JPH0437804A - カラーフィルターの形成法 - Google Patents
カラーフィルターの形成法Info
- Publication number
- JPH0437804A JPH0437804A JP2145822A JP14582290A JPH0437804A JP H0437804 A JPH0437804 A JP H0437804A JP 2145822 A JP2145822 A JP 2145822A JP 14582290 A JP14582290 A JP 14582290A JP H0437804 A JPH0437804 A JP H0437804A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color
- color filter
- resist
- forming
- regist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 235000018185 Betula X alpestris Nutrition 0.000 description 1
- 235000018212 Betula X uliginosa Nutrition 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は２要式ＳＴＮ （スーパーツイストネマチック
）方式、フィルム補償型ＳＴＮ方式などノーマリ−ダー
クの方式を有する液晶表示素子のカラー化の際に用いら
れるカラーフィルターの形成法に関する。
）方式、フィルム補償型ＳＴＮ方式などノーマリ−ダー
クの方式を有する液晶表示素子のカラー化の際に用いら
れるカラーフィルターの形成法に関する。
［従来の技術］
液晶表示素子の著しい進歩により近年パーソナルコンピ
ューターの端末表示としてカラー液晶表示素子を用いる
事がさかんに行なわれている。この液晶表示素子の方式
には大きく分けて２つの方式がある。１つは画素１個ご
とにＴＦＴ （薄膜トランジスター）やダイオードなど
の能動素子を形成したアクティブマトリックス方式であ
りもう１つは液晶素子の急峻なしきい信性性を利用した
単純マトリクス方式である。
ューターの端末表示としてカラー液晶表示素子を用いる
事がさかんに行なわれている。この液晶表示素子の方式
には大きく分けて２つの方式がある。１つは画素１個ご
とにＴＦＴ （薄膜トランジスター）やダイオードなど
の能動素子を形成したアクティブマトリックス方式であ
りもう１つは液晶素子の急峻なしきい信性性を利用した
単純マトリクス方式である。
この単純マトリクス方式については現在実用化されてい
る２層式ＳＴＮ方式やフィルム補償型ＳＴＮ方式の他、
強誘電性液晶を用いる方式などが考えられているが、い
ずれの場合も急峻なしきい信性性を表示エリア全面で均
一に保ち良好な画素を得る為に、高い平坦性を有する基
板が必要となる、この単純マトリクス武力でカラー表示
を得る為には同様に高い平坦性を有するカラーフィルタ
ーの形成法が不可欠になっている。
る２層式ＳＴＮ方式やフィルム補償型ＳＴＮ方式の他、
強誘電性液晶を用いる方式などが考えられているが、い
ずれの場合も急峻なしきい信性性を表示エリア全面で均
一に保ち良好な画素を得る為に、高い平坦性を有する基
板が必要となる、この単純マトリクス武力でカラー表示
を得る為には同様に高い平坦性を有するカラーフィルタ
ーの形成法が不可欠になっている。
このカラーフィルターの形成技術には、印刷法、染色法
、電着法などが考えられて来たが近年ネガ型レジスト材
料中に顔料を分散して調整されたカラーレジストをフォ
ト法によりバクーン形成するカラーレジスト方式が実用
段階を迎えつつある。このカラーレジスト方式は印刷法
に較べ位置精度や平坦性に優れ、染色法に較べ耐熱性や
耐光性に優れ、電着法に較ベバクーンの自由度、コスト
面で優れており、従来問題視されていた色相や液の安定
性などの点も解決され実用段階を迎えるようとなった。
、電着法などが考えられて来たが近年ネガ型レジスト材
料中に顔料を分散して調整されたカラーレジストをフォ
ト法によりバクーン形成するカラーレジスト方式が実用
段階を迎えつつある。このカラーレジスト方式は印刷法
に較べ位置精度や平坦性に優れ、染色法に較べ耐熱性や
耐光性に優れ、電着法に較ベバクーンの自由度、コスト
面で優れており、従来問題視されていた色相や液の安定
性などの点も解決され実用段階を迎えるようとなった。
しかし、このカラーレジスト方式を用いてカラーフィル
ターを形成する際に、従来のカラーフィルター形成技術
を用いても充分高平坦で安価なカラーフィルターを作る
事は出来ない。ここでいう従来のカラーフィルターの形
成技術とは、１つは各画素間の隙間部に複数の色相のカ
ラーレジストを重ねて形成する事により遮光層を形成す
る方法であるが、この方法では重なった部分と重なりの
ない部分の段差が大きく、安価ではあるが高平坦な平面
は得られない、第１図にこの重ね方式のカラーフィルタ
ーの断面図を示す、ここで透明基板ｌｏｔの上に第１形
成画素１０２を設けた後、第２形成画素１０３を重なり
部１０５を設けながら形成し、さらに第３形成画素１０
４を重なり部１０６．１０７を設けながら形成する事に
より、重なり部が画素部の厚みとほぼ同程度の厚さで突
出する。この方式ではカラーフィルター上に設けられる
平坦化膜を厚膜化したり研磨したりしなければ高平坦な
平面は得られずコストアップの要因となってしまう。
ターを形成する際に、従来のカラーフィルター形成技術
を用いても充分高平坦で安価なカラーフィルターを作る
事は出来ない。ここでいう従来のカラーフィルターの形
成技術とは、１つは各画素間の隙間部に複数の色相のカ
ラーレジストを重ねて形成する事により遮光層を形成す
る方法であるが、この方法では重なった部分と重なりの
ない部分の段差が大きく、安価ではあるが高平坦な平面
は得られない、第１図にこの重ね方式のカラーフィルタ
ーの断面図を示す、ここで透明基板ｌｏｔの上に第１形
成画素１０２を設けた後、第２形成画素１０３を重なり
部１０５を設けながら形成し、さらに第３形成画素１０
４を重なり部１０６．１０７を設けながら形成する事に
より、重なり部が画素部の厚みとほぼ同程度の厚さで突
出する。この方式ではカラーフィルター上に設けられる
平坦化膜を厚膜化したり研磨したりしなければ高平坦な
平面は得られずコストアップの要因となってしまう。
従来のカラーフィルターの形成技術の他の一つは各画素
の隙間部に遮光用のブラックマスクをあらかじめ形成し
その上に各色相の画素を形成する方式であるが、この場
合ブラックマスクをカシ−レジストのようなもので形成
しては第１図に示した重なり部の突出が避けられない為
、第２図に示す様な薄膜の遮光層２０１を形成する必要
があ゛る。この方式では遮光層２０１をメタルの蒸着や
スパッターにより形成しフォト法でパターン化しなけれ
ばならずコストアップになり、さらに遮光層上の各画素
の隙間部２０２による段差が発生してしまい、平坦化膜
の負荷を大きくする原因となる。
の隙間部に遮光用のブラックマスクをあらかじめ形成し
その上に各色相の画素を形成する方式であるが、この場
合ブラックマスクをカシ−レジストのようなもので形成
しては第１図に示した重なり部の突出が避けられない為
、第２図に示す様な薄膜の遮光層２０１を形成する必要
があ゛る。この方式では遮光層２０１をメタルの蒸着や
スパッターにより形成しフォト法でパターン化しなけれ
ばならずコストアップになり、さらに遮光層上の各画素
の隙間部２０２による段差が発生してしまい、平坦化膜
の負荷を大きくする原因となる。
従来のカラーフィルターの形成技術の他の１つに最終形
成色を裏側より露光する裏面ｎ光方式がある。この方式
は第３図（Ａ）に示す既に形成された画素１０２，１０
３を有する透明基板１０１上に、第３図（Ｂ）３０４に
示す最終形成色３０４を塗膜し、透明基板の裏側より３
０１のように露光し、第３図（Ｃ）の１０４の画素部と
１０２と１０３の画素間隙埋め込み部３０２を同時に形
成する方式である。この方式では安価で高平坦なカラー
フィルターを形成する事が出来るが、第４区に示す通り
最終形成色の前に形成された画素が順テーパーを示すと
その色の画素との継ぎ目にくさび状の段差が生し他の方
式と同様、平坦化膜への負荷を大きくする原因となる。
成色を裏側より露光する裏面ｎ光方式がある。この方式
は第３図（Ａ）に示す既に形成された画素１０２，１０
３を有する透明基板１０１上に、第３図（Ｂ）３０４に
示す最終形成色３０４を塗膜し、透明基板の裏側より３
０１のように露光し、第３図（Ｃ）の１０４の画素部と
１０２と１０３の画素間隙埋め込み部３０２を同時に形
成する方式である。この方式では安価で高平坦なカラー
フィルターを形成する事が出来るが、第４区に示す通り
最終形成色の前に形成された画素が順テーパーを示すと
その色の画素との継ぎ目にくさび状の段差が生し他の方
式と同様、平坦化膜への負荷を大きくする原因となる。
［発明が解決しようとする課題］
本発明では、前記裏面露光方式におけるくさび状の段差
の発生を回避し、安価で高平坦なカラーフィルターを提
供する事を目的とする。
の発生を回避し、安価で高平坦なカラーフィルターを提
供する事を目的とする。
［課題を解決するための手段］
ネガ型レジスト材料中に顔料を分散して調整されたカラ
ーレジストを用い少なくとも２色以上の色相の画素を形
成してなるカラーフィルターのなかで、最後に塗膜され
る色相のカラーレジストを基板の裏面より露光し形成す
る裏面露光方式において、あらかじめ形成された他の色
相の画素のパターンのエツジ形状を順テーパーとならな
いように形成する事によりカラーフィルター表面の凹凸
を少なくした事を特徴とするカラーフィルターの形成法
。
ーレジストを用い少なくとも２色以上の色相の画素を形
成してなるカラーフィルターのなかで、最後に塗膜され
る色相のカラーレジストを基板の裏面より露光し形成す
る裏面露光方式において、あらかじめ形成された他の色
相の画素のパターンのエツジ形状を順テーパーとならな
いように形成する事によりカラーフィルター表面の凹凸
を少なくした事を特徴とするカラーフィルターの形成法
。
（実 施 例１
（１）本発明の実施に際し、カラーレジストの材料は冨
士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製のも
のを用いた。このカラーレジストは商品名をカラーモザ
イクと言い、青色のものをＣＢＶ、赤色のものをＣＲＹ
、緑色のものをＣＧＹ、黒色のものはＧＫと称する。こ
のカラーレジスト中に含まれるネガ型レジスト材料はア
クリル系感光樹脂であり空気中の酸素による阻害効果が
ある為、酸素遮断膜（富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー株式会社製 商品名ＣＰ）を被膜した後に露光
させる事が好ましく、その際、ＣＢＶ、ＣＲＹ、ＣＧＹ
はそれぞれｌＯ〜３０ｍｇ／ｃｍ″の高い感度を示す、
またｎ光用光源には超高圧水銀灯を使用し、透明基板に
はソーダガラスを用いた。
士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社製のも
のを用いた。このカラーレジストは商品名をカラーモザ
イクと言い、青色のものをＣＢＶ、赤色のものをＣＲＹ
、緑色のものをＣＧＹ、黒色のものはＧＫと称する。こ
のカラーレジスト中に含まれるネガ型レジスト材料はア
クリル系感光樹脂であり空気中の酸素による阻害効果が
ある為、酸素遮断膜（富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー株式会社製 商品名ＣＰ）を被膜した後に露光
させる事が好ましく、その際、ＣＢＶ、ＣＲＹ、ＣＧＹ
はそれぞれｌＯ〜３０ｍｇ／ｃｍ″の高い感度を示す、
またｎ光用光源には超高圧水銀灯を使用し、透明基板に
はソーダガラスを用いた。
第１の実施例においては、透明ガラス基板上にまず、赤
色のカラーフィルター画素を、次に緑色のカラーフィル
ター画素を各々表面より露光して形成し、最後に青色の
カラーレジスト膜な裏面ｎ光により形成する方式につい
て述べる。
色のカラーフィルター画素を、次に緑色のカラーフィル
ター画素を各々表面より露光して形成し、最後に青色の
カラーレジスト膜な裏面ｎ光により形成する方式につい
て述べる。
ＣＲＹをスピンコーターで塗膜し、７０℃２分周ブレベ
ークし酸素遮断ＣＰを塗膜・乾燥した後フォトマスクを
介して超高圧水銀灯の紫外光を１０〜３０ ｍ ｊ ／
ｃ ｍ″照射、アルカリ系現像液（富士ハントエレク
トロニクステクノロジー株式会社製 商品名 ＣＤ）を
用い現像し、乾燥した後、加熱焼成する事なしに、高圧
水銀灯を用いた高照度の紫外線照射装置を用い１０００
ｍ ｊ ／ｃｒｎ’以上の照射を全面に行ない硬化を
させる０次にＣＧＹをＣＲＹと同様なプロセスにより、
ＣＲＹ画素の横に１０〜３０ｕｍの間隔をもって形成し
た。カラーフィルターはストライブパターンであり、３
３０ｕｍピッチで赤と緑の線巾は９０ｕｍとした。この
プロセスにより第５図（Ａ）に示す通りＣＲＹは、基板
にほぼ垂直なパターンエッチを有し、ＣＧＹは逆テーパ
ーのパターンエッヂを有する様に形成出来た。なおＣＲ
Ｙ、ＣＧＹの露光の際にフォトマスクと基板とのプロキ
シミティ量は出来るだけ小さい方が逆テーパーになり易
く順テーパーになりにくい傾向があり、プロキシミティ
１５０μｍ以下とした。このように形成した赤と緑の画
素の上にＣＢＶをスピンコードで塗膜し、第３図（Ｂ）
のように裏側より露光する事により、第５図（Ｂ）のよ
うな高い平坦性を有するカラーフィルターを形成出来た
。このＣＢＶの裏面露光に際しては第６図６０４に示す
Ｕｖカットフィルターを用い３８０ｎｍ以下のＬＩＶ光
をカットする事により、赤及び緑の画素上の青色カラー
レジストが感光しないようにした。ＣＢＶの裏面露光の
露光量はＣＰを被膜したもので２０〜１００ｍｊ／ｃｒ
ｎ’、ＣＰを被膜しないもので１５０〜３００ ｍ ｊ
／ ｃばであった。
ークし酸素遮断ＣＰを塗膜・乾燥した後フォトマスクを
介して超高圧水銀灯の紫外光を１０〜３０ ｍ ｊ ／
ｃ ｍ″照射、アルカリ系現像液（富士ハントエレク
トロニクステクノロジー株式会社製 商品名 ＣＤ）を
用い現像し、乾燥した後、加熱焼成する事なしに、高圧
水銀灯を用いた高照度の紫外線照射装置を用い１０００
ｍ ｊ ／ｃｒｎ’以上の照射を全面に行ない硬化を
させる０次にＣＧＹをＣＲＹと同様なプロセスにより、
ＣＲＹ画素の横に１０〜３０ｕｍの間隔をもって形成し
た。カラーフィルターはストライブパターンであり、３
３０ｕｍピッチで赤と緑の線巾は９０ｕｍとした。この
プロセスにより第５図（Ａ）に示す通りＣＲＹは、基板
にほぼ垂直なパターンエッチを有し、ＣＧＹは逆テーパ
ーのパターンエッヂを有する様に形成出来た。なおＣＲ
Ｙ、ＣＧＹの露光の際にフォトマスクと基板とのプロキ
シミティ量は出来るだけ小さい方が逆テーパーになり易
く順テーパーになりにくい傾向があり、プロキシミティ
１５０μｍ以下とした。このように形成した赤と緑の画
素の上にＣＢＶをスピンコードで塗膜し、第３図（Ｂ）
のように裏側より露光する事により、第５図（Ｂ）のよ
うな高い平坦性を有するカラーフィルターを形成出来た
。このＣＢＶの裏面露光に際しては第６図６０４に示す
Ｕｖカットフィルターを用い３８０ｎｍ以下のＬＩＶ光
をカットする事により、赤及び緑の画素上の青色カラー
レジストが感光しないようにした。ＣＢＶの裏面露光の
露光量はＣＰを被膜したもので２０〜１００ｍｊ／ｃｒ
ｎ’、ＣＰを被膜しないもので１５０〜３００ ｍ ｊ
／ ｃばであった。
（２）第２の実施例においては、上記透明ガラス基板上
にまず青色、緑色の２色のカラーフィルター画素を表側
から露光してストライブパターンを形成し最後に赤色の
カラーレジスト膜を裏側から露光して形成する方式につ
いて述べる。
にまず青色、緑色の２色のカラーフィルター画素を表側
から露光してストライブパターンを形成し最後に赤色の
カラーレジスト膜を裏側から露光して形成する方式につ
いて述べる。
実施例（１）と同様にして形成されたＣＧＹ、ＣＢＶの
カラーフィルターの上にＣＲＹを塗膜しブレベークした
あと、光源とガラス基板の間に第６図６０５に示す分光
透過率を有する干渉フィルターを介入させ、ＣＲＹ上に
ＣＰを被膜したもので１５〜１００ｍｊ／ｃｒｎ’、Ｃ
Ｐを被膜しないもので１２０〜３００ ｍ ｊ ／ ｃ
ｒｎ’の間で基板裏側より露光してやる事でＣＢＶ、
ＣＧＹ上にＣＲＹの残膜がなく高い平坦性を有するカラ
ーフィルターを得る事ができた。
カラーフィルターの上にＣＲＹを塗膜しブレベークした
あと、光源とガラス基板の間に第６図６０５に示す分光
透過率を有する干渉フィルターを介入させ、ＣＲＹ上に
ＣＰを被膜したもので１５〜１００ｍｊ／ｃｒｎ’、Ｃ
Ｐを被膜しないもので１２０〜３００ ｍ ｊ ／ ｃ
ｒｎ’の間で基板裏側より露光してやる事でＣＢＶ、
ＣＧＹ上にＣＲＹの残膜がなく高い平坦性を有するカラ
ーフィルターを得る事ができた。
［発明の効果１
本発明のカラーフィルターを用いさらに第７図７０１に
示す平坦化膜をポリイミド系樹脂かアクノル系樹脂かエ
ポキシ系樹脂かウレタン系樹脂を用い形成した後、７０
２の透明導電膜ＩＴ○をスパッタ法により形成したもの
を、２層式ＳＴＮ用電極基板として使用したところ、コ
ントラスト比１．２５以上の高い遮光性を有する均一な
表示を得た。
示す平坦化膜をポリイミド系樹脂かアクノル系樹脂かエ
ポキシ系樹脂かウレタン系樹脂を用い形成した後、７０
２の透明導電膜ＩＴ○をスパッタ法により形成したもの
を、２層式ＳＴＮ用電極基板として使用したところ、コ
ントラスト比１．２５以上の高い遮光性を有する均一な
表示を得た。
第１図は従来法である重ね方式により形成されたカラー
フィルターの断面を示す図、第２図は従来法であるメタ
ルブラックマスク方式により形成されたカラーフィルタ
ーの断面を示す図、第３図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明
で用いた裏面露光法による形成法を示す図、第４図は従
来の裏面露光法により形成されたカラーフィルターの断
面図。 １５図（Ａ）（Ｂ）は本発明による高平坦なカラーフィ
ルターの形成法を示す図、第６図は、本発明の裏面露光
の際に使用したフィルター等の分光特性を示すグラフ、
第７図は本発明により形成されたカラーフィルターを実
際に使用する際の基板の断面図。 １０５〜１０７ ２０１ ・ ・ ・ ・ ２０２ ・ ・ ・ ・ ３０１ ・ ・ ・ ３０２ ・ ・ ・ ・ ・ガラス基板 ・第１形成画素 ・第２形成画素 ・第３形成画素 （最後に形成された画素） ・重なり部の突起 ・ブラックマスク 画素間隙間 ・裏側からのＵＶ露光 最後のカラーレジストにより 埋まった画素間隙間 ３０４・・・・・最後に塗布されたカラーレジスト膜 ４０１・・・・・画素間の隙間 ６０１・・・・・青色画素の分光透過率６０２・・・・
・赤色画素の分光透過率６０３・・・・・緑色画素の分
光透過率６０４・・・・・ｔ＋Ｖカットフィルターの分
光透過率 ６０５・・・・・干渉フィルターの分光透過率７０１・
・・・・平坦化膜 ７０２・・・・・透明導電膜 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴 木 喜三部（他１名）樺３図′（
Ａ） ／り／ 蓼５ｔ！１（８） 竿う図（Ｃ） ４ｏ。 ４（表 （？Ｉ塑ン 第 図 ４ｔθ 葬ダ因（Ａ） ＄ｓ区（Ｂ）
フィルターの断面を示す図、第２図は従来法であるメタ
ルブラックマスク方式により形成されたカラーフィルタ
ーの断面を示す図、第３図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明
で用いた裏面露光法による形成法を示す図、第４図は従
来の裏面露光法により形成されたカラーフィルターの断
面図。 １５図（Ａ）（Ｂ）は本発明による高平坦なカラーフィ
ルターの形成法を示す図、第６図は、本発明の裏面露光
の際に使用したフィルター等の分光特性を示すグラフ、
第７図は本発明により形成されたカラーフィルターを実
際に使用する際の基板の断面図。 １０５〜１０７ ２０１ ・ ・ ・ ・ ２０２ ・ ・ ・ ・ ３０１ ・ ・ ・ ３０２ ・ ・ ・ ・ ・ガラス基板 ・第１形成画素 ・第２形成画素 ・第３形成画素 （最後に形成された画素） ・重なり部の突起 ・ブラックマスク 画素間隙間 ・裏側からのＵＶ露光 最後のカラーレジストにより 埋まった画素間隙間 ３０４・・・・・最後に塗布されたカラーレジスト膜 ４０１・・・・・画素間の隙間 ６０１・・・・・青色画素の分光透過率６０２・・・・
・赤色画素の分光透過率６０３・・・・・緑色画素の分
光透過率６０４・・・・・ｔ＋Ｖカットフィルターの分
光透過率 ６０５・・・・・干渉フィルターの分光透過率７０１・
・・・・平坦化膜 ７０２・・・・・透明導電膜 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴 木 喜三部（他１名）樺３図′（
Ａ） ／り／ 蓼５ｔ！１（８） 竿う図（Ｃ） ４ｏ。 ４（表 （？Ｉ塑ン 第 図 ４ｔθ 葬ダ因（Ａ） ＄ｓ区（Ｂ）
Claims (1)
- ネガ型レジスト材料中に顔料を分散して調整されたカラ
ーレジストを用い少なくも２色以上の色相の画素を形成
してなるカラーフィルターのなかで、最後に塗膜される
色相のカラーレジストを基板の裏面より露光し形成する
裏面露光方式において、あらかじめ形成された他の色相
の画素のパターンのエッジ形状を順テーパーとならない
ように形成する事によりカラーフィルター表面の凹凸を
少なくした事を特徴とするカラーフィルターの形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14582290A JP2946645B2 (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | カラーフィルターの形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14582290A JP2946645B2 (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | カラーフィルターの形成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437804A true JPH0437804A (ja) | 1992-02-07 |
| JP2946645B2 JP2946645B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=15393935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14582290A Expired - Fee Related JP2946645B2 (ja) | 1990-06-04 | 1990-06-04 | カラーフィルターの形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2946645B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05264985A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 遮光パターンの形成方法 |
| WO1994007158A1 (fr) * | 1992-09-17 | 1994-03-31 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion |
| JP2002202500A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Optrex Corp | カラー液晶表示素子 |
| US6552764B2 (en) | 1998-07-28 | 2003-04-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Reflective LCD whose color filter pattern extends outside display region and whose seal overlaps color filter |
| JP2011503668A (ja) * | 2007-11-20 | 2011-01-27 | イーストマン コダック カンパニー | 集積化カラーマスク |
| JP2012018868A (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-26 | Seiko Epson Corp | 有機ｅｌ装置、有機ｅｌ装置の製造方法、ならびに電子機器 |
-
1990
- 1990-06-04 JP JP14582290A patent/JP2946645B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05264985A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 遮光パターンの形成方法 |
| WO1994007158A1 (fr) * | 1992-09-17 | 1994-03-31 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore pour affichage a cristaux liquides et appareil de formation de film par tension et expansion |
| US5558927A (en) * | 1992-09-17 | 1996-09-24 | Seiko Epson Corporation | Color filter for liquid crystal displays and film-forming apparatus |
| US6552764B2 (en) | 1998-07-28 | 2003-04-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Reflective LCD whose color filter pattern extends outside display region and whose seal overlaps color filter |
| JP2002202500A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Optrex Corp | カラー液晶表示素子 |
| JP2011503668A (ja) * | 2007-11-20 | 2011-01-27 | イーストマン コダック カンパニー | 集積化カラーマスク |
| JP2012018868A (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-26 | Seiko Epson Corp | 有機ｅｌ装置、有機ｅｌ装置の製造方法、ならびに電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2946645B2 (ja) | 1999-09-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5093738A (en) | Color filter manufacturing method using negative photoresist material for the filter | |
| JP3032197B1 (ja) | カラ―フィルタおよび光学的表示装置 | |
| US5936694A (en) | Liquid crystal device and process for producing same | |
| JP2004061539A (ja) | 液晶用カラーフィルター及びその製造方法 | |
| JPH07181316A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH0437804A (ja) | カラーフィルターの形成法 | |
| KR100701671B1 (ko) | 컬러필터 제조방법 | |
| KR960035098A (ko) | 액정 디스플레이(lcd)용 칼라필터 및 그 제조방법 | |
| JP3027860B2 (ja) | カラーフィルター及びその製造方法 | |
| KR100242435B1 (ko) | 액정표시장치용 칼라필터 및 그 제조방법 | |
| JP3188288B2 (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示パネル | |
| JP2606162B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP3142900B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH085813A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH08334755A (ja) | 液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 | |
| JPH0862606A (ja) | 液晶パネル | |
| JPH04348320A (ja) | カラーフィルタ装置 | |
| JP2005181675A (ja) | 半透過型カラー液晶表示パネルの製造方法 | |
| JPH07181317A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルター基板の製造方法 | |
| JPH04278902A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| KR960009378Y1 (ko) | 액정 디스플레이용 칼라필터 기판의 구조 | |
| JP3371457B2 (ja) | カラーフィルター基板およびその製造方法ならびに表示装置 | |
| JPH04238323A (ja) | カラー液晶表示装置 | |
| JPH11248916A (ja) | カラーフィルタ基板及びその製造法 | |
| JPH08334748A (ja) | 液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |