JPH04372104A - 高周波インダクタ - Google Patents
高周波インダクタInfo
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- JPH04372104A JPH04372104A JP14914191A JP14914191A JPH04372104A JP H04372104 A JPH04372104 A JP H04372104A JP 14914191 A JP14914191 A JP 14914191A JP 14914191 A JP14914191 A JP 14914191A JP H04372104 A JPH04372104 A JP H04372104A
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- Japan
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- high frequency
- inductor
- magnetic metal
- inductance
- soft magnetic
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- GNEMDYVJKXMKCS-UHFFFAOYSA-N cobalt zirconium Chemical compound [Co].[Zr] GNEMDYVJKXMKCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波領域まで共振す
ることなく動作する高周波インダクタに関するものであ
る。
ることなく動作する高周波インダクタに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、大きなインダクタンスを示し、か
つ高周波領域まで共振することなく動作するマイクロイ
ンダクタの要求が高まっている。従来、このようなイン
ダクタとしては、図4に示すようなつづら折れ型(メア
ンダ)構造のインダクタが知られている。このインダク
タの構成において、1はライン、2は電極である。ライ
ン1の構造としては、図5に示すように、非磁性金属体
3のみによって構成されるもの、あるいは、図6に示す
ように、非磁性金属体3を挟むように軟磁性体4をライ
ン1の表面全体に接着させた構造をなすものが考案され
ている(松木英敏日本応用磁気学会誌 Vol.14
,No.5,689,1990)。
つ高周波領域まで共振することなく動作するマイクロイ
ンダクタの要求が高まっている。従来、このようなイン
ダクタとしては、図4に示すようなつづら折れ型(メア
ンダ)構造のインダクタが知られている。このインダク
タの構成において、1はライン、2は電極である。ライ
ン1の構造としては、図5に示すように、非磁性金属体
3のみによって構成されるもの、あるいは、図6に示す
ように、非磁性金属体3を挟むように軟磁性体4をライ
ン1の表面全体に接着させた構造をなすものが考案され
ている(松木英敏日本応用磁気学会誌 Vol.14
,No.5,689,1990)。
【0003】このようなインダクタの共振周波数frは
、インダクタンスをL,浮遊容量をCsとすると、fr
=1/{2π(LCs)1/2} …(1)の式で表
される。ここで浮遊容量Csは主に、図4で示されるつ
づら折れのライン1間で生じている。
、インダクタンスをL,浮遊容量をCsとすると、fr
=1/{2π(LCs)1/2} …(1)の式で表
される。ここで浮遊容量Csは主に、図4で示されるつ
づら折れのライン1間で生じている。
【0004】図5で示されるインダクタでは、インダク
タンスLを増加させるためには、図4のつづら折れの本
数Nを増やす必要がある。しかし、その本数Nを増やす
と浮遊容量Csも増加することになり、(1)式により
共振周波数frが低下して高周波での動作が困難となる
。
タンスLを増加させるためには、図4のつづら折れの本
数Nを増やす必要がある。しかし、その本数Nを増やす
と浮遊容量Csも増加することになり、(1)式により
共振周波数frが低下して高周波での動作が困難となる
。
【0005】これを改善したものが図6のインダクタで
あり、この図6に示されるインダクタでは、軟磁性体4
の付加によりインダクタンスLが増加するため、図5に
示されるインダクタと同じ大きさのインダクタンスLを
実現するのに要するつづら折れ本数Nを減らすことがで
きる。従って、浮遊容量Csは低下し、共振周波数fr
も図5のインダクタと比較して高くなる。
あり、この図6に示されるインダクタでは、軟磁性体4
の付加によりインダクタンスLが増加するため、図5に
示されるインダクタと同じ大きさのインダクタンスLを
実現するのに要するつづら折れ本数Nを減らすことがで
きる。従って、浮遊容量Csは低下し、共振周波数fr
も図5のインダクタと比較して高くなる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、軟磁性体が
磁化すると、磁化と逆方向に反磁場が生じる。この反磁
場の大きさは軟磁性体の形状に依存し、太くて短い形状
では大きく、一方細くて長い形状ではほとんど零となる
。図6に示されるインダクタでは、磁化方向はライン1
の幅W方向であり、つづら折れのライン1の長さをlと
してW≪lとなる形状のため、軟磁性体4は大きな反磁
場を受けることになる。そのため、軟磁性体4の本来の
透磁率が数千であっても、見かけ上の透磁率は数十から
数百程度に低下し、軟磁性体4を非磁性金属体3に付加
した効果が十分に発揮されない。従って、図6のインダ
クタにおいても、十分大きなインダクタンスを実現する
には、つづら折れ本数Nをある程度増やす必要があり、
共振周波数frはあまり高くならないという欠点がある
。以上のように従来のインダクタでは、大きなインダク
タンスを持った状態で、十分高周波まで動作することが
困難であるという問題点があった。
磁化すると、磁化と逆方向に反磁場が生じる。この反磁
場の大きさは軟磁性体の形状に依存し、太くて短い形状
では大きく、一方細くて長い形状ではほとんど零となる
。図6に示されるインダクタでは、磁化方向はライン1
の幅W方向であり、つづら折れのライン1の長さをlと
してW≪lとなる形状のため、軟磁性体4は大きな反磁
場を受けることになる。そのため、軟磁性体4の本来の
透磁率が数千であっても、見かけ上の透磁率は数十から
数百程度に低下し、軟磁性体4を非磁性金属体3に付加
した効果が十分に発揮されない。従って、図6のインダ
クタにおいても、十分大きなインダクタンスを実現する
には、つづら折れ本数Nをある程度増やす必要があり、
共振周波数frはあまり高くならないという欠点がある
。以上のように従来のインダクタでは、大きなインダク
タンスを持った状態で、十分高周波まで動作することが
困難であるという問題点があった。
【0007】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、その目的は、十分大きなインダクタ
ンスを持ち、かつギカヘルツ以上というような高い周波
数領域まで動作する高周波インダクタを提供することに
ある。
されたものであり、その目的は、十分大きなインダクタ
ンスを持ち、かつギカヘルツ以上というような高い周波
数領域まで動作する高周波インダクタを提供することに
ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の高周波インダクタにおいては、非磁性金属
体によりストライプ構造あるいはメアンダ構造の非磁性
金属体ラインを形成し、該非磁性金属体ラインの表面に
前記非磁性金属体を挟むように短冊状の軟磁性体を複数
接着するか、または該非磁性金属体ラインの表面に前記
非磁性金属体の周囲を1周するように軟磁性体を接着し
たことを特徴としている。
め、本発明の高周波インダクタにおいては、非磁性金属
体によりストライプ構造あるいはメアンダ構造の非磁性
金属体ラインを形成し、該非磁性金属体ラインの表面に
前記非磁性金属体を挟むように短冊状の軟磁性体を複数
接着するか、または該非磁性金属体ラインの表面に前記
非磁性金属体の周囲を1周するように軟磁性体を接着し
たことを特徴としている。
【0009】
【作用】本発明の高周波インダクタでは、非磁性金属体
ラインにインダクタンスを増加させる目的で付加する軟
磁性体の形状を短冊状あるいはその非磁性金属体ライン
を1周する形状とすることにより、反磁場の発生を抑え
て透磁率の低下を阻止し、目的通りに十分大きなインダ
クタンスを実現する。これにより、インダクタンスを増
加させるためのメアンダ(つづら折れ)構造におけるつ
づら折れの本数を少なくし、あるいはストライプ構造を
可能とし、非磁性金属体ライン間に発生する浮遊容量を
減じて共振周波数を高め、高い周波数領域まで動作可能
としている。
ラインにインダクタンスを増加させる目的で付加する軟
磁性体の形状を短冊状あるいはその非磁性金属体ライン
を1周する形状とすることにより、反磁場の発生を抑え
て透磁率の低下を阻止し、目的通りに十分大きなインダ
クタンスを実現する。これにより、インダクタンスを増
加させるためのメアンダ(つづら折れ)構造におけるつ
づら折れの本数を少なくし、あるいはストライプ構造を
可能とし、非磁性金属体ライン間に発生する浮遊容量を
減じて共振周波数を高め、高い周波数領域まで動作可能
としている。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
【0011】図1は本発明の第1の実施例のインダクタ
を構成するラインの構造を示す斜視図であって、ストラ
イプ構造もしくは図4に示したメアンダ(つづら折れ)
構造の一部分を示している。本実施例の構造において、
3はライン状に形成された非磁性金属体、4は軟磁性体
である。本実施例は、ストライプ構造あるいはメアンダ
構造をなすラインを非磁性金属体3で形成し、その非磁
性金属体3を挟むように短冊状の軟磁性体4をその非磁
性金属体3の表面のライン方向に複数接着させた構造を
なしている。
を構成するラインの構造を示す斜視図であって、ストラ
イプ構造もしくは図4に示したメアンダ(つづら折れ)
構造の一部分を示している。本実施例の構造において、
3はライン状に形成された非磁性金属体、4は軟磁性体
である。本実施例は、ストライプ構造あるいはメアンダ
構造をなすラインを非磁性金属体3で形成し、その非磁
性金属体3を挟むように短冊状の軟磁性体4をその非磁
性金属体3の表面のライン方向に複数接着させた構造を
なしている。
【0012】図2は本発明の第2の実施例のインダクタ
を構成するラインの構造の一部分を示す斜視図である。 本実施例の構造においても、3はライン状に形成された
非磁性金属体、4は軟磁性体を示す。また、本実施例で
も、非磁性金属体3のラインは、ストライプ構造あるい
はメアンダ構造をなしている。本実施例では、第1の実
施例のような短冊状の軟磁性体4が両端で連続するよう
にし、非磁性金属体3の周囲を1周するように、軟磁性
体4を非磁性金属体3表面に接着させた構造としている
。
を構成するラインの構造の一部分を示す斜視図である。 本実施例の構造においても、3はライン状に形成された
非磁性金属体、4は軟磁性体を示す。また、本実施例で
も、非磁性金属体3のラインは、ストライプ構造あるい
はメアンダ構造をなしている。本実施例では、第1の実
施例のような短冊状の軟磁性体4が両端で連続するよう
にし、非磁性金属体3の周囲を1周するように、軟磁性
体4を非磁性金属体3表面に接着させた構造としている
。
【0013】以上のように構成した実施例の動作および
作用を述べる。
作用を述べる。
【0014】軟磁性体をこのような構造とし、その短冊
状の軟磁性体の形状を細く長い形状、即ち幅Wと長さl
mの間に、 lm≪W …(2) が成り立つような形状にすると、軟磁性体4は反磁場の
影響をほとんど受けなくなり、透磁率も低下せず、軟磁
性体4を付加した効果が十分発揮されて、インダクタン
スを大きくすることができることになる。従って、本実
施例では、メアンダ構造におけるつづら折れの本数を少
なくしても、あるいはストライプ構造としても、十分に
大きな所望のインダクタンスを得ることができるように
なる。これにより、主につづら折れによるライン間に生
じる前述の(1)式における浮遊容量Csを小さくする
ことができ、その(1)式から明らかなように、その共
振周波数frを高い周波数域へ移すことができる。これ
により、本実施例によるインダクタは高い周波数域まで
動作可能となる。
状の軟磁性体の形状を細く長い形状、即ち幅Wと長さl
mの間に、 lm≪W …(2) が成り立つような形状にすると、軟磁性体4は反磁場の
影響をほとんど受けなくなり、透磁率も低下せず、軟磁
性体4を付加した効果が十分発揮されて、インダクタン
スを大きくすることができることになる。従って、本実
施例では、メアンダ構造におけるつづら折れの本数を少
なくしても、あるいはストライプ構造としても、十分に
大きな所望のインダクタンスを得ることができるように
なる。これにより、主につづら折れによるライン間に生
じる前述の(1)式における浮遊容量Csを小さくする
ことができ、その(1)式から明らかなように、その共
振周波数frを高い周波数域へ移すことができる。これ
により、本実施例によるインダクタは高い周波数域まで
動作可能となる。
【0015】以下に、上記作用効果を具体例で示す。こ
こでは、図5,図6で示した従来例と図1に示した第1
の実施例によるインダクタが1メガヘルツにおいて約3
0ナノヘンリのインダクタンスを持つように設計した場
合の、つづら折れの本数N、共振周波数、およびQ値を
比較する。但し、図4におけるライン1の長さlを8ミ
リメートル,そのライン幅Wを500ミクロン,そのラ
イン間隔dを500ミクロンとし、図1における非磁性
金属体3の厚さtcを1ミクロン,軟磁性体4の厚さt
mを1ミクロン,軟磁性体4の短冊状の長さlmを25
ミクロン,同じく短冊状の間隔lcを25ミクロンとし
た。また、非磁性金属体3には比抵抗1.72マイクロ
オームセンチの銅(Cu)を、軟磁性体4には比透磁率
5000,比抵抗120マイクロオームセンチのコバル
トジルコニウム(CoZr)系合金を用いた。
こでは、図5,図6で示した従来例と図1に示した第1
の実施例によるインダクタが1メガヘルツにおいて約3
0ナノヘンリのインダクタンスを持つように設計した場
合の、つづら折れの本数N、共振周波数、およびQ値を
比較する。但し、図4におけるライン1の長さlを8ミ
リメートル,そのライン幅Wを500ミクロン,そのラ
イン間隔dを500ミクロンとし、図1における非磁性
金属体3の厚さtcを1ミクロン,軟磁性体4の厚さt
mを1ミクロン,軟磁性体4の短冊状の長さlmを25
ミクロン,同じく短冊状の間隔lcを25ミクロンとし
た。また、非磁性金属体3には比抵抗1.72マイクロ
オームセンチの銅(Cu)を、軟磁性体4には比透磁率
5000,比抵抗120マイクロオームセンチのコバル
トジルコニウム(CoZr)系合金を用いた。
【0016】図3(a)に、図5に示す従来例のインダ
クタのインダクタンスLと抵抗Rの周波数f特性を示す
。図中の各特性曲線に付した矢印は、それぞれの目盛軸
を指示している。1メガヘルツにおいてインダクタンス
30ナノヘンリを実現するにはつづら折れの本数は10
本必要となる。この時、浮遊容量は0.2ピコファラッ
ドとなり、2ギガヘルツ付近で共振が生じる。100メ
ガヘルツにおけるインダクタンスは30.6ナノヘンリ
、抵抗は2.78オームであり、この時Qは次式Q=2
πfL/R …(3) により、6.9となる。
クタのインダクタンスLと抵抗Rの周波数f特性を示す
。図中の各特性曲線に付した矢印は、それぞれの目盛軸
を指示している。1メガヘルツにおいてインダクタンス
30ナノヘンリを実現するにはつづら折れの本数は10
本必要となる。この時、浮遊容量は0.2ピコファラッ
ドとなり、2ギガヘルツ付近で共振が生じる。100メ
ガヘルツにおけるインダクタンスは30.6ナノヘンリ
、抵抗は2.78オームであり、この時Qは次式Q=2
πfL/R …(3) により、6.9となる。
【0017】図3(b)に、図6に示す従来例のインダ
クタのインダクタンスLと抵抗Rの周波数f特性を示す
。この場合、発生する反磁場のため、見かけ上の比透磁
率は500に低下する。1メガヘルツ,30ナノヘンリ
を実現するにはつづら折れ本数は5本必要となり、この
時浮遊容量は0.1ピコファラッドとなる。共振周波数
は約2.5ギガヘルツであり、100メガヘルツでのイ
ンダクタンスは28.8ナノヘンリ、抵抗は1.38オ
ーム、よってQは13.6となる。
クタのインダクタンスLと抵抗Rの周波数f特性を示す
。この場合、発生する反磁場のため、見かけ上の比透磁
率は500に低下する。1メガヘルツ,30ナノヘンリ
を実現するにはつづら折れ本数は5本必要となり、この
時浮遊容量は0.1ピコファラッドとなる。共振周波数
は約2.5ギガヘルツであり、100メガヘルツでのイ
ンダクタンスは28.8ナノヘンリ、抵抗は1.38オ
ーム、よってQは13.6となる。
【0018】図3(c)に、図1に示す本実施例のイン
ダクタのインダクタンスLと抵抗Rの周波数f特性を示
す。前述したように、本実施例では、反磁場の影響をほ
とんど無視できるため、比透磁率は本来の5000のま
まであり、つづら折れ本数1本すなわちストライプ構造
のラインのみで1メガヘルツ,30ナノヘンリが実現さ
れる。ストライプ構造では、構造上、ライン間に生じる
浮遊容量はゼロとなるが、実際には空間に有限の浮遊容
量が生じ、この場合0.005ピコファラッドであった
。図3(c)に見られるように、共振周波数は10ギガ
ヘルツ以上となり、また100メガヘルツでのインダク
タンスLは29.6ナノヘンリ、抵抗Rは0.275オ
ーム、Qは67.6となる。なお、ほとんどの周波数で
抵抗は1オーム以下であるため、図3(c)では、抵抗
のデータは10ギガヘルツ付近に現れるだけである。
ダクタのインダクタンスLと抵抗Rの周波数f特性を示
す。前述したように、本実施例では、反磁場の影響をほ
とんど無視できるため、比透磁率は本来の5000のま
まであり、つづら折れ本数1本すなわちストライプ構造
のラインのみで1メガヘルツ,30ナノヘンリが実現さ
れる。ストライプ構造では、構造上、ライン間に生じる
浮遊容量はゼロとなるが、実際には空間に有限の浮遊容
量が生じ、この場合0.005ピコファラッドであった
。図3(c)に見られるように、共振周波数は10ギガ
ヘルツ以上となり、また100メガヘルツでのインダク
タンスLは29.6ナノヘンリ、抵抗Rは0.275オ
ーム、Qは67.6となる。なお、ほとんどの周波数で
抵抗は1オーム以下であるため、図3(c)では、抵抗
のデータは10ギガヘルツ付近に現れるだけである。
【0019】これらの特性を表1にまとめると次の通り
である。
である。
【0020】
【表1】
【0021】この表によっても明らかなように、本実施
例によるインダクタは、従来例によるインダクタに比べ
て、大きなインダクタンスを持ったまま共振周波数を高
くすることができるという改善が可能である。
例によるインダクタは、従来例によるインダクタに比べ
て、大きなインダクタンスを持ったまま共振周波数を高
くすることができるという改善が可能である。
【0022】なお、図2の第2の実施例では、軟磁性体
が短冊状となっている例を示したが、この軟磁性体が図
4に示すl方向に連続的につながっていても構わない。 このように本発明は、その主旨に沿って種々に応用され
、種々の実施態様を取り得るものである。
が短冊状となっている例を示したが、この軟磁性体が図
4に示すl方向に連続的につながっていても構わない。 このように本発明は、その主旨に沿って種々に応用され
、種々の実施態様を取り得るものである。
【0023】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
高周波インダクタは、大きなインダクタンスを持ったま
ま、共振周波数を高くすることができるため、高周波動
作が可能であるという利点がある。また、同じ大きさの
インダクタンスを得るのに従来のものと比較し、つづら
折れの本数が少なくて済むため、抵抗が下がることによ
る高Q化および部品のマイクロ化が可能になるという利
点がある。
高周波インダクタは、大きなインダクタンスを持ったま
ま、共振周波数を高くすることができるため、高周波動
作が可能であるという利点がある。また、同じ大きさの
インダクタンスを得るのに従来のものと比較し、つづら
折れの本数が少なくて済むため、抵抗が下がることによ
る高Q化および部品のマイクロ化が可能になるという利
点がある。
【図1】本発明の第1の実施例のインダクタのライン構
造を示した斜視図
造を示した斜視図
【図2】本発明の第2の実施例のインダクタのライン構
造を示した斜視図
造を示した斜視図
【図3】(a),(b),(c)は上記第1の実施例の
インダクタの特性を従来例のインダクタの特性との比較
で示した図
インダクタの特性を従来例のインダクタの特性との比較
で示した図
【図4】メアンダ構造のインダクタの全体を示す斜視図
【図5】第1の従来例のライン構造を示す斜視図
【図6
】第2の従来例のライン構造を示す斜視図
】第2の従来例のライン構造を示す斜視図
1…ライン、2…電極、3…非磁性金属体、4…軟磁性
体。
体。
Claims (2)
- 【請求項1】 非磁性金属体によりストライプ構造あ
るいはメアンダ構造の非磁性金属体ラインを形成し、該
非磁性金属体ラインの表面に前記非磁性金属体を挟むよ
うに短冊状の軟磁性体を複数接着したことを特徴とする
高周波インダクタ。 - 【請求項2】 非磁性金属体によりストライプ構造あ
るいはメアンダ構造の非磁性金属体ラインを形成し、該
非磁性金属体ラインの表面に前記非磁性金属体の周囲を
1周するように軟磁性体を接着したことを特徴とする高
周波インダクタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14914191A JPH04372104A (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 高周波インダクタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14914191A JPH04372104A (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 高周波インダクタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04372104A true JPH04372104A (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=15468660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14914191A Pending JPH04372104A (ja) | 1991-06-21 | 1991-06-21 | 高周波インダクタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04372104A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0888119A (ja) * | 1994-09-16 | 1996-04-02 | Toshiba Corp | 薄膜インダクタンス素子およびその製造方法 |
CN104036919A (zh) * | 2014-06-05 | 2014-09-10 | 合肥顺昌分布式能源综合应用技术有限公司 | 一种高频感应全桥谐振电感装置及其制作方法 |
-
1991
- 1991-06-21 JP JP14914191A patent/JPH04372104A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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