JPH0439398B2 - - Google Patents
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- JPH0439398B2 JPH0439398B2 JP60006848A JP684885A JPH0439398B2 JP H0439398 B2 JPH0439398 B2 JP H0439398B2 JP 60006848 A JP60006848 A JP 60006848A JP 684885 A JP684885 A JP 684885A JP H0439398 B2 JPH0439398 B2 JP H0439398B2
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP684885A JPS61167494A (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | シリコンウエ−ハ−研磨排水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP684885A JPS61167494A (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | シリコンウエ−ハ−研磨排水の処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61167494A JPS61167494A (ja) | 1986-07-29 |
JPH0439398B2 true JPH0439398B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1992-06-29 |
Family
ID=11649655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP684885A Granted JPS61167494A (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | シリコンウエ−ハ−研磨排水の処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61167494A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2647104B2 (ja) * | 1987-11-24 | 1997-08-27 | オルガノ株式会社 | 半導体ウエハーの製造工程より排出される排水の処理方法 |
JP4790243B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2011-10-12 | 新日本製鐵株式会社 | 硫黄化合物を含む廃水の処理方法 |
TWI417430B (zh) * | 2006-08-25 | 2013-12-01 | Applied Materials Inc | 基板研磨液之使用點處理方法與系統 |
JP4609675B2 (ja) * | 2007-08-16 | 2011-01-12 | オルガノ株式会社 | メタル研磨cmp工程排水処理装置及び方法 |
CN104609668A (zh) * | 2015-01-23 | 2015-05-13 | 先达恩那社水处理工程(天津)有限公司 | 芯片生产线的废水处理方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS592554B2 (ja) * | 1975-10-28 | 1984-01-19 | 荏原インフイルコ株式会社 | マクブンリホウホウ |
JPS5474285A (en) * | 1977-11-25 | 1979-06-14 | Sasakura Eng Co Ltd | Reverse osmotic pressure apparatus control method |
JPS5687402A (en) * | 1979-12-14 | 1981-07-16 | Ebara Infilco Co Ltd | Membrane separation method |
JPS5980387A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-09 | Toray Eng Co Ltd | 半透性複合膜による電子部品洗浄廃水の逆浸透処理方法 |
JPS59189987A (ja) * | 1983-04-11 | 1984-10-27 | Nec Corp | シリコンウエ−ハ−研摩排水の循環利用方法 |
-
1985
- 1985-01-18 JP JP684885A patent/JPS61167494A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61167494A (ja) | 1986-07-29 |
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