ、該プルロッド20.20の下部
はベローズカバー21.21によって気密に覆われ、該
ベローズカバー21の下フランジ22はチャックシリン
ダ23に連結されている。
又、該下フランジ22と前記プルロッド20の下端との
間にはスプリング24が設けられ、プルロッド19の下
端を前記チャックシリンダ23のロッド25の上端に当
接する機付勢されている。
間にはスプリング24が設けられ、プルロッド19の下
端を前記チャックシリンダ23のロッド25の上端に当
接する機付勢されている。
前記プルロッド20の上端には、ウェーハクランプ用の
爪26が固着されている。
爪26が固着されている。
前記チャックシリンダ23は、前記リフトシリンダ17
より大きなストロークを有し、該チャックシリンダ13
、リフトシリンダ17を共に動作させた状態では爪26
はリフトロッド12の上端面の位置よりも上方に位置す
る。
より大きなストロークを有し、該チャックシリンダ13
、リフトシリンダ17を共に動作させた状態では爪26
はリフトロッド12の上端面の位置よりも上方に位置す
る。
この状態で、図示しないウェーハ移載装置がウェーハ2
をリフトロッド12に乗置し、リフトシリンダ17によ
りリフトロッド12が降下され、ウェーハ2がiS極1
に載置される9次にチャックシリンダ23が動作して前
記風26でウェーハ2を電極1に押付けつつチャックす
る。
をリフトロッド12に乗置し、リフトシリンダ17によ
りリフトロッド12が降下され、ウェーハ2がiS極1
に載置される9次にチャックシリンダ23が動作して前
記風26でウェーハ2を電極1に押付けつつチャックす
る。
ウェーハ2を取出す場合は、上記チャック動作の逆を行
う。
う。
ウェーハ2の処理に於いて、ウェーハ2の温度管理は処
理の均一性、品質に大きく影響する。
理の均一性、品質に大きく影響する。
従って、ウェーハ2は処理の種類に応じ、冷却又は加熱
して温度制御がされる様になっている。
して温度制御がされる様になっている。
上述した従来の電極装置はウェーハの冷却を行う様にな
っているが、ウェーハの温度制御は電[!1とウェーハ
2間の熱伝達率に影響され、この熱伝達率は又電極1と
ウェーハ2間の密着性に影響される。
っているが、ウェーハの温度制御は電[!1とウェーハ
2間の熱伝達率に影響され、この熱伝達率は又電極1と
ウェーハ2間の密着性に影響される。
ところが、電極表面、ウェーハ表面の平坦度、機械的ク
ランプによる撓み等で、電極とウェーハの完全な密着を
得ることは困敷である。従って、熱伝導度の高いヘリウ
ムガス(He)を電極とウェーハとの間隙に流して、両
者間の熱伝達率を改善している。
ランプによる撓み等で、電極とウェーハの完全な密着を
得ることは困敷である。従って、熱伝導度の高いヘリウ
ムガス(He)を電極とウェーハとの間隙に流して、両
者間の熱伝達率を改善している。
[発明が解決しようとする課題]
ところが従来のウェーハチャックを兼する電極装置では
、ウェーハを2点でクランプする構造である為ウェーハ
を!極に全面で密着させるということが難しく、電極、
ウェーハの密着性が悪く、又密着性が悪い為、Heの漏
出量が多く、Heの消費量が大きいと共に処理室内の雰
囲気を漏出したHeにより汚染するということがある。
、ウェーハを2点でクランプする構造である為ウェーハ
を!極に全面で密着させるということが難しく、電極、
ウェーハの密着性が悪く、又密着性が悪い為、Heの漏
出量が多く、Heの消費量が大きいと共に処理室内の雰
囲気を漏出したHeにより汚染するということがある。
又、ウェーハの昇降、クランプはそれぞれ個別のシリン
ダを用いている為、複数のシリンダが必要となると共に
これらシリンダを駆動させる為の配管等が複雑となり、
大きなスペースが必要で且高価なものとなる。
ダを用いている為、複数のシリンダが必要となると共に
これらシリンダを駆動させる為の配管等が複雑となり、
大きなスペースが必要で且高価なものとなる。
本発明は、斯かる実情に鑑み、構造が簡潔で而もウェー
ハと電極との密着性に優れた電極装置を提供しようとす
るものである。
ハと電極との密着性に優れた電極装置を提供しようとす
るものである。
[課題を解決する為の手段]
本発明は、相対峙する一対のプラズマ発生用電極を有し
、その一方が温度制御され、ウェーハチャックを兼ねる
電極装置に於いて、ウェーハチャック側t’lLの反対
峙面側にシャフトを電極の対峙面に対して垂直方向に摺
動自在に設け、該シャフトに少なくとも3股の分岐腕を
有するアームを取付け、各分岐腕の先端に前記ウェーハ
チャック側電極の対峙面よりも突出する支持ロッドを設
け、該支持ロッドの先端にウェーハ周縁と係合するウェ
ーハクランプリングを取付け、前記シャフトを摺動させ
るアクチュエータを設けた、又該アームをシャフトに対
して傾動可能としたものであり、更にアームにウェーハ
チャック用を極を貫通するウェーハ支持ピンを設け、該
ウェーハ支持ピン先端にウェーハを支持可能とし、又ウ
ェーハ支持ピンの摺動部にOリングを設けると共にウェ
ーハ支持ピンのアーム側所要長さを細径としたものであ
る。
、その一方が温度制御され、ウェーハチャックを兼ねる
電極装置に於いて、ウェーハチャック側t’lLの反対
峙面側にシャフトを電極の対峙面に対して垂直方向に摺
動自在に設け、該シャフトに少なくとも3股の分岐腕を
有するアームを取付け、各分岐腕の先端に前記ウェーハ
チャック側電極の対峙面よりも突出する支持ロッドを設
け、該支持ロッドの先端にウェーハ周縁と係合するウェ
ーハクランプリングを取付け、前記シャフトを摺動させ
るアクチュエータを設けた、又該アームをシャフトに対
して傾動可能としたものであり、更にアームにウェーハ
チャック用を極を貫通するウェーハ支持ピンを設け、該
ウェーハ支持ピン先端にウェーハを支持可能とし、又ウ
ェーハ支持ピンの摺動部にOリングを設けると共にウェ
ーハ支持ピンのアーム側所要長さを細径としたものであ
る。
[作 用]
アクチュエータによりシャフトをウェーハチャック用電
極側に摺動させれば、ウェーハのクランプ解除となり、
シャフトを反つェーハチャック用tf!側に摺動させれ
ば、ウェーハクラングリングによりウェーハを全周に於
いてクランプする。該ウェーハクランプリングを傾動可
能とすることで、該ウェーハクランプリングはつ工−ハ
の面に倣いウェーハの全周を均一にクランプする。
極側に摺動させれば、ウェーハのクランプ解除となり、
シャフトを反つェーハチャック用tf!側に摺動させれ
ば、ウェーハクラングリングによりウェーハを全周に於
いてクランプする。該ウェーハクランプリングを傾動可
能とすることで、該ウェーハクランプリングはつ工−ハ
の面に倣いウェーハの全周を均一にクランプする。
又、アームに設けなウェーハ支持ピンによりウェーハの
クランプ、クランプ解除動作で、ウェーハを電極より持
上げることができウェーハの移載を可能とする。更にウ
ェーハ支持ピンの細径部により、0リングに対する摺動
長を短くでき、0リングの寿命を長くする。
クランプ、クランプ解除動作で、ウェーハを電極より持
上げることができウェーハの移載を可能とする。更にウ
ェーハ支持ピンの細径部により、0リングに対する摺動
長を短くでき、0リングの寿命を長くする。
[実 施 例]
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を説明する。
真空容器30の底部を下方に突出させて、電極収納部3
1を形成し、該収納部31の底面を貫通させ、ベースブ
ロック32を気密に固着する。該ベースブロック32に
絶縁板33を取付け、該絶縁板33に冷却盤34、$極
35を順次埋設する。該電極35のウェーハ載置面を除
く周囲に石英製の保護リング36を固着する。又、該保
護リング36の周囲には、同心の保護カバー37を設け
る。
1を形成し、該収納部31の底面を貫通させ、ベースブ
ロック32を気密に固着する。該ベースブロック32に
絶縁板33を取付け、該絶縁板33に冷却盤34、$極
35を順次埋設する。該電極35のウェーハ載置面を除
く周囲に石英製の保護リング36を固着する。又、該保
護リング36の周囲には、同心の保護カバー37を設け
る。
前記冷却盤34には冷却水路38が形成され、図示しな
い冷却水源と連通している。
い冷却水源と連通している。
前記ベースブロック32には3股状の空間部39が形成
してあり、該空間部39には3股状のリフトアーム40
を配設する。
してあり、該空間部39には3股状のリフトアーム40
を配設する。
又、前記ベースブロック32の下面に軸受ハウジング4
1を固着する。該軸受ハウジング41は上半部が大径、
下半部が細径の中空体であり、下〒部には摺動軸受42
を介して昇降シャフト43を嵌合し、上半部にはベロー
ズ44を設けて昇降シャフト43を気密に覆う、該昇降
シャフト43の上端部にフランジ45を固着し、昇降シ
ャフト43の上端は該フランジ45より突出させる。該
昇降シャフト43の上端と前記リフトアーム40とを球
面軸受46を介して連結する。
1を固着する。該軸受ハウジング41は上半部が大径、
下半部が細径の中空体であり、下〒部には摺動軸受42
を介して昇降シャフト43を嵌合し、上半部にはベロー
ズ44を設けて昇降シャフト43を気密に覆う、該昇降
シャフト43の上端部にフランジ45を固着し、昇降シ
ャフト43の上端は該フランジ45より突出させる。該
昇降シャフト43の上端と前記リフトアーム40とを球
面軸受46を介して連結する。
前記フランジ45と前記リフトアーム40との間には若
干の間隙を設けると共に、フランジ45、リフトアーム
40との間に0リング47を挟設する。
干の間隙を設けると共に、フランジ45、リフトアーム
40との間に0リング47を挟設する。
而して、リフトアーム40は前記昇降シャフト43に対
して、傾動可能であると共にOリング41の弾力性によ
り復元可能に支持される。
して、傾動可能であると共にOリング41の弾力性によ
り復元可能に支持される。
前記リフトアーム40の3本の分岐腕48の先端に絶縁
スリーブ49を被せた支持ロッド50を植設する。該支
持ロッド50にサポートリング51を固着し、該サポー
トリング51にウェーハ2の周縁と係合する石英製のウ
ェーハクランプリング52を固着する。該ウェーハクラ
ン1リング52に石英製のカバーリング53を取付け、
前記サポートリング51の露出部を覆う。
スリーブ49を被せた支持ロッド50を植設する。該支
持ロッド50にサポートリング51を固着し、該サポー
トリング51にウェーハ2の周縁と係合する石英製のウ
ェーハクランプリング52を固着する。該ウェーハクラ
ン1リング52に石英製のカバーリング53を取付け、
前記サポートリング51の露出部を覆う。
前記絶縁板33、冷却盤34、電極35を貫通させ絶縁
ブツシュ54を3箇所に設ける。前記リフトアーム40
の各分岐腕48の基部にウェーハ支持ピン55を植設し
、該ウェーハ支持ピン55を前記絶縁ブツシュ54に摺
動自在に嵌合する。該ウェーハ支持ピン55と該絶縁ブ
ツシュ54との間にはOリング56を設ける。
ブツシュ54を3箇所に設ける。前記リフトアーム40
の各分岐腕48の基部にウェーハ支持ピン55を植設し
、該ウェーハ支持ピン55を前記絶縁ブツシュ54に摺
動自在に嵌合する。該ウェーハ支持ピン55と該絶縁ブ
ツシュ54との間にはOリング56を設ける。
該ウェーハ支持ピン55の上端は、前記ウェーハクラン
プリング52のウェーハ押え面より下方に所要距離下が
った位置とし、又該ウェーハ支持ピン55の下牛部は#
l径としている。
プリング52のウェーハ押え面より下方に所要距離下が
った位置とし、又該ウェーハ支持ピン55の下牛部は#
l径としている。
前記軸受ハウジング41の外周面にストップリング57
を固着し、前記昇降シャフト43の下端にバネ座58を
固着する。
を固着し、前記昇降シャフト43の下端にバネ座58を
固着する。
該バネ座58と前記ストップリング57との間にクラン
プスプリング59を圧縮状態で挟設し、前記昇降シャフ
ト43を下方へ付勢する。
プスプリング59を圧縮状態で挟設し、前記昇降シャフ
ト43を下方へ付勢する。
又、該昇降シャフト43の下方にはクランプシリンダ6
0を設け、該クランプシリンダ60のロッド61先端と
前記昇降シャフト43との下端とは、クランプシリンダ
60の縮短状態で僅に隙間が明くようにする。
0を設け、該クランプシリンダ60のロッド61先端と
前記昇降シャフト43との下端とは、クランプシリンダ
60の縮短状態で僅に隙間が明くようにする。
以下、作動を説明する。
第1図は、ウェーハ2のクランプ状態を示しており、ウ
ェーハ2の全周縁は前記ウェーハクランプリング60に
より電極35に押圧されている。
ェーハ2の全周縁は前記ウェーハクランプリング60に
より電極35に押圧されている。
又、この押圧力は前記クランプスプリング59の復元力
により決定され、更に該復元力は前記ストップリング5
7とバネg58との距離を調整し、最適な値に選択する
。
により決定され、更に該復元力は前記ストップリング5
7とバネg58との距離を調整し、最適な値に選択する
。
従って、ウェーハ2のクランプに際し、過度の押圧力が
作用し、ウェーハ2を破損することはない、又、前記し
た様に、リフトアーム4oは、昇降シャフト43に対し
て傾動可能であるので、クランプリング60はウェーハ
2に倣い、ウェーハ2の周縁を均一にクランプする。
作用し、ウェーハ2を破損することはない、又、前記し
た様に、リフトアーム4oは、昇降シャフト43に対し
て傾動可能であるので、クランプリング60はウェーハ
2に倣い、ウェーハ2の周縁を均一にクランプする。
ウェーハ周縁を均一にクランプすることで、ウェーハ2
は電4ii35に全面に亘り、密着さぜることができ、
又ウェーハ2と電[!35との間に流すHeは最小限で
すみ、Heの漏出量も著しく少ない。
は電4ii35に全面に亘り、密着さぜることができ、
又ウェーハ2と電[!35との間に流すHeは最小限で
すみ、Heの漏出量も著しく少ない。
次に、クラン1シリンダ60を作動させ、ロッド61を
上昇させると、昇降シャフト43はクランプスプリング
59に抗して持上げられ、支持ロッド50を介してウェ
ーハクラングリング59が上昇する。最初にウェーハ2
のクランプが解除され、更にリフトアーム40が上昇す
ると前記ウェーハ支持ピン55がウェーハ2に当接して
ウェーハ2を持上げる。
上昇させると、昇降シャフト43はクランプスプリング
59に抗して持上げられ、支持ロッド50を介してウェ
ーハクラングリング59が上昇する。最初にウェーハ2
のクランプが解除され、更にリフトアーム40が上昇す
ると前記ウェーハ支持ピン55がウェーハ2に当接して
ウェーハ2を持上げる。
クランプシリンダ60のストロークエンドの状態ではウ
ェーハ2は電極35より突出した3本のウェーハ支持ピ
ン55に支持され、且ウェーハクラン1リング52はウ
ェーハ2の上昇に位置した状態となっている。又、ウェ
ーハ支持ピン55の太径部はOリング56より脱した状
態である。
ェーハ2は電極35より突出した3本のウェーハ支持ピ
ン55に支持され、且ウェーハクラン1リング52はウ
ェーハ2の上昇に位置した状態となっている。又、ウェ
ーハ支持ピン55の太径部はOリング56より脱した状
態である。
而して、図示しないウェーハ移載装置により、ウェーハ
2を搬出する。
2を搬出する。
ウェーハ2を真空容器30内に搬入する場合は、クラン
プシリンダ60をストロークエンド迄突出させておき、
ウェーハ2を移載する。その後のクランプ動作はクラン
プシリンダ60を短縮すればよい。
プシリンダ60をストロークエンド迄突出させておき、
ウェーハ2を移載する。その後のクランプ動作はクラン
プシリンダ60を短縮すればよい。
尚、前記実施例ではリフトアーム40と昇降シャフト4
3との間に0リング47を設けたが、0リングの代りに
皿バネ、波リング、或は少なくとも3箇所に圧縮スプリ
ングを設けてもよい、或は、昇降シャフト43を更に延
出させ、絶縁板33、冷却盤34、電極1を貫通させ、
昇降シャフト43の上端にフランジを設け、該フランジ
にウェーハを載置する様にしてもよい。
3との間に0リング47を設けたが、0リングの代りに
皿バネ、波リング、或は少なくとも3箇所に圧縮スプリ
ングを設けてもよい、或は、昇降シャフト43を更に延
出させ、絶縁板33、冷却盤34、電極1を貫通させ、
昇降シャフト43の上端にフランジを設け、該フランジ
にウェーハを載置する様にしてもよい。
又、リフトアーム40は4股形状としてもよい。
[発明の効果]
以上述べた如く本発明によれば、下記の優れた効果を発
揮する。
揮する。
(1)ウェーハを全周に於いてクランプするので、ウェ
ーハはウェーハチャック用の電極に全面で密着し、電極
を介して行われるウェーハの温度制御を効果的にするこ
とができる。
ーハはウェーハチャック用の電極に全面で密着し、電極
を介して行われるウェーハの温度制御を効果的にするこ
とができる。
(11)又、ウェーハ、ウェーハチャック用の電極間の
熱伝達をする為にHeをウェーハとウェーハチャック用
電極との間に流す場合は、Heの漏出量を著しく低減す
ることができる。
熱伝達をする為にHeをウェーハとウェーハチャック用
電極との間に流す場合は、Heの漏出量を著しく低減す
ることができる。
■ アームをシャフトに対して傾動自在とすることでウ
ェーハとウェーハクランプリングとの平行度の狂いを修
正することができる。
ェーハとウェーハクランプリングとの平行度の狂いを修
正することができる。
Ov) アームにウェーハ支持用のウェーハ支持ピン
を設けることで、1つのアクチュエータでウェーハのク
ランプ、ウェーハの移載を行う為のウェーハの持上げを
行うことができ、構造を大幅に簡略化することができる
。
を設けることで、1つのアクチュエータでウェーハのク
ランプ、ウェーハの移載を行う為のウェーハの持上げを
行うことができ、構造を大幅に簡略化することができる
。
(V) ウェーハ支持ピンの1部の径を細径とし、シ
ールに必要な部分のみを太径としであるので、0リング
に対する支持ピンの摺動長を短くすることができ、0リ
ングの摩耗を低減する。
ールに必要な部分のみを太径としであるので、0リング
に対する支持ピンの摺動長を短くすることができ、0リ
ングの摩耗を低減する。
第1図は本発明の一実總例を示す断面図、第2図は従来
例の断面図である。 35は電極、40はリフトアーム、43は昇降シャフト
、46は球面軸受、47は0リング、48は分岐腕、5
2はウェーハクランプリング、55はウェーハ支持ピン
、56はOリング、60はクランプシリンダを示す。
例の断面図である。 35は電極、40はリフトアーム、43は昇降シャフト
、46は球面軸受、47は0リング、48は分岐腕、5
2はウェーハクランプリング、55はウェーハ支持ピン
、56はOリング、60はクランプシリンダを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)相対峙する一対のプラズマ発生用電極を有し、その
一方が温度制御され、ウェーハチャックを兼ねる電極装
置に於いて、ウェーハチャック側電極の反対峙面側にシ
ャフトを電極の対峙面に対して垂直方向に摺動自在に設
け、該シャフトに少なくとも3股の分岐腕を有するアー
ムを取付け、各分岐腕の先端に前記ウェーハチャック側
電極の対峙面よりも突出する支持ロッドを設け、該支持
ロッドの先端にウェーハ周縁と係合するウェーハクラン
プリングを取付け、前記シャフトを摺動させるアクチュ
エータを設けたことを特徴とするウェーハ処理装置の電
極装置。 2)アームをシャフトに対して傾動可能とした請求項第
1項記載のウェーハ処理装置の電極装置。 3)アームとシャフトとの間にアーム復元用の弾性材を
設けた請求項第2項記載のウェーハ処理装置の電極装置
。 4)アームにウェーハチャック用電極を貫通するウェー
ハ支持ピンを設け、該ウェーハ支持ピン先端にウェーハ
を支持可能とした請求項第1項記載のウェーハ処理装置
の電極装置。 5)ウェーハ支持ピンの摺動部にOリングを設けると共
にウェーハ支持ピンのアーム側所要長さを細径とした請
求項第4項記載のウェーハ処理装置の電極装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15237990A JPH0444317A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | ウェーハ処理装置の電極装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15237990A JPH0444317A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | ウェーハ処理装置の電極装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0444317A true JPH0444317A (ja) | 1992-02-14 |
Family
ID=15539241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15237990A Pending JPH0444317A (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | ウェーハ処理装置の電極装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0444317A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06267902A (ja) * | 1993-02-06 | 1994-09-22 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | イーシーアール装置 |
JP2001262375A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-09-26 | Shibaura Mechatronics Corp | ドライエッチング装置 |
KR100656727B1 (ko) * | 1999-02-22 | 2006-12-15 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 조합 클램프 링 |
CN103367215A (zh) * | 2013-06-08 | 2013-10-23 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 |
-
1990
- 1990-06-11 JP JP15237990A patent/JPH0444317A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06267902A (ja) * | 1993-02-06 | 1994-09-22 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | イーシーアール装置 |
KR100656727B1 (ko) * | 1999-02-22 | 2006-12-15 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 조합 클램프 링 |
JP2001262375A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-09-26 | Shibaura Mechatronics Corp | ドライエッチング装置 |
CN103367215A (zh) * | 2013-06-08 | 2013-10-23 | 天通吉成机器技术有限公司 | 一种等离子刻蚀设备的基片定位升降装置 |
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