JPH04356789A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH04356789A
JPH04356789A JP3176443A JP17644391A JPH04356789A JP H04356789 A JPH04356789 A JP H04356789A JP 3176443 A JP3176443 A JP 3176443A JP 17644391 A JP17644391 A JP 17644391A JP H04356789 A JPH04356789 A JP H04356789A
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JP
Japan
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signal
semiconductor memory
memory device
control signal
circuit
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Pending
Application number
JP3176443A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naohiko Sugibayashi
直彦 杉林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH04356789A publication Critical patent/JPH04356789A/en
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Abstract

PURPOSE:To convert a defective product into a nondefective product and to increase the yield by setting a switching circuit so as to generate a control signal of an active level when a reading error is found at a function test. CONSTITUTION:When a control signal DS from a switching circuit 5 is set at a low level in an open state of a pad PD, a sense amplifier activation signal SE goes forward through the paths of a delay element D1, a NAND gate G2 and an inverter circuit IV3 and a selection signal YSW is obtained. When it is decided as a nondefective product through the function test in this state, a fuse F2 of the circuit 5 is melted and cut and the signal DS is made eternally to a low level. On the other hand, when a reading error is detected, a pad PD is made to a ground potential and when the signal DS is made at a high level, the signal SE goes forward through the paths of elements D1, D2, a circuit IV2, gates G1, G2 and a circuit IV3. The function test in this state is again conducted and if it is a nondefective product, a fuse F1 is melt and cut.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、半導体メモリ装置に関
し、特従来不良品とされたものを良品として使用するこ
とを冗長回路に依ることなく可能とする半導体メモリ装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device that allows a device conventionally considered to be defective to be used as a non-defective device without relying on redundant circuits.

【0002】0002

【従来の技術】一般に、半導体メモリ装置は、アレイ状
に設けられた複数のメモリセルとそれらメモリセルにそ
れぞれ接続した複数のビット線およびワード線とからな
るメモリセルアレイと、所定のメモリセルを選択できる
ようにこのメモリセルアレイにそれぞれ隣接配置したロ
ウデコーダおよびカラムデコーダとを有する。このメモ
リセルアレイを構成する複数のビット線はレベルが相補
的関係となる複数のビット線対から成っており、それら
ビット線対の各々に対し1のセンスアンプが設けられて
いる。これらセンスアンプはセンスアンプ活性化信号に
応じて活性化され、上記ビット線対を構成する2本のビ
ット線間の電位差を増幅する。
2. Description of the Related Art In general, a semiconductor memory device includes a memory cell array consisting of a plurality of memory cells arranged in an array and a plurality of bit lines and word lines respectively connected to the memory cells, and a memory cell array for selecting a predetermined memory cell. A row decoder and a column decoder are respectively arranged adjacent to this memory cell array so as to be able to do so. The plurality of bit lines constituting this memory cell array consist of a plurality of bit line pairs whose levels are complementary to each other, and one sense amplifier is provided for each of these bit line pairs. These sense amplifiers are activated in response to a sense amplifier activation signal, and amplify the potential difference between the two bit lines forming the bit line pair.

【0003】カラムデコーダからの選択信号に応じて選
択スイッチが1つのビット線対を選択し、そのビット線
対を、メモリセルに対するデータの読出しおよび書込み
のためのI/O線に電気的に接続する。
A selection switch selects one bit line pair in response to a selection signal from a column decoder, and electrically connects the bit line pair to an I/O line for reading and writing data to memory cells. do.

【0004】このような従来の半導体メモリ装置におい
ては、データの読出し時の所定のビット線対とI/O線
との間の接続がセンスアンプによるビット線対の電位差
の増幅が十分に進んだ後に行われるように、センスアン
プ活性化信号を遅延させた信号でカラムデコーダを制御
している。即ち、センスアンプ活性化信号によりセンス
アンプが動作してビット線対の電位差を十分増幅するの
に必要な期間(約6nSから10nS)が経過した後、
カラムデコーダが選択信号を発生するように、センスア
ンプ活性化信号を遅延回路により所定時間(6から10
nS)だけ遅延させ、この遅延させた信号がカラムデコ
ーダに印加されたときに選択信号を発生する構成として
いる。
In such a conventional semiconductor memory device, the connection between a predetermined bit line pair and an I/O line when reading data is such that the potential difference between the bit line pair is sufficiently amplified by the sense amplifier. As will be done later, the column decoder is controlled by a signal obtained by delaying the sense amplifier activation signal. That is, after a period (approximately 6 nS to 10 nS) necessary for the sense amplifier to operate in response to the sense amplifier activation signal and sufficiently amplify the potential difference between the bit line pair,
The sense amplifier activation signal is delayed for a predetermined period of time (6 to 10
nS), and when this delayed signal is applied to the column decoder, a selection signal is generated.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、一般に半導
体メモリ装置の機能試験はウェハ状態で行ない、不良箇
所が発見された場合は、この不良箇所を冗長ビット線や
冗長ワード線により修正して良品としている。不良箇所
の発生には多種の要因があるが、上述のセンスアンプの
活性化から選択スイッチの動作までの期間にセンスアン
プがビット線対の電位差を十分に増幅できないままビッ
ト線対とI/O線との電気的接続が形成されることに起
因する読出しエラーはその一つである。即ち、選択され
たメモリセルを構成するトランジスタまたは容量素子の
特性のばらつきによりビット線対の電位差が小さい場合
や、センスアンプを構成する素子の特性のばらつきによ
りセンスアンプの性能が低下する場合などがある。この
ような場合は、センスアンプによるビット線対の電位差
の増幅を所定時間内に十分なレベルに立ち上がらせるこ
とはできない。この状態でビット線対とI/O線との間
の接続が形成されると、読出し時間が長くなるばかりで
なく、場合によってはビット線対の電位レベルが逆転し
て読出しエラーを生ずることもある。
[Problems to be Solved by the Invention] Generally speaking, functional tests of semiconductor memory devices are performed in the wafer state, and if a defective part is found, the defective part is corrected with redundant bit lines or redundant word lines and the product is returned as a good product. There is. There are various factors that can cause a defective point to occur, but during the period from the activation of the sense amplifier described above to the operation of the selection switch, the sense amplifier cannot sufficiently amplify the potential difference between the bit line pair and the bit line pair and the I/O. One of these is read errors due to electrical connections being made to lines. In other words, there may be cases where the potential difference between the bit line pair is small due to variations in the characteristics of the transistors or capacitive elements that make up the selected memory cell, or cases where the performance of the sense amplifier is degraded due to variations in the characteristics of the elements that make up the sense amplifier. be. In such a case, it is not possible to amplify the potential difference between the bit line pair by the sense amplifier to a sufficient level within a predetermined time. If a connection is formed between the bit line pair and the I/O line in this state, not only will the read time become longer, but in some cases, the potential levels of the bit line pair may be reversed, resulting in a read error. be.

【0006】上述の原因による読出しエラーに対しても
、従来は該当するビット線対を冗長ビット線と置換える
ことにより良品としていた。しかし、このような読出し
エラーのビット線対が多い場合、これら読出すエラーを
生ずるビット線対をすべて冗長ビット線と置換えること
はできないため、歩留の低下、コストの上昇という欠点
があった。
Conventionally, read errors due to the above-mentioned causes have been resolved by replacing the relevant bit line pair with a redundant bit line. However, when there are many bit line pairs with such read errors, it is not possible to replace all the bit line pairs that cause read errors with redundant bit lines, which has the disadvantage of decreasing yield and increasing cost. .

【0007】したがって、本発明の目的は、ビット線対
の差電位の増幅の立上り所要時間が長い半導体メモリウ
ェハを、冗長回路を用いることなく良品として用いるこ
とができる半導体メモリ装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can use a semiconductor memory wafer that takes a long time to rise for amplifying the potential difference between a pair of bit lines as a non-defective product without using a redundant circuit. be.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、アレイ状に設けられた複数のメモリセルとそれら
メモリセルにそれぞれ接続された複数のビット線および
ワード線とを含み前記ビット線を2本で一対となすよう
に配置したメモリセルアレイと、前記ビット線対の各々
に対して1つづつ設けられ活性化信号に応じて前記ビッ
ト線対間の電位差を増幅するセンスアンプと、切換回路
からの制御信号に応じて変化する遅延を前記活性化信号
に与え、選択信号を発生させる遅延回路と、前記選択信
号に応じて所定の前記ビット線対とI/O線とを接続す
る選択スイッチ手段とを有する。
A semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of memory cells arranged in an array, and a plurality of bit lines and word lines respectively connected to the memory cells. a memory cell array arranged as a pair of two lines, a sense amplifier provided for each of the bit line pairs and amplifying the potential difference between the bit line pairs in accordance with an activation signal, and a switching circuit. a delay circuit that applies a delay that varies according to a control signal from the activation signal to the activation signal to generate a selection signal; and a selection switch that connects a predetermined bit line pair and an I/O line according to the selection signal. means.

【0009】好ましくは、この切換回路は、制御信号の
レベルを任意に変化させる第1の出力手段と、制御信号
のレベルを固定して出力する電源端子と出力端間に設け
られたヒューズを含む第2の出力手段とを含む。
Preferably, this switching circuit includes a first output means for arbitrarily changing the level of the control signal, and a fuse provided between a power terminal and an output terminal for outputting the control signal at a fixed level. and second output means.

【0010】0010

【実施例】図1を参照して本発明の実施例を説明する。 図1において、メモリセルアレイ1は各々あ1つのNチ
ャネルトランジスタと1つの容量素子とから成りアレイ
状に配置された複数のメモリセルで構成される(いわゆ
る1トランジスタ−1キャパシタ型セルMCをアレイ状
に配置して形成されている)。ビット線BLaおよびB
Lbは1対としてセンスアンプSAの各々に接続されて
いる。センスアンプSAはセンスアンプ活性化信号SE
により活性化され、ビット線対BLaとBLb間との電
位差を増幅する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, a memory cell array 1 is composed of a plurality of memory cells each consisting of one N-channel transistor and one capacitive element, arranged in an array (so-called 1-transistor-1-capacitor type cells MC are arranged in an array). ). Bit lines BLa and B
Lb is connected to each sense amplifier SA as a pair. Sense amplifier SA receives sense amplifier activation signal SE.
, and amplifies the potential difference between bit line pair BLa and BLb.

【0011】ロウデコーダ2は複数のワード線WLの1
本を入力ロウアドレス(RA)に応じて選択し、その電
位をハイレベルにする。カラムデコーダ3は選択信号Y
SWが供給されると、入力カラムアドレス(CA)に応
じて選択信号Y1、Y2、Y3、…Ynの1つをアクテ
ィブレベル(ハイレベル)として選択スイッチ4に供給
する。選択スイッチ4はゲートにカラムデコーダ3から
の選択信号Y1、Y2、Y3、…Ynを受け、ソース・
ドレイン路がセンスアンプSAの入出力端とI/O線を
構成する配線La、Lb間に設けられたトランジスタ群
により構成されている。
The row decoder 2 is connected to one of the plurality of word lines WL.
A book is selected according to the input row address (RA) and its potential is set to high level. Column decoder 3 receives selection signal Y
When SW is supplied, one of the selection signals Y1, Y2, Y3, . The selection switch 4 receives selection signals Y1, Y2, Y3,...Yn from the column decoder 3 at its gate, and selects the source and
The drain path is constituted by a group of transistors provided between the input/output terminal of the sense amplifier SA and the wirings La and Lb forming the I/O line.

【0012】選択スイッチ4により選択された1対のビ
ット線対BLaとBLbはそれぞれ配線LaとLbに接
続される。この配線La、Lbは読出しデータおよび書
込みデータを相補的に供給し、一端がデータアンプ7お
よびライトアンプ8に接続されている。これらデータア
ンプ7およびライトアンプ8にも選択信号YSWが入力
され、活性化がそれぞれ制御されている。
The bit line pair BLa and BLb selected by the selection switch 4 are connected to wirings La and Lb, respectively. These wirings La and Lb supply read data and write data in a complementary manner, and one end is connected to data amplifier 7 and write amplifier 8. A selection signal YSW is also input to these data amplifier 7 and write amplifier 8, and their activation is controlled.

【0013】遅延回路6はセンスアンプ活性化信号SE
を切換回路5からの制御信号DSのレベルに応じて所定
の時間遅延させた選択信号YSWを発生する。即ち、制
御信号DSが非アクティブレベルの時は、センスアンプ
活性化信号SEから所定時間(6から10nS)遅延し
た選択信号YSWを発生する。制御信号DSがアクティ
ブレベルの時は、選択信号DSが非アクティブレベルの
時の選択信号YSWよりも更に所定時間(2から4nS
)遅延した選択信号YSWを発生する。
Delay circuit 6 receives sense amplifier activation signal SE.
A selection signal YSW is generated which is delayed by a predetermined time depending on the level of the control signal DS from the switching circuit 5. That is, when the control signal DS is at an inactive level, the selection signal YSW is generated delayed by a predetermined time (6 to 10 nS) from the sense amplifier activation signal SE. When the control signal DS is at the active level, the control signal DS is kept for a predetermined period of time (2 to 4 nS) longer than the selection signal YSW when the selection signal DS is at the inactive level.
) Generates a delayed selection signal YSW.

【0014】切換回路5が発生する制御信号DSのレベ
ル設定は、ウェハ状態での機能試験結果に応じて行なわ
れる。
The level setting of the control signal DS generated by the switching circuit 5 is performed in accordance with the results of a functional test in the wafer state.

【0015】次に、本実施例の動作、特に読出し動作に
ついて図2を参照して説明する。まず、外部からロウア
クティブのRAS信号が入力されると(図2(a)参照
)、ロウアドレス(RA)が外部からアドレスバッファ
(図示せず)を介してロウデコーダ2(図1)に供給さ
れる(図2(c)参照)。ロウデコーダ2は供給された
RAに応じて1本のワード線WLを選択し、その電位を
ハイレベルにする(図2(d)参照)。ハイレベルとな
ったワード線WL下のメモリセルMCに格納されている
0又は1の情報に応じて、ビット線対を構成しているB
LaとBLbの一方の電位が低下し(図2(f)参照)
、この2本のビット線の電圧レベルは相補的関係となる
Next, the operation of this embodiment, particularly the read operation, will be explained with reference to FIG. First, when a row active RAS signal is input from the outside (see FIG. 2(a)), a row address (RA) is supplied from the outside to the row decoder 2 (FIG. 1) via an address buffer (not shown). (See Figure 2(c)). The row decoder 2 selects one word line WL according to the supplied RA and sets its potential to a high level (see FIG. 2(d)). B forming a bit line pair according to the information of 0 or 1 stored in the memory cell MC under the word line WL that has become high level.
The potential of one of La and BLb decreases (see Figure 2(f)).
, the voltage levels of these two bit lines have a complementary relationship.

【0016】次にセンスアンプ活性化信号SEが時刻t
0でアクティブレベルとなり(図2(e)参照)、すべ
てのセンスアンプSAが活性化される。活性化されたセ
ンスアンプSAは直ちにビット線対の電位差、即ちBL
aとBLb間の電位差を増幅し始め、一方の電位が電源
電位(Vcc)近く、他方の電位が接地電位(GND)
近くまで増幅される(図2(f)点線参照)。
Next, the sense amplifier activation signal SE is activated at time t.
When it is 0, it becomes an active level (see FIG. 2(e)), and all sense amplifiers SA are activated. The activated sense amplifier SA immediately increases the potential difference between the bit line pair, that is, BL.
The potential difference between a and BLb begins to be amplified, and one potential is close to the power supply potential (Vcc) and the other potential is the ground potential (GND).
(See the dotted line in FIG. 2(f)).

【0017】次に、外部からロウアクティブのCAS信
号が入力されると(図2(b)参照)、カラムアドレス
(CA)が外部からアドレスバッファを介してカラムデ
コーダ3に供給される(図2(c)参照)。遅延回路6
は制御信号DSのレベルが非アクティブレベルの時はセ
ンスアンプ活性化信号SEをDT0だけ遅延させること
により、選択信号YSWを時刻t10でアクティブレベ
ルとする(図2(g)点線参照)。
Next, when a row active CAS signal is input from the outside (see FIG. 2(b)), a column address (CA) is supplied from the outside to the column decoder 3 via the address buffer (see FIG. 2(b)). (see (c)). Delay circuit 6
When the level of the control signal DS is at the inactive level, the selection signal YSW is set to the active level at time t10 by delaying the sense amplifier activation signal SE by DT0 (see the dotted line in FIG. 2(g)).

【0018】ここで、センスアンプSAが設計どおり動
作すれば図2(f)の点線に示すように、選択信号YS
Wがアクティブレべルとなる時刻t10では、ビット線
対を構成するBLaとBLbの電位差は電源電位Vcc
近くになる。カラムデコーダ3は選択信号YSWがアク
ティブレベルとなると、入力されたCAに応じて選択信
号Y1、Y2、…Ynのいずれか1つをアクティブレベ
ル(ハイレベル)とするため、それに応じた一組のビッ
ト線対が選択スイッチ4により選択される(図1参照)
Here, if the sense amplifier SA operates as designed, the selection signal YS
At time t10 when W becomes active level, the potential difference between BLa and BLb forming the bit line pair is equal to the power supply potential Vcc.
Get closer. When the selection signal YSW becomes active level, the column decoder 3 sets any one of the selection signals Y1, Y2, ...Yn to active level (high level) according to the input CA, so that a set of corresponding signals is activated. The bit line pair is selected by the selection switch 4 (see FIG. 1).
.

【0019】選択スイッチ4により選択されたビット線
BLaが配線Laに電気的に接続され、ビット線BLb
が配線Lbに接続されるため、配線LaまたはLbの一
方はVccレベルを維持し、他方の配線の電位は選択さ
れたビット線対のセンスアンプSAによりロウレベルに
低下する。
The bit line BLa selected by the selection switch 4 is electrically connected to the wiring La, and the bit line BLb
is connected to the wiring Lb, one of the wirings La and Lb maintains the Vcc level, and the potential of the other wiring is lowered to the low level by the sense amplifier SA of the selected bit line pair.

【0020】この配線LaとLbの電位差を選択信号Y
SWにより活性化したデータアンプ7が更に増幅し、こ
れを読出しデータとして共通データバスを介して入出力
端子(図示せず)に出力することにより、1つのデータ
の読出し動作が終了する。
The potential difference between the wirings La and Lb is determined by the selection signal Y.
The data amplifier 7 activated by the SW further amplifies the amplified data and outputs it as read data to an input/output terminal (not shown) via a common data bus, thereby completing one data read operation.

【0021】以上説明した読出し動作はセンスアンプS
Aが所定時間内にビット線対間の電位差を増幅した場合
である。しかし、選択されたメモリセルを構成するトラ
ンジスタまたは容量素子の特性のばらつきによりビット
線対の電位差が小さい場合や、センスアンプを構成する
素子特性のばらつきによりセンスアンプの性能が低下す
る場合がある。このような場合は、図2(f)の実線で
示す時点t10においてビット線対の電位差は十分に増
幅されていない。この状態で選択信号YSWがアクティ
ブレベルとなり、カラムデコーダ3が選択スイッチ4に
対して1つの選択信号をアクティブレベルとすると、十
分電位差が増幅されていないビット線対とI/O線とが
接続されることになる。その結果、読出し時間がかかる
ばかりでなく、場合によってはビット線対のレベルが逆
転して読出しエラーとなることもある。
The read operation described above is performed by the sense amplifier S.
A is a case where the potential difference between the bit line pair is amplified within a predetermined time. However, the potential difference between the bit line pair may be small due to variations in the characteristics of the transistors or capacitors that make up the selected memory cell, or the performance of the sense amplifier may deteriorate due to variations in the characteristics of the elements that make up the sense amplifier. In such a case, the potential difference between the bit line pair is not sufficiently amplified at time t10 indicated by the solid line in FIG. 2(f). In this state, when the selection signal YSW becomes active level and the column decoder 3 sets one selection signal to the selection switch 4 at active level, the bit line pair whose potential difference is not sufficiently amplified and the I/O line are connected. That will happen. As a result, not only does reading take longer, but in some cases the levels of the bit line pair may be reversed, resulting in a reading error.

【0022】このような読出しエラーは、この半導体メ
モリ装置がウェハ状態にある時に機能試験によって検出
される。従来は読出しエラーが発生した場合は冗長回路
を用いて不良部分の置換を行ない、良品としていたが、
冗長回路で置換することができないほどに不良部分が多
い場合には不良品として処理していた。しかし、ビット
線対の差電位の増幅の立上り所要時間が長いことを起因
とする読出しエラーは選択信号YSWに所定の遅延を与
えることにより救済できることを本発明の発明者は見出
した。この措置を採ることによって、従来不良品として
処理せざるを得なかった製品を冗長回路に依ることこと
なく良品とすることができる。
Such a read error is detected by a functional test when the semiconductor memory device is in a wafer state. Previously, when a read error occurred, a redundant circuit was used to replace the defective part and the product was returned to good condition.
If a product has so many defective parts that it cannot be replaced with redundant circuits, it is treated as a defective product. However, the inventor of the present invention has discovered that read errors caused by a long rise time required for amplifying the differential potential between a pair of bit lines can be relieved by giving a predetermined delay to the selection signal YSW. By taking this measure, a product that conventionally had to be treated as a defective product can be made into a non-defective product without relying on redundant circuits.

【0023】即ち、機能試験によって読出しエラーが検
出された場合、切換回路5がアクティブレベルの制御信
号DSを発生するように設定する。制御信号DSがアク
ティブレベルとなると、遅延回路6はセンスアンプ活性
化信号SEがアクティブレベルとなってから選択信号Y
SWがアクティブレベルとなるまでの遅延時間DT0(
図2参照)を更にDT1だけ遅延させて、t20の時点
で選択信号YSWがアクティブレベルとなる(図2(g
)実線参照)ように遅延時間を変化させる。
That is, when a read error is detected by the functional test, the switching circuit 5 is set to generate the active level control signal DS. When the control signal DS becomes active level, the delay circuit 6 outputs the selection signal Y after the sense amplifier activation signal SE becomes active level.
Delay time DT0 until SW reaches active level
(see FIG. 2) is further delayed by DT1, and the selection signal YSW becomes active level at time t20 (see FIG. 2(g)).
)) Change the delay time as shown in the solid line).

【0024】時点t20では、ビット線対BLa、BL
bの電位差は十分に増幅されている(図(f)実線参照
)一方、選択信号YSWがその時点でアクティブレベル
となって上記ビット線対BLa、BLbとI/O線との
接続が形成されると読出しは正常に行なわれる。
At time t20, bit line pair BLa, BL
While the potential difference between bit lines BLa and BLb is sufficiently amplified (see the solid line in Figure (f)), the selection signal YSW becomes active level at that point, and the connection between the bit line pair BLa and BLb and the I/O line is formed. Then reading is performed normally.

【0025】機能試験によって発見され、読出しエラー
を含む製品において、アクティブレベルの制御信号DS
を発生するように切換回路5を設定することにより、読
出しエラーが解消される。その場合制御信号DSがアク
ティブレベルとなるように切換回路5を永久的に設定す
ることにより、従来不良品として処理していたものを良
品とすることが可能となり、歩留の向上、コストの低減
に寄与することができる。この手法を持ったことに伴う
読出し時間の遅れDT1は2乃至4nS程度である。こ
の程度の読出し時間の遅れは、歩留の飛躍的に向上によ
って十分に償われる。
[0025] In a product containing a read error detected by a functional test, the active level control signal DS
By setting the switching circuit 5 to generate , read errors can be eliminated. In that case, by permanently setting the switching circuit 5 so that the control signal DS is at the active level, it becomes possible to treat products that were conventionally treated as defective as good products, improving yields and reducing costs. can contribute to The read time delay DT1 due to this method is about 2 to 4 nS. This degree of delay in read time is more than compensated for by a dramatic improvement in yield.

【0026】以上本発明の実施例を読出し動作時につい
て詳細に説明したが、本発明は書込み動作に対しても応
用できるので以下簡単に説明する。
Although the embodiments of the present invention have been described in detail for read operations, the present invention can also be applied to write operations, so a brief explanation will be given below.

【0027】書込み動作においても、ロウアドレスRA
とカラムアドレスCAによって1組のビット線対が選択
される動作(図2の時点t20)までは読出し動作と同
じである。その後、書込み動作では、選択信号YSWを
受けて活性化したライトアンプ8(図1参照)により増
幅された相補的データがI/O線を構成する配線Laと
Lbに供給され、この相補データがスイッチ回路4によ
り1組のビット線対に供給される。この書込データが所
定のメモリセルMCに強制的に書込まれ、書込み動作が
終了する。
Also in the write operation, the row address RA
The operation in which one bit line pair is selected by column address CA (time t20 in FIG. 2) is the same as the read operation. After that, in the write operation, complementary data amplified by the write amplifier 8 (see FIG. 1) activated in response to the selection signal YSW is supplied to the wirings La and Lb forming the I/O line, and this complementary data is The signal is supplied to one bit line pair by the switch circuit 4. This write data is forcibly written into a predetermined memory cell MC, and the write operation is completed.

【0028】次に図3を参照して、図1の実施例の中の
切換回路5および遅延回路6の具体的一例を説明する。 切換回路5は節点N1に接続されたパッドPDと、一端
が接点N1に接続され他端がヒューズF1に接続された
抵抗R1と、抵抗R1と電源端子Vcc間に接続された
ヒューズF1と、一端が接点N1に接続され他端がヒュ
ーズF2に接続された抵抗R2と、抵抗R2と接地端子
間に接続されたヒューズF2と、インバータ回路INV
1とを含んでいる。
Next, referring to FIG. 3, a specific example of the switching circuit 5 and delay circuit 6 in the embodiment of FIG. 1 will be described. The switching circuit 5 includes a pad PD connected to the node N1, a resistor R1 having one end connected to the contact N1 and the other end connected to the fuse F1, a fuse F1 connected between the resistor R1 and the power supply terminal Vcc, and one end. is connected to contact N1 and the other end is connected to fuse F2, fuse F2 is connected between resistor R2 and the ground terminal, and inverter circuit INV
1.

【0029】一方、遅延回路6は、センスアンプ活性化
信号SEを入力とする遅延素子D1と、遅延素子D1の
出力信号を更に遅延させる遅延素子D2と、切換回路5
の出力信号のDSと遅延素子D2の出力をインバータ回
路INV2を介した信号とを入力とするNANDゲート
G1と、遅延素子D1の出力とNANDゲートG1の出
力を入力とするNANDゲートG2と、NANDゲート
G2の出力を入力とするインバータ回路INV3とを含
んでいる。
On the other hand, the delay circuit 6 includes a delay element D1 that receives the sense amplifier activation signal SE, a delay element D2 that further delays the output signal of the delay element D1, and a switching circuit 5.
A NAND gate G1 receives as inputs the output signal DS of the delay element D2 and a signal passed through the inverter circuit INV2, and a NAND gate G2 receives as inputs the output of the delay element D1 and the output of the NAND gate G1. The inverter circuit INV3 receives the output of the gate G2 as an input.

【0030】次に、この切換回路5と遅延回路6の動作
について説明する。まず、この半導体メモリ装置がウェ
ハ状態での機能試験時において、最初はパッドPDの開
放状態で、インバータ回路INV1の出力、即ち制御信
号DSをロウレベルとする。制御信号DSがロウレベル
であるので、センスアンプ活性化信号SEは遅延素子D
1、NANDゲートG2、インバータ回路INVの経路
で進み、DT0だけ遅延した選択信号YSWとなる(図
2参照)。
Next, the operation of the switching circuit 5 and the delay circuit 6 will be explained. First, during a functional test of this semiconductor memory device in a wafer state, the pad PD is initially in an open state and the output of the inverter circuit INV1, that is, the control signal DS is set to a low level. Since the control signal DS is at low level, the sense amplifier activation signal SE is activated by the delay element D.
1, NAND gate G2, and inverter circuit INV, and becomes the selection signal YSW delayed by DT0 (see FIG. 2).

【0031】この状態で機能試験を行ない、良品である
との結果が得られた場合は、切換回路5のヒューズF2
を熔断し、これによって制御信号DSを永久的にロウレ
ベルとする。センスアンプ活性化信号SEがアクティブ
レベルに達し時間DTだけ経過した後に選択信号YSW
をアクティブレベルとする通常の読出し速度の半導体メ
モリ装置がこのようにして得られる。
In this state, a function test is performed, and if the result is that the product is good, the fuse F2 of the switching circuit 5 is
is melted, thereby permanently setting the control signal DS to a low level. After the sense amplifier activation signal SE reaches the active level and time DT has elapsed, the selection signal YSW is activated.
In this way, a semiconductor memory device with a normal read speed in which the active level is obtained is obtained.

【0032】一方、機能試験の結果、読出しエラーが検
出された場合は、パッドPDを接地電位とすることによ
って、インバータ回路INV1の出力、即ち制御信号D
Sをハイレベルとする。制御信号DSがハイレベルであ
るので、センスアンプ活性化信号SEは、遅延素子D1
、遅延素子D2、インバータ回路INV2、NANDゲ
ートG1、NANDゲートG2、インバータ回路INV
3の経路で進み、時間DT0+DT1だけ遅延した選択
信号YSWとなる(図2参照)。この状態で再び機能試
験を行ない、良品であるとの結果が得られた場合には、
切換回路5のヒューズF1を熔断する。これによって制
御信号DSを永久的にハイレベルとする。センスアンプ
活性化信号SEがアクティブレベルに達して時間DT0
+DT1だけ経過した後に選択信号YSWをアクティブ
レベルとする通常の読出し速度よりもDT1だけ読出し
速度の遅い半導体メモリ装置がこのようにして得られる
On the other hand, if a read error is detected as a result of the functional test, by setting the pad PD to the ground potential, the output of the inverter circuit INV1, that is, the control signal D
Let S be a high level. Since the control signal DS is at high level, the sense amplifier activation signal SE is activated by the delay element D1.
, delay element D2, inverter circuit INV2, NAND gate G1, NAND gate G2, inverter circuit INV
3, and the selection signal YSW is delayed by the time DT0+DT1 (see FIG. 2). If the function test is performed again in this state and the product is found to be of good quality,
Fuse F1 of switching circuit 5 is blown. This causes the control signal DS to remain at a high level permanently. Time DT0 after the sense amplifier activation signal SE reaches the active level
In this way, a semiconductor memory device is obtained which has a read speed slower by DT1 than the normal read speed in which the selection signal YSW is set to active level after +DT1 has elapsed.

【0033】パッドPDを接地電位としてもなお読出し
エラーであるとの試験結果が得られた場合には、本発明
の手法は効果を発揮できない。その場合は冗長回路によ
り不良箇所を置換する従来技術の手法によらざるを得な
い。
If a test result indicating a read error is obtained even when the pad PD is set to the ground potential, the method of the present invention will not be effective. In that case, the prior art method of replacing the defective part with a redundant circuit has to be used.

【0034】次に、図4を参照して切換回路5の他の例
について説明する。この切換回路は一端が接点N11に
接続され他端がヒューズF11に接続された抵抗R11
と、抵抗R11と電源端子Vcc間に接続されたヒュー
ズF11と、ソース・ドレイン路が接点N11と接地端
子間に接続されたNチャネル型MOSトランジスタ40
と、節点11を入力端とし、出力をトランジスタ24の
ゲートに接続されたインバータ回路INV10と、イン
バータ回路INV10の出力とテスト信号TESTを入
力とするNORゲートG11と、NORゲートG11の
出力を入力とするインバータ回路INV11とを含む。
Next, another example of the switching circuit 5 will be explained with reference to FIG. This switching circuit consists of a resistor R11 which has one end connected to contact N11 and the other end connected to fuse F11.
, a fuse F11 connected between the resistor R11 and the power supply terminal Vcc, and an N-channel MOS transistor 40 whose source/drain path is connected between the contact N11 and the ground terminal.
, an inverter circuit INV10 whose input terminal is the node 11 and whose output is connected to the gate of the transistor 24, a NOR gate G11 whose inputs are the output of the inverter circuit INV10 and the test signal TEST, and whose input is the output of the NOR gate G11. and an inverter circuit INV11.

【0035】この切換回路5では、まずTEST信号を
ロウレベルとすることにより、制御信号DSをロウレベ
ルの状態で機能試験を行ない、読出しエラーが発見され
た場合には、TEST信号をハイレベルとして、制御信
号DSをハイレベルの状態として再び機能試験を行なう
。制御信号DSをハイレベルとして読出しエラーが発生
しない場合には、ヒューズF11を熔断し、制御信号D
Sを永久的にハイレベルとする。このようにこの切換回
路5では、切換のためのパッドが不要となる。この場合
、TEST信号としては内部信号、例えばロウアクティ
ブのWE(ライトイネーブル)信号を使用すればよい。 次に、図5を参照して遅延回路6の他の例について説明
する。この遅延回路は遅延素子D20と、制御信号DS
をインバータ回路INV20を介した信号T1と、この
インバータ回路INV21の出力を更にインバータ回路
INV21を介した信号T2により導通がそれぞれ制御
されるPチャネルトランジスタおよびNチャネルトラン
ジスタからなるトランスファーゲート51および52と
、CMOSインバータを4つ直列に接続することにより
形成された遅延素子53とを含む。
In this switching circuit 5, first, the TEST signal is set to a low level to perform a function test with the control signal DS at a low level, and if a read error is found, the TEST signal is set to a high level to perform a control signal. The function test is performed again with the signal DS at high level. When the control signal DS is set to high level and no read error occurs, fuse F11 is blown and the control signal D is set to high level.
Set S permanently to high level. In this way, this switching circuit 5 does not require a pad for switching. In this case, an internal signal such as a row active WE (write enable) signal may be used as the TEST signal. Next, another example of the delay circuit 6 will be described with reference to FIG. This delay circuit includes a delay element D20 and a control signal DS.
transfer gates 51 and 52, each consisting of a P-channel transistor and an N-channel transistor, whose conduction is controlled by a signal T1 via an inverter circuit INV20, and a signal T2 via an inverter circuit INV21, which outputs the output of the inverter circuit INV21; and a delay element 53 formed by connecting four CMOS inverters in series.

【0036】この実施例でも、制御信号DSがロウレベ
ルの時はセンスアンプ活性化信号SEは遅延素子D20
およびトランスファーゲート51の経路で進み、時間D
T0だけ遅延した選択信号YSWとなる(図2参照)。 一方、制御信号DSがハイレベルの時はセンスアンプ活
性化信号SEは遅延素子D20、遅延素子53およびト
ランスファーゲート52の経路で進み、時間DT0+D
T1だけ遅延した選択信号YSWとなる(図2参照)。
Also in this embodiment, when the control signal DS is at low level, the sense amplifier activation signal SE is activated by the delay element D20.
and proceed along the path of transfer gate 51, at time D
The selection signal YSW is delayed by T0 (see FIG. 2). On the other hand, when the control signal DS is at a high level, the sense amplifier activation signal SE travels through the delay element D20, the delay element 53, and the transfer gate 52, and the time DT0+D
The selection signal YSW is delayed by T1 (see FIG. 2).

【0037】次に、図6を参照して切換回路15および
遅延回路16の他の例について説明する。これらの回路
例では、図3に示した切換回路5と同様の構成である切
換回路15aと15bの2つの切換回路を設け、制御信
号DS1およびDS2がどちらもロウレベルであるか、
または一方がハイレベルとなる構成となっている。
Next, another example of the switching circuit 15 and the delay circuit 16 will be described with reference to FIG. In these circuit examples, two switching circuits 15a and 15b having the same configuration as the switching circuit 5 shown in FIG. 3 are provided, and whether the control signals DS1 and DS2 are both low level or
Or one of them is configured to be at a high level.

【0038】遅延回路16は、センスアンプ活性化信号
SEの通る経路を3つ備えている。即ち、制御信号DS
1およびDS2が共にロウレベルの時は、センスアンプ
活性化信号SEは遅延素子D1、NANDゲートG3、
インバータ回路INV3の経路となる。制御信号DS1
がハイレベルの時は、センスアンプ活性化信号SEは、
遅延素子D1、D2、インバータ回路INV2、NAN
DゲートG1、NANDゲートG3、インバータ回路I
NV3の経路を経由する。一方、制御信号DS2がハイ
レベルの時は、センスアンプ活性化信号SEは遅延素子
D1、D3、D4、インバータ回路INV4、NAND
ゲートG2、NANDゲートG3、インバータ回路IN
V3の経路を経由する。
Delay circuit 16 has three paths through which sense amplifier activation signal SE passes. That is, the control signal DS
1 and DS2 are both at low level, the sense amplifier activation signal SE is activated by delay element D1, NAND gate G3,
This becomes the path of the inverter circuit INV3. Control signal DS1
When is at a high level, the sense amplifier activation signal SE is
Delay elements D1, D2, inverter circuit INV2, NAN
D gate G1, NAND gate G3, inverter circuit I
Via the route of NV3. On the other hand, when the control signal DS2 is at high level, the sense amplifier activation signal SE is connected to the delay elements D1, D3, D4, inverter circuit INV4, NAND
Gate G2, NAND gate G3, inverter circuit IN
Via route V3.

【0039】このように、制御信号をDS1とDS2の
2種類とすることにより、センスアンプ活性化信号SE
を選択的に遅延させて作る選択信号YSWに3段階の遅
延を与えることができる。選択信号YSWを遅延させる
ことはアクセス時間がそれだけ遅延することになるので
、この遅延時間は小さい方が望ましい。本実施例では、
この遅延量を最小限にすることができる。
As described above, by providing two types of control signals, DS1 and DS2, the sense amplifier activation signal SE
It is possible to give three stages of delay to the selection signal YSW, which is generated by selectively delaying . Delaying the selection signal YSW means that the access time will be delayed accordingly, so it is desirable that this delay time be small. In this example,
This amount of delay can be minimized.

【0040】尚、本実施例では制御信号を2種類とした
が、本発明では制御信号は3種類以上としても同様の効
果を得られる。この場合、図3に示した切換回路5と同
様の構成の切換回路を3つ以上設け、遅延回路もセンス
アンプ活性信号SEが通る経路を4つ以上とすればよい
In this embodiment, two types of control signals are used, but in the present invention, the same effect can be obtained even if three or more types of control signals are used. In this case, three or more switching circuits having the same configuration as switching circuit 5 shown in FIG. 3 may be provided, and the delay circuit may have four or more paths through which the sense amplifier activation signal SE passes.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体メ
モリ装置は、機能試験によって読出しエラーが発見され
た場合は、アクティブレベルの制御信号を発生するよう
に切換回路を設定する。これによって読出しエラーが解
消された場合は、制御信号が永久的にがアクティブレベ
ルとなるように切換回路を設定することにより、従来不
良品とするほかなかった製品を良品とすることを可能と
し、歩留の向上に寄与することができる。
As described above, in the semiconductor memory device of the present invention, the switching circuit is set to generate an active level control signal when a read error is discovered through a functional test. If the read error is resolved by this, the switching circuit is set so that the control signal remains at the active level permanently, making it possible to make a product that would previously have been considered defective to a good product. It can contribute to improving yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の実施例における半導体メモリ装置の構
成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a semiconductor memory device in an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す半導体メモリ装置の動作を説明する
ための波形図である。
FIG. 2 is a waveform diagram for explaining the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1;

【図3】図1に示す切換回路および遅延回路の具体的構
成の一例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a specific configuration of a switching circuit and a delay circuit shown in FIG. 1;

【図4】図1に示す切換回路の他の具体的構成を示す回
路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another specific configuration of the switching circuit shown in FIG. 1;

【図5】図1に示す遅延回路の他の具体的構成を示す回
路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing another specific configuration of the delay circuit shown in FIG. 1;

【図6】図1に示す切換回路および遅延回路の更に他の
具体的構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing still another specific configuration of the switching circuit and delay circuit shown in FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1    メモリセルアレイ 2    ロウデコーダ 3    カラムデコーダ 4    選択スイッチ 5    切換回路 6    遅延回路 7    データアンプ 8    ライトアンプ YSW    選択信号 SE    センスアンプ活性化信号 DS    選択信号 1 Memory cell array 2 Row decoder 3 Column decoder 4 Selection switch 5 Switching circuit 6 Delay circuit 7 Data amplifier 8 Light amplifier YSW Selection signal SE Sense amplifier activation signal DS selection signal

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  アレイ状に設けられた複数のメモリセ
ルとそれらにそれぞれ接続した複数のビット線およびワ
ード線を含み前記ビット線は2本で一対となすように配
置されたメモリセルアレイと、前記ビット線対の各々に
1つづつ設けられ活性化信号に応じて前記ビット線対間
の電位差を増幅するセンスアンプと、前記活性化信号を
入力信号とし切換回路からの制御信号に応じて変化する
遅延時間を前記活性化信号に与えて選択信号を発生させ
る遅延回路と、前記選択信号に応じて所定の前記ビット
線対とI/O線とを接続する選択スイッチ手段とを有す
ることを特徴とする半導体メモリ装置。
1. A memory cell array including a plurality of memory cells provided in an array and a plurality of bit lines and word lines respectively connected to the memory cells, and the memory cell array is arranged such that two bit lines form a pair; a sense amplifier that is provided for each bit line pair and amplifies the potential difference between the bit line pairs according to an activation signal; and a sense amplifier that uses the activation signal as an input signal and changes it according to a control signal from a switching circuit. It is characterized by comprising a delay circuit that applies a delay time to the activation signal to generate a selection signal, and selection switch means that connects a predetermined bit line pair and an I/O line in response to the selection signal. semiconductor memory device.
【請求項2】  前記切換回路は前記制御信号のレベル
を任意に変化させる第1の出力手段と、前記制御信号の
レベルを固定して出力する第2の出力手段とを含むこと
を特徴とする請求項1記載の半導体メモリ装置。
2. The switching circuit is characterized in that it includes a first output means that arbitrarily changes the level of the control signal, and a second output means that fixes the level of the control signal and outputs it. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】  前記第2の出力手段は電源端子と出力
端間に設けられたヒューズを含むことを特徴とする請求
項2記載の半導体メモリ装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said second output means includes a fuse provided between a power supply terminal and an output terminal.
【請求項4】  前記遅延回路が複数の遅延経路と、前
記制御信号のレベルに応じて1つの前記遅延経路を選択
する選択手段を含むことを特徴とする請求項1記載の半
導体メモリ装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the delay circuit includes a plurality of delay paths and selection means for selecting one of the delay paths depending on the level of the control signal.
【請求項5】  前記選択手段が論理ゲートにより構成
されていることを特徴とする請求項4記載の半導体メモ
リ装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein said selection means is constituted by a logic gate.
【請求項6】  前記選択手段が前記制御信号を制御端
子に受ける複数のトランスファーゲートにより構成され
ていることを特徴とする請求項4記載の半導体メモリ装
置。
6. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein said selection means is constituted by a plurality of transfer gates receiving said control signal at a control terminal.
【請求項7】  前記切換回路が複数の制御信号を発生
し、前記遅延回路が前記複数の制御信号のレベルに応じ
て前記遅延時間を変化させることを特徴とする請求項1
記載の半導体メモリ装置。
7. The switching circuit generates a plurality of control signals, and the delay circuit changes the delay time according to the levels of the plurality of control signals.
The semiconductor memory device described above.
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