JPH04364242A - 光記録媒体用基板シートの成型ロール、光記録媒体用基板シートの製造装置及び光記録媒体用基板シートの製造方法とそれによって製造された光記録媒体用基板シート、及び光記録媒体の製造方法 - Google Patents

光記録媒体用基板シートの成型ロール、光記録媒体用基板シートの製造装置及び光記録媒体用基板シートの製造方法とそれによって製造された光記録媒体用基板シート、及び光記録媒体の製造方法

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JPH04364242A
JPH04364242A JP3249203A JP24920391A JPH04364242A JP H04364242 A JPH04364242 A JP H04364242A JP 3249203 A JP3249203 A JP 3249203A JP 24920391 A JP24920391 A JP 24920391A JP H04364242 A JPH04364242 A JP H04364242A
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哲也 佐藤
Osamu Shikame
修 鹿目
Hisanori Hayashi
林 久範
Hirofumi Kamitakahara
上高原 弘文
Hitoshi Yoshino
斉 芳野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザービームなどの光
により反射率などの光学特性を変化させて情報の記録・
再生を行う光ディスク・光カード等の高密度情報記録媒
体の基板を連続的に製造するための成型ロールに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来光記録媒体としては情報の記録・再
生を行う光、例えば半導体レーザー等に対して透明な基
板上に記録層を設けこれに保護層を積層して形成されて
いる。この光記録媒体用基板の表面には通常トラッキン
グ用の溝、アドレス情報ピットなどのミクロンオーダー
或いはサブミクロンオーダーの微細なプリフォーマット
が刻設されている。従来これらのプリフォーマットを形
成する方法として例えばインジェクション成型法やコン
プレッション成型法が知られている。しかし、これらの
方法は量産性とコストを満足させることが困難であった
【0003】そこでこれらを満足させる方法として本出
願人は欧州公開特許369780号及び欧州公開特許3
69781号に於いて樹脂を熔融して押し出して樹脂シ
ートを成型し該成型樹脂シートを成型ロールとそれに対
向配置されたロールとで挟圧してプリフォーマットを転
写する光記録媒体用基板シートの製造方法を開示してい
る。
【0004】そしてこれらの方法によればポリカーボネ
ートの様に複屈折の生じ易い樹脂を用いてもプリフォー
マットの転写性に優れ且つC/N値の劣化の原因となる
複屈折の小さい光記録媒体用基板シートを連続的に製造
することができる。
【0005】しかし上記の製法について種々検討したと
ころ成型時の条件例えばエクストルーダーの加熱温度や
成型ロール、鏡面ロールの加熱温度更には成型時の室温
等のわずかな変化によって基板シートの複屈折値及び転
写精度が変化してしまうという課題を見出だした。この
様な複屈折や転写精度の変動は例えそれが許容範囲内で
あっても光記録媒体の性能を安定させる上で好ましくな
いものである。
【0006】そして本発明者らが前記課題について詳細
に検討を行った結果、例えば図8に示す上記欧州公開特
許369780号に記載した様な3本のロールを用いた
光記録媒体用基板シートの成型の場合、高品質の基板シ
ートを得るためにはT−ダイ81から押出された成型樹
脂シート82は第1ロール83と成型ロール84とで挟
圧される時点では複屈折が生じない様に(樹脂に加わる
応力が固定されない様に)且つ転写性を向上させる為に
熔融状態に近い状態に維持され、又成型ロール84から
第3ロール85にスムーズに成型樹脂シートを移行させ
る際には成型樹脂シートが成型ロールに固着しない様に
冷却されていることが必要であるが、従来はこれを成型
条件の調整によって達成していた為高品質な光記録媒体
用基板シートの成型時の条件のマージン特に樹脂温度や
成型ロールの温度が低温側にシフトしたときのマージン
が小さかったことを見いだした。
【0007】
【発明が解決しようとしている課題】本発明は上記問題
点に鑑みなされたものであって光記録媒体用基板シート
のプリフォーマットの転写精度及び低複屈折性を成型条
件の変動によっても高いレベルで維持することのできる
成型ロールを提供することを目的とするものである。
【0008】また本発明は成型条件の変動によってもプ
リフォーマットの転写精度や複屈折性が変化せず安定し
て光記録媒体用基板シートを製造することのできる光記
録媒体用基板の製造装置を提供することを他の目的とす
る。
【0009】更に本発明はプリフォーマットの転写精度
に優れ且つ低複屈折の光記録媒体用基板を安定して製造
する際の成型条件に余裕(マージン)を持たせることの
できる光記録媒体用基板の製造方法を提供することを更
に他の目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の成型ロー
ルは、樹脂を熔融して押し出し成型した樹脂シートにプ
リフォーマットパターンを転写し光記録媒体用基板シー
トを成型する為の成型ロールに於いて、該成型ロールは
ロール基材及び該ロール基材周面に着脱可能に固定され
てなるスタンパーを具備し、且つ、該ロール基材と該ス
タンパーの間に樹脂層を備えることを特徴とする。
【0011】又、本発明の成型ロールは、樹脂を熔融し
て押し出し成型した樹脂シートにプリフォーマットパタ
ーンを転写し光記録媒体用基板シートを成型するための
成型ロールに於いて、該成型ロールはロール基材と該ロ
ール基材の周面に着脱可能に固定されてなるスタンパー
を該ロール基材の周方向に複数個具備すると共に、該ロ
ール基材と各々のスタンパーとの間に樹脂層を備え、且
つ該樹脂層は各々のスタンパーの厚みに応じた固有の厚
みを有することを特徴とする。
【0012】本発明の光記録媒体用基板シートの製造装
置は、樹脂を熔融して押出し樹脂シートを成型する手段
及び該樹脂シートを挟圧して樹脂シート表面にプリフォ
ーマットを転写するための成型ロール及び該成型ロール
に対向配置されてなる鏡面ロールを有する光記録媒体用
基板シートの製造装置に於いて、該成型ロールがロール
基材及び該ロール基材周面に着脱可能に固定されてなる
スタンパーを具備し且つ該ロール基材と該パターンの間
に樹脂層を備えた成型ロールであることを特徴とする。
【0013】本発明の光記録媒体用基板シートの製造方
法は、熔融樹脂を押し出して樹脂シートを成型する工程
、該樹脂シートを成型ロールと該成型ロールに対向配置
されてなる鏡面ロールとで挟圧して樹脂シートの表面に
プリフォーマットを転写する工程を有する光記録媒体用
基板シートの製造方法に於いて、該成型ロールとしてロ
ール基材及び該ロール基材周面に着脱可能に固定されて
なるスタンパーを具備し且つ該ロール基材と該スタンパ
ーの間に樹脂層を備えた成型ロールを用いることを特徴
とする。
【0014】又、本発明の光記録媒体用基板シートの製
造装置は樹脂を熔融して押出し樹脂シートを成型する手
段及び該樹脂シートを挟圧して樹脂シート表面にプリフ
ォーマットを転写する為の成型ロール及び該成型ロール
に対向配置されてなる鏡面ロールを有する光記録媒体用
基板シートの製造装置に於いて、該成型ロールがロール
基材と該ロール基材の周面に着脱可能に固定されてなる
スタンパーを該ロール基材の周方向に複数個具備すると
共に該ロール基材と各々のスタンパーとの間に樹脂層を
備え且つ該樹脂層は各々のスタンパーの厚みに応じた固
有の厚みを有する成型ロールであることを特徴とする。
【0015】更に本発明の光記録媒体用基板シートの製
造方法は、熔融樹脂を押し出して樹脂シートを成型する
工程、該樹脂シートを成型ロールと該成型ロールに対向
配置されてなる鏡面ロールとで挟圧して樹脂シートの表
面にプリフォーマットを転写する工程を有する光記録媒
体用基板シートの製造方法に於いて、該成型ロールとし
てロール基材と該ロール基材の周面に着脱可能に固定さ
れてなるスタンパーを該ロール基材の周方向に複数個具
備すると共に該ロール基材と各々のスタンパーとの間に
樹脂層を備え、且つ該樹脂層は各々のスタンパーの厚み
に応じた固有の厚みを有する成型ロールを用いることを
特徴とする。
【0016】本発明の光記録媒体用基板シートは、樹脂
を熔融して押出し樹脂シートを成型する手段及び該樹脂
シートを挟圧して樹脂シート表面にプリフォーマットを
転写するための成型ロール及び該成型ロールに対向配置
されてなる鏡面ロールを有し、該成型ロールがロール基
材及び該ロール基材周面に着脱可能に固定されてなるス
タンパーを具備し且つ該ロール基材と該スタンパーの間
に樹脂層を備えた成型ロールである光記録媒体用基板シ
ートの製造装置で成型されてなることを特徴とする。
【0017】即ち、本発明によればスタンパーとロール
基材間の樹脂層が断熱層として機能し成型時の温度条件
の変動特に低温側への変動に対しても第1ロールと成型
ロールの挟圧時に成型樹脂シートから成型ロールへの熱
の移動が阻害され、挟圧点に於いて成型樹脂シートの高
温状態を維持できるため熔融粘度の急激な低下も抑制さ
れ成型樹脂シートのスタンパーへの追従性や内部歪みの
固定化も生じず高品質の基板シートを得ることができる
ものである。
【0018】ところで従来、単にスタンパをロール基材
に固定する目的で接着を行い、結果として樹脂層が形成
されるものがある。しかしながらこの接着層は、極めて
薄いものであって、又、接着層の厚みを任意の厚みに設
定することが難しく、同時に厚みの均一性を保つのが困
難である。さらにスタンパとロール基材は着脱可能でな
く、スタンパだけの交換が難しい欠点があり、かかる成
型ロールには本願発明の目的、構成及び効果について一
切開示されていない。
【0019】次に本発明を図1、図2及び図3を用いて
詳細に説明する。
【0020】図1及び図2は、本発明の光記録媒体の樹
脂基板成型用成型ロールの1実施形態を示す模式的断面
図及び斜視図である。
【0021】図1、図2において、本発明の成型ロール
3は、周面が鏡面のロール基材11に表面にプリフォー
マットパターン15を有するスタンパー13が該スタン
パー裏面に固定された固定具14とロール基材に形成さ
れた固定具と係合する溝によって着脱可能に固定されて
おり、スタンパー13とロール基材11の間に樹脂層1
2を備えている。
【0022】また図3は本発明の成型ロール3を用いた
光記録媒体用基板シートの成型装置の一実施態様を示し
たものであって、31はエクストルーダー、32はTダ
イ、33はTダイより熔融押出しされた成型樹脂シート
で34及び35は第1及び第2の鏡面ロールである。そ
して成型樹脂シート33は熔融状態でロール34と成型
ロール3で挟圧されてプリフォーマットが転写されるこ
とにより光記録媒体用基板シートが形成されるものであ
る。
【0023】そして本発明の成型ロール3に於いて樹脂
層12としては、例えば基板材料としてポリカーボネー
トを用いた場合、成型ロール3および鏡面ロール34、
35の温度は、90℃〜150℃にする必要があり、押
し出し機から押し出されるポリカーボネートの温度は、
300℃前後になるため、少なくとも200℃以上の耐
熱性を有することが望ましい。なおここで耐熱性とは、
ロール基材とスタンパー間にあって、基板シート成型時
樹脂層が200℃で熔融変形、分解、その他機械物性変
化等を少なくとも2時間好ましくは50時間にわたって
生じないものである。
【0024】また樹脂層12とロール基材11及び樹脂
層12とスタンパー13の間に間隙が生じた場合、成型
ロール表面の熱分布が不均一となり基板シートの成型不
良の原因となるため樹脂層12のロール基材11及び/
又はスタンパー12に接する面の表面粗さはできるだけ
小さく具体的には1μm以下、好ましくは0.5μm以
下更に好ましくは0.2μm以下とすることが好ましく
、更に成型樹脂シートを挟圧したときにスタンパーがロ
ール基材上でズレを生じない様に樹脂層の引張伸びを2
00%以下、好ましくは180%以下更に好ましくは1
50%以下とすることが良い。また引張り弾性率を20
0〜1000kg/mm2とすることが好ましい(試験
法はASTM  D−882に準ずる)。
【0025】そしてこの様な樹脂層12に用いられる材
料としては上記の条件を満たすものであれば種々の樹脂
を用いることができるが、ポリイミド、フッ素樹脂、ポ
リエーテル・エーテルケトン(PEEK)、ポリエーテ
ルサルフォン(PES)やポリパラバン酸樹脂、ポリフ
ェニレンオキサイド、ポリアリレート樹脂更にはエポキ
シ樹脂を用いた場合樹脂層へのプリフォーマットパター
ンの転写を極めて高精度に行うことができると共に基板
シートの複屈折を低減させることができ、更に成型条件
の変動が基板シートに及ぼす影響を特に抑制することが
できる。中でもポリイミドはその効果が大きく本発明に
於いて特に好適に用いることができる。
【0026】なお、これらの樹脂が本発明に於いて好適
に用いられる理由は明らかでないが、熱伝導率や弾性率
伸び等の種々の物性が総合的に作用して優れた効果を奏
するものと考えられる。
【0027】そして上記の樹脂について更に具体的には
、ポリイミド樹脂としては、例えばピロメリット酸無水
物に代表される芳香族ジカルボン酸無水物とジアミノジ
フェニルエーテルに代表される芳香族ジアミンを原料と
し下記一般式で示される樹脂が挙げられる。
【0028】
【外1】
【0029】フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロ
エチレン(PTFE)、ポリモノクロルトリフルオロエ
チレン(PCTFE)、ポリビニリデンフルオライド(
PVDF)、ポリビニルフルオライド(PVF)などの
ホモポリマーの他にテトラフルオロエチレンパーフルオ
ロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、フロリ
ネーテッドエチレンプロピレン共重合体(FEP)など
のコポリマーが挙げられる。
【0030】また、PEEKは、下記一般式で示される
ポリマーである。
【0031】
【外2】
【0032】更にPESは下記一般式で示されるポリマ
ーである。
【0033】
【外3】
【0034】更にまたエポキシ樹脂としては、ビスフェ
ノールAとエピクロルヒドリンを原料として用いたもの
、環状脂肪族を原料としたものやポリブタジエンから誘
導される分子量5000以上好ましくは8000以上程
度のものが挙げられる。
【0035】次にポリパラバン酸樹脂(PPA)は下記
一般式で示されるポリマーである。
【0036】
【外4】
【0037】また、ポリフェニレンサルファイド(PP
S)は下記一般式で示されるポリマーである。
【0038】
【外5】
【0039】更にポリアリレート(PA)は芳香族ジカ
ルボン酸とビスフェノールとの重縮合反応によってつく
られる芳香族ポリエステル樹脂でありビスフェノールと
して例えばビスフェノールAを用いた場合下記一般式で
示される構造を有する。
【0040】
【外6】
【0041】また用いる樹脂シート或いは形成した塗工
膜中に可塑剤等の第3成分を含有していてもよいがその
含有量は5%以下、特に3%以下とすることが好ましい
【0042】そしてこの様な材料は市販されているもの
の中から適宜選択して用いればよく後述する本発明の成
型ロールの製造方法によっても異なるが樹脂層としてポ
リイミドのシートを用いる場合例えば商品名:カプトン
(デュ・ポン社製)、商品名:ユーピレックス−S及び
−R(宇部興産(株)製)等が挙げられる。
【0043】フッ素樹脂のシートの場合PTFEとして
は商品名:ニトフロン(日東電工(株)製)、PCTF
Eとしては商品名:ネオフロンCTFE(ダイキン工業
(株)製)、PVdFとしては商品名:KFフィルム(
呉羽化学(株)製)や商品名:KYNAR(三菱油化(
株)、日本ペン・ウォルト社製)、PVFとしては商品
名:Tedlar(デュ・ポン社製)、PFAとしては
商品名:ネオフロンPFA(ダイキン工業(株)製)、
商品名:テフロンPFA(三井フロロケミカル(株)製
)、FEPとしては商品名:ネオフロンFEP(ダイキ
ン工業(株)製)、商品名:テフロンFEP(デュ・ポ
ン社製)等が挙げられる。
【0044】またPEEKのシートとしては商品名:T
ALPA−2000(三井東圧化学(株)製)、商品名
:エスペックス(住友化学工業(株)製)、更にPES
のシートとしては商品名:TALPA−1000(三井
東圧化学(株)製)、商品名:スミライトFS−530
0(住友ベークライト(株)製)、ポリパラバン酸樹脂
のシートとしては商品名:ソルダックス(東燃石油化学
(株)製)、ポリフェニレンサルファイドのシートとし
ては商品名:トレリナ(東レ(株)製)、ポリアリレー
トのシートとしては商品名:エンブレート(ユニチカ(
株)製)、商品名:エルメック(鐘渕化学(株)製)な
どを用いることができる。
【0045】更に樹脂層12をスタンパー12の裏面及
び/又はロール基材11の周面に塗工膜として形成する
場合には、例えばポリイミドの場合、商品名:LARC
−TP1(三井東圧化学(株)製)が使用可能である。
【0046】次に樹脂層12の厚みとしては、10〜5
00μmが適当であり、特に20〜220μm更には5
0〜200μmが好ましい。即ちこれにより樹脂層は成
型樹脂シートに対して断熱層として機能する一方でスタ
ンパーを恒温に保つためのロール基材11からスタンパ
ー12への熱の供給を阻害せず且つロール基材上でのス
タンパーのズレも防止できる。
【0047】更にいえば本発明の成型ロールの断熱効果
はスタンパー13の厚さによっても変化するため金属製
のスタンパーを用いる場合樹脂層12の厚さは、上述の
範囲内でスタンパーの厚さを基準として0.1〜2倍、
特に0.2〜1倍に設定することが好ましい。
【0048】次に本発明の成型ロール3の製造方法につ
いて図4乃至図7を用いて説明する。図4は本発明の第
1の代表的な実施態様であり、ロール11とスタンパ1
3の間に樹脂シート41を介したものであり、該樹脂シ
ートはスタンパー12とロール基材11で挾持されて成
型ロールに保持され樹脂層12を構成している。本構成
によれば、樹脂シートによって断熱効果を発揮すること
ができるとともに、シートであるという点で比較的厚い
(例えば75〜200μm)樹脂層12を設ける場合、
取扱いが簡便でまた樹脂層の厚さをシートの厚さで制御
することができ、そして樹脂シートの厚さの変更のみで
成型ロールの断熱効果を容易に調整でき、例えば成型樹
脂シートの材料を変更する場合や厚さの異なるスタンパ
ーへの交換する場合にもその樹脂材料やスタンパーに応
じた断熱効果を樹脂シートの厚さの選択によって最適化
することが可能であるという利点が有る。
【0049】図5及び図6は本発明の成型ロールの第2
及び第3の代表的な実施態様であり図5はスタンパ13
のプリフォーマットパターン形成面と反対側の面(裏面
)に樹脂層12を塗工膜51として形成した態様であり
、図6はロール基材11の表面とスタンパ13の裏面に
各々樹脂膜を塗工膜61及び62として形成し、両者を
密着させることで樹脂層12とした態様である。これら
の構成は樹脂層をあらかじめスタンパあるいはロール基
材の周面に形成しておくため、ロール基材へスタンパを
装着する際にゴミ等の混入を低下させることができ、成
型シートの欠陥が少なくなり品質歩留りを向上させるこ
とができ、又、シートの場合の様に両面の表面粗さを考
慮する必要が無い。ところで上記図4〜図6の態様は図
9に示すようにロール基材11の周面に、その周方向に
複数個のスタンパを装着する場合にも極めて有効である
。即ちスタンパ13の厚さは例えば200μmとなる様
に製造されるが、製造工程で±25μmの誤差が生じ易
い。
【0050】そして厚さの異なるスタンパーをロール基
材の周方向に複数個配置した場合、各々のスタンパー配
置部位で成型樹脂シートに対する熱容量が変化し、また
成型ロールと第1ロールとのギャップが各スタンパごと
に変化するため樹脂シートに加わる圧力が変化してしま
い基板シートの転写精度及び複屈折性の不安定化の要因
となるが、本発明の図4〜図6に示す態様の成型ロール
の場合スタンパ13の厚みに応じて樹脂層12の厚さを
固有に設定できるため熱容量の均一化、成型ロール3の
真円度を調整でき高品質な光記録媒体用基板シートを安
定して量産するうえで特に好ましい。
【0051】また図7はロール基材11の表面に樹脂層
を塗工膜として形成した態様である。図7の態様におい
てはロール面に樹脂層71を形成するため、スタンパの
交換を要する場合有利である。
【0052】図5、図6、図7の態様では、樹脂層がス
タンパあるいはロール面に密着しているため、成型時、
樹脂層の位置ずれなどが発生し、成型シートの均質性が
損なわれることが少ない。更にスタンパ13を鏡面ロー
ル11の周面に固定して成型ロールを構成する方法とし
ては、図1に示す様に例えばスタンパ13の両端に固定
具14をレーザー等で溶接し、さらにロール基材11に
固定具と係合可能な溝を形成し、この溝に固定具を嵌合
して固定する方法がある。この他にも図9に示す様にネ
ジどめやバネ等により固定しても良く、スタンパー13
と樹脂層12及びロール基材11が互いに密着性良く固
定できている限り、その手段は問わない。
【0053】本発明におけるロール基材11は硬度が高
く熱伝導率が良くまた周面の鏡面加工の容易なものが好
ましく、例えば鉄鋼、クロム鋼、アルミニウム、金型用
鋼(マルエージング鋼)等を用いることができる。そし
てロール基材周面の加工精度は、成型する光記録媒体基
板の面精度とほぼ同じかまたはそれよりも良い面精度、
例えば1μm以下、好ましくは0.5μm以下、更に好
ましくは0.2μm以下に加工する事が好ましい。また
必要に応じて表面に窒化チタンなどの硬化膜やクロムメ
ッキなどのメッキを施すことも可能である。そしてロー
ル基材11の直径としては100〜500mm、特に2
00〜400mm程度に設定される。
【0054】スタンパ13は、一般にCD(コンパクト
ディスク)などに用いられている製法で作製することが
でき、具体的には、例えばガラス原盤にレジストを塗布
して、パターンを露光、現像してから、ニッケルをスパ
ッタで成膜して、電鋳して所定の厚さまでニッケルを析
出させた後原盤から剥離してスタンパを得ることができ
る。こうして得られたスタンパを第2原盤としさらに孫
スタンパを作製しても良い。
【0055】スタンパの厚みはスタンパ13をロール1
1に沿う様に、一般にインジェクションに用いられてい
るものよりも、薄いものが好ましくその範囲としては1
0〜300μm程度、より好ましくは30〜200μm
である。
【0056】またスタンパー13に形成されるプリフォ
ーマットパターンとしては具体的には例えば幅1μm〜
4μm、ピッチ1μm〜20μm、深さ200オング〜
5000オング程度のスパイラル状や同心円状あるいは
ストライプ状の光ディスクや光カード用のトラッキング
溝に対応するパターンや幅0.6μm〜10μm、長さ
0.6〜20μm、深さ200〜5000オング程度の
アドレスピット等に対応するパターンが挙げられる。
【0057】次に本発明の成型ロールを用いた光記録媒
体用基板シートの製造方法について詳細に説明する。
【0058】即ち前出の図3に於いて先ず押出しエクス
トルーダー31に投入された樹脂ペレットはエクストル
ーダー31のバレルの中で加熱溶融されエクストルーダ
ー内のスクリューによって加圧されT−ダイ32によっ
てシート状に賦形される。T−ダイは樹脂シートが成型
ロール3と鏡面ロール34の間に押出されるように配置
されるのが、プリフォーマットを正確に転写でき好まし
い。
【0059】次いでT−ダイから押出される成型樹脂シ
ートは成型ロール3と鏡面ロール4に挾圧されてプリフ
ォーマットが転写される。このとき成型樹脂シート2は
極めて溶融状態に近いことが好ましい。即ちスタンパー
の凹凸の中に樹脂が十分に圧入されるため微細なパター
ンが正確に転写されるからである。そのためT−ダイの
温度は樹脂が分解しない範囲でなるべく高温に加熱して
おくことが好ましく成型樹脂のガラス転移温度(以後T
gと略)+110℃〜Tg+200℃特にTg+130
℃〜Tg+190℃が好ましい。例えばポリカーボネー
ト樹脂の場合260℃〜340℃特に280℃〜330
℃更に290℃〜320℃に加熱するのが好ましく、更
にT−ダイ32と成型ロールの間で樹脂シートが冷却さ
れた場合プリフォーマットが十分転写されず複屈折が生
じ易くなる為T−ダイ32と成型ロール3及び1番目の
鏡面ローラー34との挾圧点との距離は20cm以下、
特に15cm以下更には10cm以下が好ましく、又そ
の間の周辺雰囲気の温度は60℃以上であることが望ま
しい。
【0060】また樹脂シートを挾圧点に正確に押出され
るようにT−ダイの鉛直下方に挾圧点がくる図3に示す
ような垂直押出しの構成をとることが好ましい。これは
樹脂が溶融状態に近いため水平押出しよりも垂直押出し
の方がより正確に挾圧点に押出すことができるためであ
る。
【0061】また成型ロール3及び鏡面ロール34、3
5の表面温度としては用いる樹脂によって異なるが、例
えばポリカーボネートを用いる場合通常成型ロール3の
温度はポリカーボネートの熱変形温度を考慮して110
℃〜145℃、第1の鏡面ロールは90℃〜135℃、
第3の鏡面ロールは120℃〜150℃に設定され、ま
たアモルファスポリオレフィンを用いる場合成型ロール
3温度は120℃〜145℃、第1の鏡面ロールは10
0℃〜135℃、又は第3の鏡面ロールは120℃〜1
50℃に設定され、本発明によればこの範囲で設定温度
が変動してもプリフォーマットの転写精度や複屈折性が
大きく変動せず均質で優れた光記録媒体用基板シートを
製造できる。またこれらのロールの温度は例えばロール
に鋳込まれたヒーターによって加熱したり中心部に熱媒
を循環させることによって制御される。
【0062】また本発明に於いて図3に示す様に3本の
ロールを用いて成型する場合成型ロール3の回転速度(
周速度)と第3番目の鏡面ロール35の回転速度(周速
度)の比を調整することは基板シートの複屈折の低減、
プリフォーマットパターンの転写性の向上、更には基板
シートの平面性を向上させるために有効であり、成型ロ
ール3及び鏡面ロール35の回転速度を各々ω3及びω
35とするとその速度比ω3/ω35は1.0<ω3/
ω35≦1.004、特に1.001≦ω3/ω35≦
1.003更には1.001≦ω3/ω35≦1.00
25とすることが好ましい。
【0063】こうして表面にプリフォーマットパターン
が転写され、裏面には鏡面が転写された光記録媒体用基
板シートは枚葉に切断された後光記録層、保護層等を順
次形成して光記録媒体を得られる。あるいはシート状の
まま連続的な光記録層、保護層の形成、更には光記録媒
体用基板シートの鏡面転写面に連続的にハードコート層
を形成の後、切断して光記録媒体を得るものである。
【0064】次に、基板材料として用いる樹脂としては
熱可塑性樹脂であり、記録・再生用の光に対して透過率
の高いものが好ましく、例えば、アクリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポ
リスルホン樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース誘導
体などが挙げられる。
【0065】なお本発明に於いて着脱可能とは着脱する
際に両者の界面において実質的に分離する力を必要とし
ないことを意味する。
【0066】
【実施例】次に本発明を実施例を用いて更に詳細に説明
する。
【0067】実施例1 直径300mm幅400mmの鉄製ロール周面に厚さ0
.3mmにCrメッキし、その表面を鏡面仕上げして表
面粗さを0.1μmとしてロール基材11とした。そし
て該ロール基材に図10に示す様に固定具14が係合す
る。上底10.05mm、下底15.05mm、高さ5
mmの台形状の溝101を4本形成した。
【0068】一方スタンパーは、以下の様にして作製し
た。先ず一辺の長さが300mm、厚さ10mmのガラ
ス原盤に、フォトレジスト(商品名:AZ−1300;
ヘキストジャパン社製)を300nmの厚さに塗布した
。次いでグルーブ幅3μm、ピッチ12μm深さ250
0Å角度(x)60°の断面が台形状で光カード用トラ
ック溝2583本に対応するプリフォーマットパターン
を、前記レジスト層の表面における4つの80mm×3
0mm領域内にレーザカッティング機により描画し、現
像処理後、レジスト層上にNiをスパッタリングにより
100nm成膜した。こののち、電鋳によりNiをさら
に200μmの厚さに付着させた後、Ni膜をレジスト
層から剥離して、プリフォーマットパターンの転写され
ていない裏面を鏡面研磨して厚さを150μm、裏面の
表面粗さを0.1μmに仕上げ、スタンパー13を形成
した。
【0069】次にスタンパー13の両端部裏面に上辺が
10mm、下辺が15mm、高さが5mm長さ300m
mのステンレス製の2本の固定具14をレーザー溶接し
てスタンパー13と一体とした。
【0070】このスタンパー13の裏面に厚さ100μ
mのテトラフルオロエチレンポリマーのシート(商品名
:ニトフロン;日東電工(株)製、耐熱温度260℃)
を密着させ先に作製したロール基材11の溝101に、
固定具14を挿入し、スタンパーを鏡面ロールに固定し
成型ロールとした。全く同様にして、もう1枚スタンパ
ーをロール基材11に固定し、図1に示す成型ロールを
作製した。
【0071】この成型ロール3を図3に示す成型装置に
取り付けエクストルーダー31(商品名:SHT90;
日立造船(株)製)からポリカーボネート(パンライト
L−1225;帝人化成製)を押し出して厚さ0.4m
m幅30cmの光カード用基板シートを成型した。
【0072】なお成型条件は、T−ダイ32の温度30
0℃成型ロールの表面温度140℃、成型樹脂シートの
搬送速度3m/分とし成型ロール3と鏡面ロール35の
周速の比1.001となる様に設定し、5時間成型を行
なった。こうして得た基板シートの各プリフォーマット
転写部の9ケ所の複屈折率を測定したところその平均値
は10nmであった。また転写精度については、プリフ
ォーマットパターン転写部の9ケ所のトラック溝方向に
垂直な方向の断面形状を電子線表面形態解析装置(商品
名:ESA−3000;エリオニクス(株)製)で観測
し、図11に示す様に基板シートのグルーブ転写部のラ
ンド部の幅をa、図12に示す様にスタンパーのグルー
ブ形成用の凹部の下底の幅をAとしたときのa/Aの値
の平均値で評価した。その結果各測定部位に於てa/A
は0.97であって極めて優れた転写精度の光記録媒体
用基板シートを得られた。
【0073】更に基板シートの厚みムラは10μm以下
で光カード用基板の規格内であった。なお、複屈折の測
定は、ポーラリメータ(SP−224型;神港精機(株
)製)を用いて、波長830nmスポット径1μmの光
で測定しシングルパスの値で評価したものである。
【0074】次に成型ロールの表面温度を130℃〜1
50℃の間で5℃の間隔で変化させた以外は前記の条件
で光カード用基板シートの成型を行なった。(但し成型
ロール温度が140℃とした場合を除く)このときの基
板シートのプリフォーマットパターンの転写精度及び複
屈折を各々前記した方法で測定し評価した。その結果と
して転写精度(a/A)の平均値、複屈折率の平均値を
表−1に示す。
【0075】又、そのプロットを図13及び図14に示
す。
【0076】
【表1】
【0077】比較例1 実施例1に於てスタンパーとロール基材の間に樹脂層を
介さない、成型ロールを作製した。そして成型ロールの
表面温度を150℃とした以外は実施例1と同様にして
基板シートの成型を行なった。得られた基板シートにつ
いて実施例1と同様にして評価した結果、複屈折は平均
8nmであった。又転写精度としてa/Aは平均0.9
0であった。次いで実施例1と同様にして成型ロールの
温度を130℃から150℃の間で5℃の間隔で変化さ
せたときの転写精度及び複屈折の値を表−2に示す。
【0078】又各々の平均値を図13、及び15に示す
【0079】
【表2】
【0080】上記実施例1及び比較例1の結果から分る
様に本発明の成型ロールはその温度が130℃〜150
℃の間で変動しても常に高品質の光記録媒体用基板シー
トを成型でき成型条件のマージンを拡大することができ
た。
【0081】実施例2 実施例1と同じ様にスタンパーとロール基材を作成し、
このスタンパーに、厚み75μmのポリイミドシート(
商品名ユーピレックスR、宇部興産社製、耐熱温度40
0℃伸び率130%、引っ張り弾性率380kg/mm
2(25℃))を密着させ、実施例1と同様に鏡面ロー
ル基材に取り付け、成型ロールとする。この成型ロール
を用いて実施例1と同様にして光カード用基板シートを
成型した。但し樹脂シートの搬送速度は4m/分、成型
ロールの温度は130℃、140℃及び150℃と変化
させて3種類の基板シートを成型した。得られた基板シ
ートについて実施例1と同様にして評価した結果を表−
3に示す。
【0082】又基板シートの厚みムラは最大10μmで
あった。
【0083】なお実施例2以降基板シートの複屈折及び
転写精度の評価は下記の基準に従って行なった。
【0084】
【表3】
【0085】実施例3 直径300mm幅400mmの鉄製ロール周面に厚さ0
.1mmのCrメッキし、その表面を鏡面仕上げして表
面粗さを0.1μmとしてロール基材11とした。そし
て該ロール基材に図10に示す様に固定具14が係合す
る1辺が15mm、高さ5mmの矩形状の溝101を4
本形成した。
【0086】一方スタンパーは、以下の様にして作製し
た。先ず1辺の長さが300mm、厚さ10mmのガラ
ス原盤にフォトレジスト(商品名:AZ−1300;ヘ
キストジャパン社製)を300nmの厚さに塗布した。 次いでグルーブ幅3μm、ピッチ12μm深さ2500
Å、角度(x)60°の断面が台形状光カード用トラッ
ク溝2583本に対応するプリフォーマットパターンを
、前記レジスト層の表面における4つの80mm×30
mmの領域内にレーザカッティング機により描画し、現
像処理後、レジスト層上にNiをスパッタリングにより
100nm成膜した。こののち、電鋳によりNiをさら
に200μmの厚さに付着させた後、Ni膜をレジスト
層から剥離して、プリフォーマットパターンの転写され
ていない裏面を鏡面研磨して厚さを150μm、裏面の
表面粗さを0.1μmに仕上げ、スタンパー13を形成
した。
【0087】次にスタンパー13の裏面両端部に1辺が
10mm高さが5mm長さ300mmのステンレス製の
2本の固定具14をレーザー溶接してスタンパー13と
一体とした。このスタンパーの裏面に、LARC−TP
I(三井東圧化学(株)製)ワニスをアプリケータを用
いて均一に塗工し、熱風乾燥したのち上記塗膜を2時間
かけて2℃/分の昇温速度で300℃まで加熱し、更に
300℃で1時間保持し、厚み50μmのポリイミド樹
脂層(耐熱温度約260℃、伸び8.5%、引っ張り弾
性率360kg/mm2)を形成した。
【0088】次いで先に作製したロール基材11の溝1
01に、固定具14を挿入し、スタンパーを鏡面ロール
に固定し成型ロールとした。全く同様にして、もう1枚
のスタンパーをロール基材11に固定し図1に示す成型
ロールを作製した。この成型ロール3を用いて実施例1
と同様にして光カード用基板シートの成型を行なった。 なお成型条件は樹脂シートの搬送速度は4m/分とし成
型ロールの表面温度130℃、140℃及び150℃と
変化させた。
【0089】こうして得られた3種類の基板シートを実
施例1と同様に評価しその結果を表−3に示す。
【0090】又各基板シートとも厚みムラは10μm以
下であった。
【0091】実施例4 実施例1で作製したロール基材の周面に厚さ80μmの
テトラフルオロエチレンコーティング膜を形成した。
【0092】次いでロール基材の溝101内のポリテト
ラフルオロエチレンを除去した後実施例1で作製したス
タンパー2枚を固定具14を溝101に嵌挿して固定し
た。このロールスタンパーを用いて成型ロールの表面温
度を130℃、140℃及び150℃と変化させて他の
条件は実施例1と同様にして3種類の基板シートを成型
し評価した。その結果を表−3に示す。又各基板シート
とも厚みムラは10μm以下であった。
【0093】実施例5 実施例1と同様にして作製したスタンパーの裏面に、実
施例3と同様にして厚さ50μmのポリイミド樹脂層を
形成した。一方実施例1と同様にして作成したロール基
材の周面に実施例4と同様にして厚さ30μmのポリテ
トラフルオロエチレンの樹脂層を形成した。(図6参照
)このロール基材にスタンパーを固定して、成型ロール
の表面温度を130℃、140℃、及び150℃と変化
させて、他の条件は実施例1と同様にして3種類の基板
シートを形成し評価した。
【0094】その結果を表−3に示す。
【0095】又各基板シートとも厚みムラは最大で10
μmであった。
【0096】
【表4】
【0097】実施例6 実施例1と同様にしてロール基材11を作製した。また
実施例1と同様にしてスタンパーを2枚作製し一方のス
タンパー(スタンパーA)の厚さを150μmとし、他
方のスタンパー(スタンパーB)の厚さを125μmと
した。そして樹脂層としてスタンパーAの裏面には厚さ
100μmのポリイミドシート(商品名:コーピレック
ス−R;宇部興産(株)製)を密着させてロール基材に
固定し、スタンパーBの裏面には厚み125μmのポリ
イミドシートを密着させて固定して成型ロールを作製し
た(図9参照)。
【0098】この成型ロールを用いて実施例1と同様に
して、又成型ロールの温度を130℃、140℃、及び
150℃と変化させて基板シートの成型を行なった。こ
うして得た基板シートのスタンパーAによるプリフォー
マットパターン転写部及びスタンパーBによるプリフォ
ーマットパターン転写部の転写精度及び複屈折性を実施
例1と同様にして評価した。その結果を表−4に示す。
【0099】また基板シートの厚みムラはスタンパーA
及びスタンパーBによる何れの転写部とも最大で10μ
m以下であった。
【0100】比較例2 実施例6に於てポリイミドシートを除いた以外は実施例
6と同様にして成型ロールを作成しそれを用いて基板シ
ートを成型した。
【0101】こうして得た基板シートのスタンパーAに
よるプリフォーマットパターン転写部及びスタンパーB
によるプリフォーマットパターン転写部の転写精度及び
複屈折性は表−4に示す様に大きく変化し、均一な基板
シートの成型は困難であった。また基板シートの厚みム
ラもスタンパーAによるプリフォーマットパターン転写
部で最大10μmであったのに対しスタンパーBによる
プリフォーマットパターン転写部では最大40μmで光
カードの規格外となってしまった。
【0102】
【表5】
【0103】実施例7 実施例1と同様にしてロール基材及びスタンパーを作製
した。このスタンパーを2枚作製し、スタンパーの裏面
に厚さ100μmのポリエーテルエーテルケトンシート
(商品名:TALPA−2000三井東圧化学(株)製
伸び率100%、引っ張り弾性率300kg/mm2)
を各々密着させてロール基材に固定した。
【0104】この成型ロール3を図3に示す成型装置に
取り付けエクストルーダ31(商品名:SHT90;日
立造船(株)製)からアモルファスポリオレフィン(商
品名:ゼオネクス;日本ゼオン製)を押し出して厚さ0
.4mm幅30cmの光カード用基板シートを成型した
【0105】なお成型条件は、T−ダイ32の温度30
0℃成型ロールの表面温度140℃、樹脂シートの搬送
速度3m/分とし成型ロール3と鏡面ロール35の周速
の比1.001となる様に設定し、5時間成型を行なっ
た。こうして得た基板シートの各プリフォーマット転写
部の9ケ所の複屈折率を測定したところ平均値は10m
mであった。また転写精度についてはプリフォーマット
パターン転写部の9ケ所のトラック溝方向に垂直な方向
の断面形状を電子線表面形態解析装置(商品名:ESA
−3000;エリオニクス(株)製)で観測し、図11
に示す様に基板シートのグルーブ転写部のランド部の幅
をa、スタンパーのグルーブ形成用の凹部の幅をA、(
図12参照)としたときのa/Aの平均値で評価した。 その結果を表−5に示す。又成型ロールの表面温度を1
30℃及び150℃として成型した基板シートについて
も同様に評価した。
【0106】更に各々の基板シートの厚みムラは10μ
m以下で光カード用基板の規格内であった。なお、複屈
折の測定は、ポーラリメータ(SP−224型;神港精
機(株)製)を用いて、波長830nmスポット径1μ
mの光で測定しシングルパスの値で評価した。又評価基
準は実施例2と同様である。
【0107】実施例8 実施例7に於て樹脂層としてポリエーテル、エーテルケ
トンの代りにポリフェニレンサルファイドフィルム(商
品名:トレリナ3000(100μm)東レ(株)製引
張弾性率400kg/mm2伸び60%)を用いた他は
実施例7と同様にして光カード用基板シートの成型を行
なった。
【0108】実施例9 実施例7に於て樹脂層としてポリエーテルエーテルケト
ンの代りにポリアリレートフィルム(商品名:エルメッ
クF−2100(100μm)鐘渕化学工業(株)製伸
び50%)を用いた他は実施例7と同様にして光カード
用基板シートの成型を行なった。こうして得た光カード
用基板の転写精度及び複屈折性を表−5に示す。
【0109】実施例10 実施例7に於て樹脂層としてポリエーテルエーテルケト
ンの代りに厚み125μmのポリパラバン酸樹脂フィル
ム(商品名:ソルダックス東燃石油化学(株)製)を用
いた他は実施例7と同様にして光カード用基板シートの
成型を行なった。
【0110】実施例11 実施例7に於て樹脂層としてポリエーテルエーテルケト
ンに代り厚さ100μmのポリエーテルサルホンフィル
ム(商品名:TALPA−1000三井東圧化学(株)
伸び100%引張り弾性率260kg/mm2)を用い
た他は実施例7と同様にして光カード基板シートの成型
を行なった。こうして得た光カード基板の転写精度及び
複屈折性を表−5に示す。
【0111】
【表6】
【0112】参考例1 実施例3に於て樹脂層として厚さ7.5μmにポリイミ
ド層を形成した以外は実施例3と同様にして成型ロール
を作製し、光カード用基板シートを作成した。
【0113】参考例2 実施例1に於て樹脂層として厚さ600μmのテトラフ
ルオロエチレンポリマーのフィルムを用いた以外は実施
例1と同様にして成型ロールを作製し、光カード用基板
シートを作成した。
【0114】上記参考例1及び2の光カード用基板シー
トの転写精度及び複屈折を表−6に示す。
【0115】参考例3 実施例3に於てポリイミド樹脂層の代りにシリコーンR
TVゴム(商品名KE1300:信越化学工業(株)製
伸び300%)をスタンパ裏面に塗布して室温で硬化さ
せて厚み50μmの樹脂層を形成した他は実施例3と同
様にして光カード用基板シートの成型を行なった。その
結果を表−6に示す。
【0116】
【表7】
【0117】
【発明の効果】以上説明した様に本発明によれば成型ロ
ールとしてロール基材とスタンパーの間に樹脂層を介在
させることにより樹脂層の熱伝導率(一般には1×10
−3〜1×10−4cal/cm・s・℃)が金属ロー
ル、金属スタンパーの熱伝導率(一般には1×10−1
〜1×10−2cal/cm・s・℃)より小さいため
成型時樹脂層が断熱層として働き成型時の熱可塑性樹脂
の急激な温度低下が抑制され、その結果溶融粘度の変化
も抑制され、成型される基板シートの内部歪みを小さく
することができ且つ、成型ロールや鏡面ロールの温度変
動といった成型条件の変動による基板シートのプリフォ
ーマットパターンの転写精度、複屈折の値の変化を最小
限に抑えることができ成型条件のマージンを大きくする
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の成型ロールの一実施態様を示す概略断
面図。
【図2】本発明の成型ロールの一実施態様を示す斜視図
【図3】本発明に係る光記録媒体用基板シートの製造装
置の概略図。
【図4】本発明の成型ロールの製造工程の一実施態様を
示す概略図。
【図5】本発明の成型ロールの製造工程の他の実施態様
を示す概略図。
【図6】本発明の成型ロールの製造工程の他の実施態様
を示す概略図。
【図7】本発明の成型ロールの製造工程の他の実施態様
を示す概略図。
【図8】従来の光記録媒体用基板シートの製造工程を示
す概略図。
【図9】本発明の成型ロールの他の実施態様を示す概略
断面図。
【図10】本発明の成型ロールの製造方法を示す概略図
【図11】本発明に係る光記録媒体用基板シートのプリ
フォーマット形成部の拡大断面図。
【図12】本発明に係る成型ロール表面のスタンパーの
拡大断面図。
【図13】成型ロールの表面温度と転写精度の関係を示
すグラフ。
【図14】成型ロールの表面温度と基板シートの複屈折
の関係を示すグラフ。
【符号の説明】
3  成型ロール 11  ロール基材 12  樹脂層 13  スタンパー 14  固定具 15  プリフォーマットパターン 31  エクストルーダー 32  T−ダイ 33  成型樹脂シート 34  鏡面ロール 35  鏡面ロール 36  光記録媒体用基板シート 41  樹脂シート 51  樹脂塗工膜 61  樹脂塗工膜 62  樹脂塗工膜 71  樹脂塗工膜 81  T−ダイ 82  成型樹脂シート 83  第1ロール 84  成型ロール 85  第3ロール 101  溝

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  樹脂を熔融して押し出し成型した樹脂
    シートにプリフォーマットパターンを転写し光記録媒体
    用基板シートを成型する為の成型ロールに於いて、該成
    型ロールはロール基材及び該ロール基材周面に着脱可能
    に固定されてなるスタンパーを具備し、且つ該ロール基
    材と該スタンパーの間に樹脂層を備えたことを特徴とす
    る成型ロール。
  2. 【請求項2】  該樹脂層の厚みが10〜500μmで
    ある請求項1の成型ロール。
  3. 【請求項3】  該樹脂層が、樹脂シートである請求項
    1の成型ロール。
  4. 【請求項4】  該樹脂層が該スタンパーの該ロール基
    材と対向する面に塗工膜として形成されている請求項1
    の成型ロール。
  5. 【請求項5】  該樹脂層がポリイミド樹脂、フッ素樹
    脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフ
    ォン、ポリパラバン酸樹脂、ポリフェニレンオキサイド
    、ポリアリレート樹脂及びエポキシ樹脂から選ばれる少
    なくとも1つを含有する請求項1の成型ロール。
  6. 【請求項6】  該樹脂層の厚さが該スタンパーの厚さ
    の0.1〜2倍である請求項1の成型ロール。
  7. 【請求項7】  樹脂を熔融して押し出し成型した樹脂
    シートにプリフォーマットパターンを転写し光記録媒体
    用基板シートを成型するための成型ロールに於いて、該
    成型ロールはロール基材と該ロール基材の周面に着脱可
    能に固定されてなるスタンパーを該ロール基材の周方向
    に複数個具備すると共に、該ロール基材と各々のスタン
    パーとの間に樹脂層を備え、且つ該樹脂層は各々のスタ
    ンパーの厚みに応じた固有の厚みを有することを特徴と
    する成型ロール。
  8. 【請求項8】  該樹脂層がポリイミド樹脂、フッ素樹
    脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフ
    ォン、ポリパラバン酸樹脂、ポリフェニレンオキサイド
    、ポリアリレート樹脂及びエポキシ樹脂から選ばれる少
    なくとも1つを含有する請求項7の成型ロール。
  9. 【請求項9】  該樹脂層の厚さが該スタンパーの厚さ
    の0.1〜2倍である請求項7の成型ロール。
  10. 【請求項10】  樹脂を熔融して押出し樹脂シートを
    成型する手段及び該樹脂シートを挟圧して樹脂シート表
    面にプリフォーマットを転写するための成型ロール及び
    該成型ロールに対向配置されてなる鏡面ロールを有する
    光記録媒体用基板シートの製造装置に於いて、該成型ロ
    ールがロール基材及び該ロール基材周面に着脱可能に固
    定されてなるスタンパーを具備し且つ、該ロール基材と
    該スタンパーの間に樹脂層を備えた成型ロールであるこ
    とを特徴とする光記録媒体用基板シートの製造装置。
  11. 【請求項11】  該樹脂層がポリイミド樹脂、フッ素
    樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサル
    フォン、ポリパラバン酸樹脂、ポリフェニレンオキサイ
    ド、ポリアリレート樹脂及びエポキシ樹脂から選ばれる
    少なくとも1つの材料を含有する請求項10の光記録媒
    体用基板シートの製造装置。
  12. 【請求項12】  熔融樹脂を押し出して樹脂シートを
    成型する工程、該樹脂シートを成型ロールと、該成型ロ
    ールに対向配置されてなる鏡面ロールとで挟圧して樹脂
    シートの表面にプリフォーマットを転写する工程を有す
    る光記録媒体用基板シートの製造方法に於いて、該成型
    ロールとして、ロール基材及び該ロール基材周面に着脱
    可能に固定されてなるスタンパーを具備し且つ、該ロー
    ル基材と該スタンパーの間に樹脂層を備えた成型ロール
    を用いることを特徴とする光記録媒体用基板シートの製
    造方法。
  13. 【請求項13】  該樹脂層がポリイミド樹脂、フッ素
    樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサル
    フォン、ポリパラバン酸樹脂、ポリフェニレンオキサイ
    ド、ポリアリレート樹脂及びエポキシ樹脂から選ばれる
    少なくとも1つの材料を含有する請求項12の光記録媒
    体用基板シートの製造方法。
  14. 【請求項14】  樹脂を熔融して押出し樹脂シートを
    成型する手段及び該樹脂シートを挟圧して樹脂シート表
    面にプリフォーマットを転写する為の成型ロール及び該
    成型ロールに対向配置されてなる鏡面ロールを有する光
    記録媒体用基板シートの製造装置に於いて、該成型ロー
    ルがロール基材と該ロール基材の周面に着脱可能に固定
    されてなるスタンパーを該ロール基材の周方向に複数個
    具備すると共に、該ロール基材と各々のスタンパーとの
    間に樹脂層を備え、且つ該樹脂層は各々のスタンパーの
    厚みに応じた固有の厚みを有する成型ロールであること
    を特徴とする光記録媒体用基板シートの製造装置。
  15. 【請求項15】  熔融樹脂を押し出して樹脂シートを
    成型する工程、該樹脂シートを成型ロールと該成型ロー
    ルに対向配置されてなる鏡面ロールとで挟圧して樹脂シ
    ートの表面にプリフォーマットを転写する工程を有する
    光記録媒体用基板シートの製造方法に於いて、該成型ロ
    ールとしてロール基材と該ロール基材の周面に着脱可能
    に固定されてなるスタンパーを該ロール基材の周方向に
    複数個具備すると共に該ロール基材と各々のスタンパー
    トの間に樹脂層を備え、且つ該樹脂層は各々のスタンパ
    ーの厚みに応じた固有の厚みを有する成型ロールを用い
    ることを特徴とする光記録媒体用基板シートの製造方法
  16. 【請求項16】  樹脂を熔融して押出し樹脂シートを
    成型する手段及び該樹脂シートを挟圧して樹脂シート表
    面にプリフォーマットを転写するための成型ロール及び
    該成型ロールに対向配置されてなる鏡面ロールを有し、
    該成型ロールがロール基材及び該ロール基材周面に着脱
    可能に固定されてなるスタンパーを具備し且つ、該ロー
    ル基材と該スタンパーの間に樹脂層を備えた成型ロール
    である光記録媒体用基板シートの製造装置で成型されて
    なることを特徴とする光記録媒体用基板シート。
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JP2003053834A (ja) * 2001-08-21 2003-02-26 Kuraray Co Ltd 樹脂シートの製造方法
JP2009202382A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 樹脂フィルムの製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000296544A (ja) * 1998-11-02 2000-10-24 Rohm & Haas Co 光学的記憶媒体
JP2003053834A (ja) * 2001-08-21 2003-02-26 Kuraray Co Ltd 樹脂シートの製造方法
JP4743373B2 (ja) * 2001-08-21 2011-08-10 株式会社クラレ 樹脂シートの製造方法
JP2009202382A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Sumitomo Chemical Co Ltd 樹脂フィルムの製造方法

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