JPH0442103A - 光導波路装置 - Google Patents

光導波路装置

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JPH0442103A
JPH0442103A JP14854890A JP14854890A JPH0442103A JP H0442103 A JPH0442103 A JP H0442103A JP 14854890 A JP14854890 A JP 14854890A JP 14854890 A JP14854890 A JP 14854890A JP H0442103 A JPH0442103 A JP H0442103A
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JP
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optical waveguide
thin film
heaters
optical
heater
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JP14854890A
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English (en)
Inventor
Masao Kawachi
河内 正夫
Yasuyuki Inoue
靖之 井上
Akio Sugita
彰夫 杉田
Katsuhide Onose
小野瀬 勝秀
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、単一モード光導波路に関し、より詳細には光
導波路の光路長を調節することのできる光導波路装置に
関するものである。
[従来の技術1 従来、平面基板上に製作される単一モード光導波路、特
にシリコン基板上に作製可能な石英系ガラス単一モード
光導波路は、そのコア部の断面寸法を通常使用されてい
る単一モード光ファイバに合わせて5〜10μm程度に
設定することができるため、光ファイバとの整合性に優
れた実用的な導波路型光部品の実現手段として期待され
てい王 る(例えば、湾内〆夫: “石英系光導波路と集積光部
品への応用”、光学、18 (1989)681−68
6.  を参照)。
とりわけ、・石英系ガラス単一モード光導波路により構
成される導波路型光干渉計は、単一モード光ファイバ通
信用や光センサ用の重要な光部品、例えば、導波型光分
波器、光スイフチ等として期待されている。
導波型光干渉計の分野においては。伝播光の位相を調節
する機能を光導波路に具備させることが必要である。
第7図に、従来の位相調節部を有する石英系ガラス導波
路の概略構成例を示す。第7図(a)は上述の光導波路
の平面図であり、第7図(b)は第7図(a)のA−A
’線に沿った拡大断面図である。ここで、符号lはシリ
コン基板、2は石英系ガラスからなるコア部、3はコア
部2を埋め込むとともにコア部2を取り囲む石英系ガラ
スからなるクラッド層、4はコア部2のクラッド層3の
上面に形成された位相調節器としての薄膜ヒータ、5a
と5bは薄膜ヒータ4へ給電するための電気配線バンド
部である(パッド部への電気配線ワイヤは図示省略)。
以上のような構成において、薄膜ヒータ4に通電し、ク
ラッド層3を介してコア部2を加熱すると、いわゆる熱
光学効果(Thermo−opticeffect)に
より、コア部2の屈折率が増加し、薄膜ヒータ4下部の
実効的な屈折率が変化し、伝播光の位相を変化させるこ
とができる。石英系ガラスの屈折率の温度係数dn/d
Tは10” (1/’C)程度であるから、5mmの長
さにわたって光導波路の温度を15℃上昇させると、光
路長を0.75μm程度変化させることができ、これは
、例えば、波長1.5μmの伝播光に対しては、2分の
1波長、すなわち、4ラジアンの位相シフトに相当する
上述した熱光学効果を利用した位相調節部は、顕著な電
気光学効果を有しないガラス光導波路の位相調節手段と
して有効である。
[発明が解決しようとする課題1 しかし、上記の位相調節部には実用上、次のような問題
点があった。
薄膜ヒータ4の一部に傷等の欠陥があると、欠陥部の電
気抵抗が増加し、欠陥部で消費される電力が増加し、欠
陥部の温度上昇が周辺部に比べて著しくなり、この温度
上昇により益々欠陥が拡大され、遂には薄膜ヒータ4の
断線に至るという問題点があった。
上述の薄膜ヒータの欠陥は、製造工程において、薄膜ヒ
ータ膜厚が一部分で薄くなる、塵等が紛れ込み、ヒータ
輻が一部分で細くなる、あるいは製造後の取扱時に、ヒ
ータ表面に傷が付く、等の原因に起因すると推察される
が、これらの欠陥を零にすることは難しく、上記位相調
節部を用いた導波型光干渉計の長期信頼性保証や製造歩
留り向上への障害となっていた。
そこで、本発明の目的は、上述のような問題点を解消し
、信頼性の優れた加熱ヒータを具えた光導波路装置を提
供することにある。
[課題を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明では、光導波
路の光路長を微調節するための加熱体を、前記光導波路
に沿って配列された複数個の微小ヒータと、これら複数
個の微小ヒータを電気的に並列に結線して給電する給電
リードがら構成することを特徴とする。
[作用1 複数個の微小ヒータが並列接続された加熱体は、仮に一
部の微小ヒータに欠陥が発生して、その微小ヒータが断
線するに至っても、残りの微小ヒータ群への供給電力を
僅かに増加させれば、熱光学効果位相調節部全体として
の機能を続行させることができ、光導波路装置の信頼性
を大幅に向上させることができる。光導波路装置の製造
歩留りも向上する。
熱光学効果位相調節部では、ヒータ下部の光導波路コア
部に沿った光路長の積分値が重要であり、各ヒータの絶
対温度そのものはそれほど重要でない。本発明では、こ
の事実を巧みに利用して上記の機能続行ができるように
したものである。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
(実施例1) 第1図に、本発明の一実施例の構成を示す。
第1図(a)はその平面図であり、第1図(b)のB−
B’線に沿った拡大断面図である。本実施例では、第7
図に示した従来例の光導波路とは異なり、位相を調節す
る加熱体としても薄膜ヒータは、微小薄膜ヒータlla
、llb、llcおよびlidに分割(ここでは4分割
)され、給電リード12aおよび12bにより電気的に
並列に連結され、一体化されている。
このような構成の光導波路の構造の諸元は種々に定める
ことができるが、ここでは、以下の通りに定めた。すな
わち、シリコン基板lの厚さは0.7mm、クラッド層
3の厚さは50μm1コア部2の断面寸法は8μmX8
μm、コア部とクラッド層間の比屈折率差は02%とし
た。
このような石英系光導波路構造は、5iC44、TiC
(4などの原料ガスの火炎加水分解反応を利用したガラ
ス膜の堆積技術と反応性イオンエツチング技術との公知
の組み合・わせにより作製される。
微/J)薄膜ヒータlla、llb、llcおよびll
dは、例えば、厚さ0 、3 p m 、輻50μm、
各々の実効長1.25mmにわたってクロム金属を真空
蒸着法により形成した。給電リード12aおよび12b
もクロム金属の真空蒸着法により同時に形成し、輻を3
00Ωmと広くして抵抗値を下げて給電リード部での発
熱を抑制した。電気配線バッド5aおよび5bを通して
合計0.4W+7)i力、すなわち、各微小薄膜ヒータ
には0.1Wの電力を給電したところ、光導波路に0.
75μmに光路長増加を生じさせることができた。この
際の印加電圧は4.5Vであった。
比較のために、第7図に示した従来例の位相調整部を有
する光導波路(単一の薄膜ヒータ4の長さは5mmとし
た)を構成したところ、光路長を0.75μm増加する
のに必要な薄膜ヒータ4への供給電力は0.4Wと変化
はなかったが、印加電圧は18Vと約4倍であった。
これは、従来例では、ヒータは4分割され並列配置され
ている本実施例に比べて、4倍の電圧を印加しないと、
加熱に充分な電流がヒータに沿ってながれないためであ
る。換言すると、従来例の薄膜ヒータの抵抗値が5mm
長で8000であったのに対し、本実施例の加熱部は、
1.25mm長・200Ωの微小ヒータの4個で構成さ
れ、4個奎列により抵抗値がさらに4分の1になり、全
体として抵抗値50Ωのヒータに等価になったと考える
ことができる。
種々の加速劣化試験を実施したところ、本実施例の位相
調節部を有する光導波路は、欠陥に強いことが確認され
た。劣化試験により、4個の微小ヒータの中の一個が破
損しても、残ったヒータにより充分に位相調節の機能が
維持できることが確認された。同時に2個の微小ヒータ
に欠陥が発生することは、極めてまれであり、本発明の
光導波路装置の信頼性は大幅に向上した。一箇所の破線
があれば破棄しなければならなかった従来例に比べて製
造歩留りも大幅な改善がなされた。
(実施例2) 第2図に本発明の第2の実施例としての導波型光スイッ
チの構成例を示す。第2図(a)はその平面図であり、
第2図(b)は第2図(a)の中央付近の破線で囲んだ
位相調節部領域6の拡大平面図である。ここで、2aと
2bは、シリコン基板l上に形成された2本の石英系単
一モード光導波路のコア部であり、この2本のコア部は
、2箇所で互いに数pm間隔まで並行に接近して2個の
方向性結合器(3dBカプラー)21aと21bを構成
している。2個の方向性結合器21aと21bと連結す
る部分の2本の光導波路コア部21aと21bの長さは
、等しく設定されており、第2図(a)の光導波路は全
体として、いわゆる対称形マツハ・ツエンダ−光干渉形
回路を構成している。光干渉形を構成する一方の光導波
路コア部2aを覆うクラッド層上面には、第2図(b)
に拡大図示した位相調節部6が設置されている。
位相調節部6の構成は第1図に示した実施例1と同等で
あるが、本実施例では便宜上、電気配線バラド5aと5
bが片側にそろえられている点のみが異なる(もちろん
、第1図の構成をそのまま採用することもできる)。
このような光回路構成とすることにより、入力端23a
から入射した信号光は、光干渉作用に基づいて出力端2
2bから出射される。ところが位相調節部6の微小薄膜
ヒータ付き光干渉原理により、光が出射する出力端は2
2bから23bへと変化する。すなわち、かかるマツハ
・ツエンダ−光干渉計回路は光スィッチとして作用する
本実施例の光スィッチが、比較のために作製した光導波
路コア部2a上部に単一ヒータを具えた従来例光スイン
チに比べて信頼性が向上したことは言うまでもない。こ
れは、従来、光スイツチ自体の故障の恐れがら採用が懸
念されていた光フアイバ回線の切り替え用高信頼性光ス
イツチ分野への光導波路応用を大きく拓くものである。
(実施例3) 第3図に本発明の第3の実施例としての光周波数多重用
分波器の構成を示す。ここで、3aと3bは、シリコン
基板1上に形成された2本の石英系単一モード光導波路
のコア部であり、この2本のコア部は、2箇所で互いに
数μm間隔まで平行に近接して、2個の方向性結合器(
3dBカプラー)21aと21bを構成している。2個
の方向性結合器21aと21bと連結する部分の2本の
光導波路コア部3aと3bの長さの差ΔLは1cmに設
定されており、第2図(a)の光導波路は全体として、
いわゆる非対称形マツハ・ツエンダ−光干渉計回路を構
成している。光干渉計を構成する一方の光導波路コア部
3aを覆うクラッド層上面には、円弧状に位相調節部が
設置されている。位相調節部は、6個の微小薄膜ヒータ
31a、31b、31c、31d、31eおよび31f
とこれらのヒータを並列に結ぶリード32aおよび32
bと、外部への電気配線取り出し用のバッド5aおよび
5bから構成されている。徽/11薄膜ヒータの寸法は
、長さ0.84mm、輻50μmであり、6個の微小薄
膜ヒータ全体としての駆動電力は、2分の1波長相当の
光路長増分当り0.4Wであった。
入力端22aに入射する2本の信号光の光周波数をfl
とf2とすると。
光周波数間隔△f=lf、−f21と△Lとが、△f=
c/(2n・△L) C:光速、 n:光導波路屈折率 の関係にあると、上記の光干渉計回路は光周波数多重用
分波器として作用することが知られている。本実施例の
ΔL=1cmの場合は、△f=10GHz (波長間隔
に換算すると、約0.8t/クストローム)である。
2本の信号光f1とf2は、非対称形マツハ・ツエンダ
−光干渉計の干渉原理により光周波数に応じて、出力”
422 bと23bに分離して取り出されるが、その分
離度と、どちらの出力端にflとf2のどちらを取り出
すかを位相調節部で制御することが可能なのである。例
えば、出力端22bからfl、出力端23bからf2が
出力されている状態から位相調節部によりその下部の光
導波路にさらに2分の1波長相当の光路長増加を与える
と、出力端22bから逆にf2、出力端23bからfl
が出力される状態に切り替えることができる。すなわち
、本実施例の光周波数多重用分波器においては、その状
態制御のために位相調節部の加熱ヒータは常時通tgれ
ていることになるが、第3図の円弧状光導波路と部に設
置された位相調節部にも、本発明の並列分割薄膜微小ヒ
ータ構造を適用でき、位相調節部の信頼性向上や製造歩
留り向上に大いに寄与するのである。
(実施例4) 第4図に、本発明の第4の実施例の平面構成を示す。第
1図に示した実施例1と同様に光導波路コア部2を覆う
クランド層上部に位相調節部が設置されているが、相違
点は、4個の微小薄膜ヒータ41a、41b、41cお
よび41dが単純な直線状ではなく、それぞれ「つづら
織り」状をなしている点である。
このようなつづら織り構造を採用することにより、微小
薄膜ヒータ41a141b、41cおよび41dの抵抗
値を調節し、位相調節部全体としての必要駆動電圧を調
節できるのである。すなわち、駆動電圧を大きくし駆動
電流を小さくするか、逆に駆動電圧を小さくして駆動電
流をおおきくするか、任意に設定できるのである。
(実施例5) 第5図に、本発明の第5の実施例の構成を示す。第5図
(a)はその平面図であり、第5図(b)は第5図(a
)のc−c’線に沿った拡大断面図である。第1図に示
した実施例1の光導波路との相違点は、微小薄膜ヒータ
lla、11b111cおよびlldを配置した光導波
路コア部2の両側にシリコン基板1の一部をえぐる程の
溝51a、51b、51cが設けられていることである
。これらの溝は、微小薄膜ヒータから発生する熱が過度
にシリコン基板lに放散するのを抑制する作用を持って
いる( A、Sugita atal、:Bridge
−suspended  5ilica  wave 
 guidethermo−optic   phas
e   5hifter   and   +tsap
plication  to  Mach−Zehnd
er  type  opticalswitch、” Trans、IEICE、E73(1990)pp、1
05−109  参照)。
このような溝付き光導波路の場合においても、溝と溝の
間に設けた支持橋部52a、52bと52cの上面を介
して、図示のように、微小薄膜ヒータlla、llb、
llcおよびlidをリード12aおよび12bに連結
して給電することにより、本発明の長所を活かすことが
できる。
(実施例6) 第6図に、本発明の第6の実施例の構成を示す。第6図
(a)はその平面図であり、第6図(b)は第6図(a
)のD−D’線に沿った拡大断面図である。本実施例で
は、位相調節部は、8個の微小薄膜ヒータ61a、61
b161c、61d、61e、61f、61gおよび6
1hをリード62aおよび62bで並列に連結して給電
のためのパッド63aおよび63bに導いている。
微小薄膜ヒータ61a、61b、61c、61d、61
e、61f、61gおよび61hは、クロム金属薄膜で
構成されている点は上記の実施例1〜5と同様であるが
、リード62a、62bと、パッド63a、63bはク
ロム金属薄膜の上部に重なるように金(A u )薄膜
を蒸着していることが、これまでの実施例と異なる。厚
さ0.3I1mのクロム金属薄膜の上に0.3pmの金
薄膜を重ねた構造ではリード部の抵抗を約1桁低下させ
ることができた。
このように全熱部以外の領域をAu等の導電性に優れた
金薄膜で補強することは、リード62a、62bの輻を
小さくして位相調節部の占有する面積を低減する上で有
効であり、並列接続された微小薄膜ヒータを具備した多
数個の位相調節部を限られたシリコン基板上に配設する
集積光回路構成上きわめて有効である。
以上の実施例においては、薄膜ヒータの並列数が4.6
.8の場合について言及したが、本発明はこれに限定さ
れるものではなく、さらに10以上に拡張することがで
きることは言うまでもない。並列数が2程度以下である
と、−個のヒータが断線した際に残されたヒータの負担
が急増するので、並列数はできれば4程度以上であるこ
とが望ましい。
上記実施例では、ヒータ材質としてクロムを用いたが、
本発明はこれに限定されるものではなく、ニクロムやタ
ングステン、白金、あるいは窒化タンタル等の材料を用
いてもよい。
なお、以上の実施例では、シリコン基板上の石英系ガラ
ス光導波路を例にとって、本発明を説明したが、これは
、石英系ガラス光働が路が光ファイバとの整合性の点で
実用上有利なためである。
しかし、本発明は、石英系ガラス光導波路のみに限定さ
れるものでなく、熱光学効果を利用し得る一般のガラス
材料系やプラスチック材料系をコア部とする先導・波路
などにも適用できることはもちろんである。
また、以上の実施例においては、薄膜ヒータ加熱により
引き起こされる可逆的な熱光学効果について説明した。
すなわち、薄膜ヒータ下部の光導波路の温度上昇幅が高
々10℃〜100℃の領域の熱光学効果による位相調節
作用について説明した。しかし、本発明の光導波路構造
は、さらに高温、すなわち、数100度から場合によっ
ては、1000℃を越える程度にまで光導波路を加熱し
、光導波路に熱履歴による光路長変化を残留させる、言
わば光路長トリミングの目的にも適用でき、実際極めて
有効であることを指摘しておく。このような高温加熱を
利用した光路長トリミングの分野に従来の単純な薄膜ヒ
ータを用いた場合、ヒータ欠陥に起因してのヒータ断線
が高確率で生じていたが、本発明の並列微小ヒータ構造
の採用により、致命的なヒータ断線を大幅に抑制・改良
することができた。薄膜ヒータにより加熱昇温すべき最
高温度が高ければ高いほど、従来例に比べて本発明の効
果がむしろ顕著になると言える。
[発明の効果コ 以上説明したように、本発明では、光導波路の光路長を
微調するための加熱体を、前記光導波路の沿って配列さ
れた複数個の微小ヒータと、これら複数個の微小ヒータ
を電気的に並列に結線し給電する給電リードから構成す
ることにより、熱光学効果を利用した位相調節部の信頼
性や製造歩留りを大幅に改善することができる。微小ヒ
ータの並列個数や微細構造の工夫により印加電圧の大小
を加減し、駆動電源仕様に合わせることもできる。本発
明の光導波路構造は、熱光学効果を利用した可逆的な光
路長微調節のみならず、光導波路を局部的に高温に加熱
して熱履歴現象を発生させる光路長トリミングの分野に
適用しても効果は益々顕著である。本発明は、大容量の
通信容量を持つ光フアイバ伝送路を切り替える高信頼光
スイツチ分野や、1個のヒータ断線が光回路全体の故障
につながる集積光部品分野や、光路長のトリミングを必
要とする光波集積回路の分野等に利用して効果が極めて
大である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および(b)は本発明の第1の実施例の構
成を示すもので、(a)図は平面構成図、(b)図は(
a)図B−B’線に沿う断面構成図、 第2図(a)および(b)は本発明の第2の実施例とし
て光スインチの構成を示すもので、(a)図は平面構成
図、(b)図は位相間節部拡大図、 第3図は本発明の第3の実施例としての光周波数多重用
分波器の構成を示す平面構成図、第4図は本発明の第4
実施例の構成を示す平面図、 第5図(a)および(b)は本発明の第5の実施例の構
成を示すもので、(a)図は平面構成図、(b)図は(
a)図のc−c’線に沿う断面構成図、 第6図(a)および(b)は本発明の第6の実施例の構
成を示すもので、 (a)図は平面構成図、(b)図は(a)図のD′線に
沿う断面構成図、 第7図(a)および(b)は従来の光導波路の概略構成
を示すもので、(a)図は平面構成図、(b)図は(a
)図のA−A’線に沿う断面構成図である。 l・・・シリコン基板、 2 ・・光導波路コア部、 2a、2b・・・光導波路コア部、 3・ ・クラッド層、 3a、3b・・ 光導波路コア部、 4・ ・−薄膜ヒータ、 5a、5b・−一電気配線バノド、 6・・・位相調節部、 11a、llb、llc、11d・ ・ffi小薄膜ヒ
ータ、 12a、12b・   給電リード、 21a、21b・ ・方向性結合器、 22a、23a・・ 入力端、 22b、23b・・・出力端、 31a、  31b、  31c、  31d、  3
1e 、 31f・・・微小薄膜ヒータ、 41a141b141c、41d・・・微小薄膜ヒータ
。 51a、51b、51c、51d・・・溝、52a15
2b、52c −−−支持橋部、61a、61b161
c161d、61e、6if、61g、61h・・・微
小薄膜ヒータ、62a、62b ・ −・給電リード、
63a、63b・・・電気配線パッド。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板と、この基板上にコア部をクラッド層により
    覆って配置した光導波路とを有し、前記光導波路の一部
    分の光路長を微調節するための加熱体を前記クラッド層
    上に配設した光導波路装置であって、 前記加熱体が、前記光導波路に沿って配列された複数個
    の微小ヒータと、これら複数個の微小ヒータを電気的に
    並列に結線して給電する給電リードとを有してなること
    を特徴とする光導波路装置。
JP14854890A 1990-06-08 1990-06-08 光導波路装置 Pending JPH0442103A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002365605A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Fujikura Ltd 熱光学効果光部品

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002365605A (ja) * 2001-06-07 2002-12-18 Fujikura Ltd 熱光学効果光部品

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