JP3400135B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3400135B2
JP3400135B2 JP22577494A JP22577494A JP3400135B2 JP 3400135 B2 JP3400135 B2 JP 3400135B2 JP 22577494 A JP22577494 A JP 22577494A JP 22577494 A JP22577494 A JP 22577494A JP 3400135 B2 JP3400135 B2 JP 3400135B2
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signal
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、特に
メモリセルの一部に不良が生じた場合に、それを冗長メ
モリセルによって救済するための欠陥救済技術に関し、
例えばダイナミック型ランダム・アクセス・メモリ(D
RAMと略記する)に適用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a defect repair technique for repairing a defect in a part of a memory cell by a redundant memory cell,
For example, dynamic random access memory (D
(Abbreviated as RAM)) and effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】DRAMなどの半導体記憶装置の歩留ま
りを向上させる目的で従来から冗長構成が採用されてい
る。冗長構成は予備ビット若しくは予備エレメントを有
し、ウェーハプローブテストの段階で欠陥が発見される
と、その欠陥回路部分が所定の予備エレメントに切換え
られる。そのような切換えのためのアドレス情報(冗長
アドレスという)は、冗長プログラム回路にプログラム
される。欠陥ビットが無い場合には冗長救済は行われな
いが、ウェーハプローブテストの段階で欠陥が発見さ
れ、それを予備エレメントに置換えるためのアドレス情
報がプログラムされた場合、外部から入力されたアドレ
スと冗長アドレスとが比較され、それらが一致した場合
には、正規のワード線又は正規データ線に代えて、冗長
ワード線又は冗長データ線が選択される。そのように、
冗長ワード線又は冗長データ線が選択される場合におい
て、正規ワード線や正規データ線の選択は、インヒビッ
ト回路によって禁止されるようになっている。冗長アド
レスの設定は、ポリシリコンなどで形成されたヒューズ
素子をレーザ光線等を用いて必要に応じて熔断すること
によって行われていたが、近年では上記ポリシリコンな
どで形成されたヒューズに代えてEPROMセルなどの
不揮発性記憶素子が用いられるようになっている。
2. Description of the Related Art A redundant configuration has been conventionally used for the purpose of improving the yield of semiconductor memory devices such as DRAM. The redundant structure has spare bits or spare elements, and if a defect is found during the wafer probe test, the defective circuit portion is switched to a predetermined spare element. Address information for such switching (called redundant address) is programmed in the redundant program circuit. If there is no defective bit, redundant repair is not performed, but if a defect is found at the wafer probe test stage and the address information to replace it with the spare element is programmed, the address input from the outside The redundant address is compared, and if they match, the redundant word line or redundant data line is selected instead of the regular word line or regular data line. so,
When the redundant word line or the redundant data line is selected, the inhibit word circuit prohibits the selection of the regular word line or the regular data line. The setting of the redundant address has been performed by using a laser beam or the like to blow a fuse element formed of polysilicon or the like as necessary, but in recent years, instead of the fuse formed of polysilicon or the like, Non-volatile storage elements such as EPROM cells have come to be used.

【0003】図8には従来の冗長デコーダが示される。
冗長アドレスを記憶するための冗長アドレス記憶回路4
1〜44が設けられ、メモリアクセスのために外部から
与えられたアドレスA1,A1*(*はローアクティブ
又は信号反転を意味する)〜A4,A4*と、冗長アド
レス記憶回路41〜44の記憶情報との比較を行うため
の一致比較回路CAM1〜CAM4が設けられる。一致
比較回路CAM1〜CAM4の後段には、一致比較回路
CAM1〜CAM4の出力信号のノア論理を得るための
ノア回路45が設けられ、このノア回路45の出力信号
に基づいて冗長行、又は冗長列の選択が行われるように
なっている。つまり、入力アドレスと冗長アドレスとが
ビット単位で比較され、両アドレスが一致した場合に、
冗長行、又は冗長列の選択が行われる。一致比較回路C
AM1〜CAM4は同一構成とされる。一致比較回路C
AM4の構成が代表的に示されるように、一致比較回路
CAM1〜CAM4は、それぞれpチャンネル型MOS
トランジスタQ1とnチャンネル型MOSトランジスタ
Q2とが並列接続されて成るトランスファゲートを含
み、冗長アドレスf,f*と入力アドレスA4,A4*
との比較が行われるようになっている。
FIG. 8 shows a conventional redundant decoder.
Redundant address storage circuit 4 for storing redundant addresses
1 to 44 are provided, and addresses A1, A1 * (* means low active or signal inversion) to A4, A4 * given from the outside for memory access, and storage of the redundant address storage circuits 41 to 44. Match comparison circuits CAM1 to CAM4 are provided for comparison with information. A NOR circuit 45 for obtaining the NOR logic of the output signals of the match comparison circuits CAM1 to CAM4 is provided at the subsequent stage of the match comparison circuits CAM1 to CAM4. Based on the output signal of the NOR circuit 45, a redundant row or a redundant column is provided. The selection of is made. That is, the input address and the redundant address are compared in bit units, and when both addresses match,
A redundant row or a redundant column is selected. Match comparison circuit C
AM1 to CAM4 have the same configuration. Match comparison circuit C
As representatively shown in the structure of AM4, the coincidence comparison circuits CAM1 to CAM4 are p-channel MOS transistors, respectively.
It includes a transfer gate formed by connecting a transistor Q1 and an n-channel MOS transistor Q2 in parallel, and has redundant addresses f, f * and input addresses A4, A4 *.
It will be compared with.

【0004】図9には上記冗長アドレス記憶回路の構成
が示される。欠陥線のアドレスに関する復号情報の記憶
手段として、EPROM40が設けられる。pチャンネ
ル型MOSトランジスタ33,34が直列接続され、p
チャンネル型MOSトランジスタ35,36が直列接続
される。電圧VREFがnチャンネル型MOSトランジ
スタのゲート電極に印加されることによって当該nチャ
ンネル型MOSトランジスタ39が動作され、上記EP
ROM40がノード42に結合される。相補レベルの出
力信号f,f*を得るため、インバータ37,38が設
けられている。インバータ37の出力信号がpチャンネ
ル型MOSトランジスタ36にフィードバックされるこ
とによって、出力信号f,f*の論理状態が保持され
る。この保持状態は、リセット信号RESET*によっ
て解除される。
FIG. 9 shows the configuration of the redundant address storage circuit. An EPROM 40 is provided as a storage unit of the decoding information regarding the address of the defective line. p-channel type MOS transistors 33 and 34 are connected in series, and p
Channel type MOS transistors 35 and 36 are connected in series. By applying the voltage VREF to the gate electrode of the n-channel type MOS transistor, the n-channel type MOS transistor 39 is operated, and the EP
ROM 40 is coupled to node 42. Inverters 37, 38 are provided to obtain complementary level output signals f, f *. By feeding back the output signal of the inverter 37 to the p-channel type MOS transistor 36, the logical states of the output signals f and f * are held. This hold state is released by the reset signal RESET *.

【0005】尚、冗長救済技術について記載された文献
の例としては、特開平2−239800号公報がある。
As an example of a document describing the redundancy repair technique, there is JP-A-2-239800.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術によれ
ば、冗長アドレスの記憶回路と一致比較回路が、相補レ
ベルのアドレス信号対毎にそれぞれ分散配置されている
ため、同回路で構成される冗長デコーダ回路のチップ占
有面積が大きくなってしまう。今後ますます半導体記憶
装置が大容量化され、それに伴い冗長救済線本数が増大
された場合、冗長デコーダの増加によりチップ面積が大
きくなり、歩留りが低下する虞がある。
According to the above prior art, the redundant address storage circuit and the coincidence comparison circuit are separately arranged for each complementary level address signal pair. The chip occupation area of the decoder circuit becomes large. If the capacity of the semiconductor memory device is further increased in the future and the number of redundant repair lines is increased accordingly, the chip area will be increased due to the increase of redundant decoders, which may reduce the yield.

【0007】本発明の目的は、半導体記憶装置が大容量
化され、それに伴い冗長救済線本数が増大された場合で
も、冗長デコーダのチップ占有面積を可能な限り抑える
ための技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a technique for suppressing the chip occupation area of the redundant decoder as much as possible even when the capacity of the semiconductor memory device is increased and the number of redundant repair lines is increased accordingly. is there.

【0008】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0010】すなわち、冗長回路の動作をプログラム可
能な不揮発性記憶素子と、不揮発性記憶素子に記憶され
た冗長アドレスに基づいて相補アドレスを形成するため
の回路と、この回路の状態に応じて、冗長アドレスと入
力アドレスとのビット単位の比較を可能とするためのト
ランジスタとを含んで成る比較手段を、入力アドレスの
ビット構成、及び冗長救済線数に対応して行、及び列方
向に複数配置する。このとき、上記比較手段の比較結果
に応じて駆動される第1トランジスタが上記比較手段に
対応して複数配列され、且つ、この第1トランジスタが
上記比較手段の列方向の配列に対応して互いに直列接続
されることによって入力アドレスと冗長アドレスとの一
致信号を得るように構成することができる。上記比較手
段の比較結果に応じて駆動される第2トランジスタが上
記比較手段に対応して複数配列され、且つ、この第2ト
ランジスタが上記比較手段の列方向の配列に対応して互
いに並列接続されることによって入力アドレスと冗長ア
ドレスとの不一致信号を得るように構成することができ
る。
That is, a nonvolatile memory element capable of programming the operation of the redundant circuit, a circuit for forming a complementary address based on the redundant address stored in the nonvolatile memory element, and a state of this circuit, A plurality of comparing means including a transistor for enabling bit-by-bit comparison between the redundant address and the input address are arranged in the row and column directions corresponding to the bit configuration of the input address and the number of redundant repair lines. To do. At this time, a plurality of first transistors driven according to the comparison result of the comparison means are arranged corresponding to the comparison means, and the first transistors are mutually arranged corresponding to the arrangement of the comparison means in the column direction. It can be configured to obtain a match signal between the input address and the redundant address by being connected in series. A plurality of second transistors driven according to the comparison result of the comparison means are arranged corresponding to the comparison means, and the second transistors are connected in parallel to each other corresponding to the arrangement of the comparison means in the column direction. By doing so, it is possible to obtain a mismatch signal between the input address and the redundant address.

【0011】[0011]

【作用】上記した手段によれば、不揮発性記憶素子に記
憶された冗長アドレスに基づいてセットされるフリップ
フロップと、このフリップフロップのセット状態に応じ
て、冗長アドレスと入力アドレスとのビット単位の比較
を可能とするためのトランジスタとを含んで比較手段を
形成し、この比較手段を、入力アドレスのビット構成、
及び冗長救済線数に対応して行及び列方向に複数配置す
ることは、比較手段のマトリクス配置により、効率良い
レイアウトを可能とし、冗長救済線本数が増大された場
合のチップ占有面積の増大を可能な限り抑える。
According to the above means, the flip-flop set based on the redundant address stored in the non-volatile memory element and the bit unit of the redundant address and the input address depending on the set state of the flip-flop. Forming a comparison means including a transistor for enabling comparison, and comparing the comparison means with the bit configuration of the input address;
Also, arranging a plurality of rows in the row and column directions corresponding to the number of redundant relief lines enables efficient layout by the matrix arrangement of the comparison means, and increases the chip occupation area when the number of redundant relief lines is increased. Keep it as low as possible.

【0012】[0012]

【実施例】図7には本発明の一実施例であるDRAMが
示される。同図に示されるDRAMは、特に制限されな
いが、公知の半導体集積回路製造技術によってシリコン
基板のような一つの半導体基板に形成されている。図7
において、54は複数個のダイナミック型メモリセルを
マトリクス配置した正規メモリセルアレイであり、メモ
リセルの選択端子はロウ方向毎にワード線に結合され、
メモリセルのデータ入力端子はカラム方向毎に相補デー
タ線に結合される。そしてそれぞれの相補データ線は、
相補データ線に1対1で結合された複数個のカラム選択
スイッチを含むカラム選択回路57を介して相補コモン
データ線に共通接続される。特に制限されないが、アド
レスマルチプレクス方式が採用され、ロウ及びカラムア
ドレス入力信号を、それらのタイミングをずらすことに
より共通のアドレス端子から取込むようにしている。す
なわち正規ロウデコーダ52と、カラムデコーダ56に
は、外部から与えられたアドレス信号が入力されるよう
になっている。このようなアドレス入力を円滑に行うた
めロウアドレスストローブ信号RAS*、及びカラムア
ドレスストローブ信号CAS*の2種類のクロック信号
が外部から与えられる。一つのメモリサイクル(ロウア
ドレスストローブ信号RAS*の1周期)中に読出し、
あるいは書込みの一方の動作のみを可能とするため、ロ
ウアドレスストローブ信号RAS*の立下り時点でロウ
アドレスを、カラムアドレスストローブ信号CAS*の
立下り時点でカラムアドレスを内部回路に取込むように
し、ライトイネーブル信号WE*の状態によって当該サ
イクルが書込みサイクルか読出しサイクルかの判断を可
能としている。さらに、アウトプットイネーブル信号O
E*がローレベルにアサートされることによって、読出
しデータの外部出力が可能とされる。このような判断並
びに各部の動作制御は制御部55によって行われる。
尚、この制御部55には、ダイナミック型メモリセルの
記憶内容を所定の周期でリフレッシュするためのセルフ
リフレッシュ制御系などを含む。
FIG. 7 shows a DRAM which is an embodiment of the present invention. Although not particularly limited, the DRAM shown in the figure is formed on one semiconductor substrate such as a silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique. Figure 7
In 54, 54 is a normal memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix, and the selection terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction,
The data input terminal of the memory cell is coupled to the complementary data line in each column direction. And each complementary data line is
It is commonly connected to the complementary common data line through a column selection circuit 57 including a plurality of column selection switches coupled to the complementary data line in a one-to-one relationship. Although not particularly limited, an address multiplex system is adopted, and row and column address input signals are taken in from a common address terminal by shifting their timings. That is, an address signal given from the outside is input to the normal row decoder 52 and the column decoder 56. To smoothly perform such address input, two types of clock signals, a row address strobe signal RAS * and a column address strobe signal CAS *, are externally applied. Read during one memory cycle (one cycle of the row address strobe signal RAS *),
Alternatively, in order to enable only one of the write operations, the row address is taken into the internal circuit when the row address strobe signal RAS * falls, and the column address is taken into the internal circuit when the column address strobe signal CAS * falls. The state of the write enable signal WE * makes it possible to determine whether the relevant cycle is a write cycle or a read cycle. Furthermore, the output enable signal O
When E * is asserted to the low level, the read data can be output to the outside. The control unit 55 performs such determination and operation control of each unit.
The control unit 55 includes a self-refresh control system for refreshing the stored contents of the dynamic memory cell at a predetermined cycle.

【0013】正規ロウデコーダ52のデコード出力に基
づいて、正規メモリセルアレイ54のワード線が選択レ
ベルに駆動される。そしてカラムデコーダ56のデコー
ド出力に基づいてカラム選択回路57が駆動され、これ
により特定されるメモリセルからのデータ読出し若しく
はデータ書込みが可能とされる。また、微弱なメモリセ
ルデータを増幅するためのセンスアンプ59が設けられ
る。データ入出力回路58にはメインアンプが含まれ、
このメインアンプを介して読出しデータの外部送出が可
能とされる。特に制限されないが、リフレッシュ動作に
おいて、上記センスアンプ59がリフレッシュ用増幅回
路として利用される。つまり、センスアンプ59で検
出、増幅された信号がメモリセルに再書込みされること
によって、ダイナミック型メモリセルのリフレッシュが
行われる。読出し/書込み動作が行われると、選択され
たワード線に結合されている全てのメモリセルが同時に
リフレッシュされる。従って、正規メモリセルアレイ5
4の全部をリフレッシュするためには選択ワード線を変
えながら、一定時間の間にワード線の数だけリフレッシ
ュ動作が行われる。
Based on the decoded output of the normal row decoder 52, the word line of the normal memory cell array 54 is driven to the selected level. Then, the column selection circuit 57 is driven based on the decoded output of the column decoder 56, and data reading or data writing from the memory cell specified by this is enabled. Further, a sense amplifier 59 for amplifying weak memory cell data is provided. The data input / output circuit 58 includes a main amplifier,
The read data can be transmitted to the outside through the main amplifier. Although not particularly limited, in the refresh operation, the sense amplifier 59 is used as a refresh amplifier circuit. That is, the signal detected and amplified by the sense amplifier 59 is rewritten in the memory cell, so that the dynamic memory cell is refreshed. When a read / write operation is performed, all memory cells coupled to the selected word line are refreshed at the same time. Therefore, the regular memory cell array 5
In order to refresh all four, the refresh operation is performed by the number of word lines in a certain time while changing the selected word line.

【0014】正規メモリセルアレイ54の一部の欠陥
を、ワード単位に救済するための冗長構成として、冗長
メモリセルアレイ23と、この冗長メモリセルアレイ2
3の冗長ワード線を選択的に駆動するための冗長デコー
ダ51が設けられている。正規メモリセルアレイ54に
欠陥があり、それを救済するためのアドレス情報(冗長
アドレス)が、冗長デコーダ51内の記憶手段ににプロ
グラムされるようになっている。正規メモリセルアレイ
54の一部の欠陥を救済するための冗長アドレスが冗長
デコーダ51にプログラムされた場合には、外部から入
力されたロウアドレスと冗長アドレスとが比較され、そ
れらが一致した場合には、正規メモリセルアレイ54に
おける正規ワード線に代えて、冗長メモリセルアレイ5
3における冗長ワード線が選択される。
A redundant memory cell array 23 and the redundant memory cell array 2 are provided as a redundant structure for relieving a part of the defects of the normal memory cell array 54 in word units.
A redundant decoder 51 for selectively driving the three redundant word lines is provided. The normal memory cell array 54 has a defect, and address information (redundant address) for relieving the defect is programmed in the storage means in the redundant decoder 51. When a redundant address for relieving a part of the defect in the normal memory cell array 54 is programmed in the redundant decoder 51, the row address input from the outside is compared with the redundant address. , The redundant memory cell array 5 instead of the regular word line in the regular memory cell array 54.
The redundant word line in 3 is selected.

【0015】図1には、上記DRAMに含まれる冗長デ
コーダ51の詳細な構成が示される。図1に示される冗
長デコーダ51は、特に制限されないが、センスレベル
設定回路群4、一致比較回路群2、駆動回路18、電源
検出回路12、及びバッファ群6を含む。
FIG. 1 shows a detailed structure of the redundant decoder 51 included in the DRAM. Redundant decoder 51 shown in FIG. 1 includes, but is not limited to, sense level setting circuit group 4, match comparison circuit group 2, drive circuit 18, power supply detection circuit 12, and buffer group 6.

【0016】上記バッファ群6は、相補レベルの入力ア
ドレスA0,A0*〜An−1,An−1*のビット数
に対応して配置された複数のバッファ16を有する。こ
の複数のバッファ16の出力端子は、行方向に配列され
た一致比較回路のアドレス入力端子に共通接続されてお
り、入力されたアドレス信号が、アドレス比較のため
に、対応する一致比較回路に伝達されるようになってい
る。例えば相補レベルの入力アドレスA0,A0*に対
応するバッファ16,16から出力されたアドレス信号
DA0,DA0*は、一致比較回路CAM00〜CAM
i−10に伝達され、アドレス信号An−1,An−1
*に対応するバッファ16,16から出力されたアドレ
ス信号DAn−1,DAn−1*は、一致比較回路CA
M0n−1〜CAMi−1n−1に伝達されるようにな
っている。
The buffer group 6 has a plurality of buffers 16 arranged corresponding to the number of bits of the complementary level input addresses A0, A0 * to An-1, An-1 *. The output terminals of the plurality of buffers 16 are commonly connected to the address input terminals of the match comparison circuits arranged in the row direction, and the input address signal is transmitted to the corresponding match comparison circuits for address comparison. It is supposed to be done. For example, the address signals DA0 and DA0 * output from the buffers 16 and 16 corresponding to the complementary-level input addresses A0 and A0 * are the same as the match comparison circuits CAM00 to CAM.
i-10, address signals An-1, An-1 are transmitted.
The address signals DAn-1 and DAn-1 * output from the buffers 16 and 16 corresponding to * correspond to the coincidence comparison circuit CA.
It is adapted to be transmitted to M0n-1 to CAMi-1n-1.

【0017】一致比較回路群2は、冗長アドレスの記憶
するためのEPROMセルを含み、このEPROMセル
に記憶された冗長アドレスと、メモリアクセスのための
外部から入力されたアドレスとを比較する機能を有し、
マトリクス状に配置形成された複数の一致比較回路CA
M00〜CAMi−1n−1を含む。すなわち、一致比
較回路は、行方向(矢印X方向)にi個配列され、列方
向(矢印Y方向)にn個配置される(i,nはいずれも
正の整数)。一致比較回路の列方向の配列数は、相補レ
ベルの入力アドレスA0,A0*〜An−1,An−1
*に対応している。例えば、入力アドレスが8ビット構
成の場合、n=8とされる。また、一致比較回路の行方
向の配列数iは、冗長救済線例えば冗長メモリセルアレ
イ53における冗長ワード線の数に対応する。例えば冗
長ワード線数が4本の場合、i=4とされる。つまり、
入力アドレスのビット構成によって一致比較回路の列方
向の配列数が決定され、冗長ワード線数によって一致比
較回路の行方向の配列数が決定される。そして、バッフ
ァ部6を介して取込まれたアドレスDA0,DA0*〜
DAn−1,DAn−1*が、行方向配列された一致比
較回路毎に、共通に入力されるようになっている。例え
ば、アドレスDA0,DA0*は、一致比較回路CAM
00〜CAMi−10に共通に入力され、同様に、アド
レスDAn−1,DAn−1*は一致比較回路CAM0
n−1〜CAMi−1n−1に共通に入力される。
The match comparison circuit group 2 includes an EPROM cell for storing a redundant address, and has a function of comparing the redundant address stored in this EPROM cell with an address inputted from the outside for memory access. Have,
A plurality of coincidence comparison circuits CA arranged and formed in a matrix
Includes M00 to CAMi-1n-1. That is, i matching comparison circuits are arranged in the row direction (arrow X direction) and n in the column direction (arrow Y direction) (i and n are both positive integers). The number of arrays in the column direction of the coincidence comparison circuit is the same as the input addresses A0, A0 * to An-1, An-1 of complementary levels.
It corresponds to *. For example, when the input address has an 8-bit structure, n = 8. The number i of arrays of the coincidence comparison circuits in the row direction corresponds to the number of redundant relief lines, for example, redundant word lines in the redundant memory cell array 53. For example, when the number of redundant word lines is 4, i = 4. That is,
The bit configuration of the input address determines the number of arrays of the match comparison circuit in the column direction, and the number of redundant word lines determines the number of arrays of the match comparison circuit in the row direction. Then, the addresses DA0, DA0 * ...
DAn-1 and DAn-1 * are commonly input to each of the coincidence comparison circuits arranged in the row direction. For example, the addresses DA0 and DA0 * are assigned to the match comparison circuit CAM.
00 to CAMi-10 are commonly input, and similarly, the addresses DAn-1 and DAn-1 * are coincidence comparison circuits CAM0.
It is commonly input to n-1 to CAMi-1n-1.

【0018】複数の一致比較回路CAM00〜CAMi
−1n−1の比較結果出力端子には、それぞれnチャン
ネル型MOSトランジスタQH00〜QHi−1n−
1、及びpチャンネル型MOSトランジスタQM00〜
QMi−1n−1が結合され、対応する一致比較回路の
出力信号によって、それらが駆動されるようになってい
る。nチャンネル型MOSトランジスタQH00〜QH
i−1n−1は、列毎に互いに直列接続されており、対
応する一致比較回路からの出力信号のナンド論理を得る
ことによって一致信号HS0〜HSi−1を形成するた
めに設けられている。pチャンネル型MOSトランジス
タQM00〜QMi−1n−1は、列毎に並列接続され
ており、対応する一致比較回路からの出力信号のノア論
理を得ることによって不一致信号MS0〜MSi−1を
形成するために設けられている。
A plurality of coincidence comparison circuits CAM00 to CAMi
The n-channel MOS transistors QH00 to QHi-1n- are connected to the comparison result output terminals of -1n-1.
1 and p-channel type MOS transistors QM00 to QM00
QMi-1n-1 are coupled so that they are driven by the output signals of the corresponding coincidence comparison circuits. N-channel type MOS transistors QH00 to QH
i-1n-1 are connected to each other in series for each column, and are provided to form the match signals HS0 to HSi-1 by obtaining the NAND logic of the output signals from the corresponding match comparison circuits. The p-channel type MOS transistors QM00 to QMi-1n-1 are connected in parallel for each column and form the mismatch signals MS0 to MSi-1 by obtaining the NOR logic of the output signals from the corresponding match comparison circuits. It is provided in.

【0019】また、電源検出回路12は、電源電圧の投
入を検出してパワーオンセット信号を生成する機能を有
し、この電源検出回路12からのパワーオンセット信号
が、後段の駆動回路18に伝達されるようになってい
る。この駆動回路18は、制御線24を介して一致比較
回路CAM00〜CAMi−1n−1に、パワーオンセ
ット信号、及び書込み用高電圧信号を供給するための機
能を有する。
Further, the power supply detection circuit 12 has a function of detecting power-on of the power supply voltage and generating a power-on set signal, and the power-on set signal from the power supply detection circuit 12 is supplied to the drive circuit 18 in the subsequent stage. It is being transmitted. The drive circuit 18 has a function of supplying a power-on set signal and a write high voltage signal to the coincidence comparison circuits CAM00 to CAMi-1n-1 via the control line 24.

【0020】センスレベル設定回路群4は、上記一致比
較回路群2からの一致信号や不一致信号のセンスレベル
を設定するもので、特に制限されないが、上記一致比較
回路群2からの一致信号や不一致信号の数に対応する複
数のセンスレベル設定回路14を含む。この複数のセン
スレベル設定回路14は、そのうちの一つが代表的に示
されるように、プリチャージ用のnチャンネル型MOS
トランジスタQprと、ディスチャージ用のnチャンネ
ル型MOSトランジスタQdisと、転送用のnチャン
ネル型MOSトランジスタQdsとが結合されて成る。
nチャンネル型MOSトランジスタQprは高電位側電
源Vccに結合され、プリチャージ制御信号φprがハ
イレベルにアサートされるタイミングで、信号伝達路を
プリチャージする。また、nチャンネル型MOSトラン
ジスタQdisは、低電位側電源Vssに結合され、デ
ィスチャージ制御信号φdisがハイレベルにアサート
されるタイミングで、信号伝達路の電荷をディスチャー
ジする。さらに、nチャンネル型MOSトランジスタQ
dsは、転送制御信号φdsがハイレベルにアサートさ
れるタイミングで、上記一致比較回路群2からの比較結
果を取込む。nチャンネル型MOSトランジスタQpr
により信号伝送路がプリチャージされた状態で、nチャ
ンネル型MOSトランジスタQdsを介して一致比較回
路群2からの比較結果の取込みが行われる。
The sense level setting circuit group 4 sets the sense level of the coincidence signal or the non-coincidence signal from the coincidence comparison circuit group 2 and is not particularly limited. A plurality of sense level setting circuits 14 corresponding to the number of signals are included. The plurality of sense level setting circuits 14, as one of which is representatively shown, is an n-channel type MOS for precharge.
A transistor Qpr, an n-channel MOS transistor Qdis for discharging, and an n-channel MOS transistor Qds for transfer are coupled.
The n-channel type MOS transistor Qpr is coupled to the high potential side power supply Vcc and precharges the signal transmission path at the timing when the precharge control signal φpr is asserted to the high level. Further, the n-channel type MOS transistor Qdis is coupled to the low potential side power source Vss and discharges the electric charge in the signal transmission path at the timing when the discharge control signal φdis is asserted to the high level. Furthermore, an n-channel MOS transistor Q
ds is a timing at which the transfer control signal φds is asserted to a high level, and fetches the comparison result from the match comparison circuit group 2. n-channel type MOS transistor Qpr
With the signal transmission path precharged by, the comparison result is fetched from the coincidence comparison circuit group 2 through the n-channel MOS transistor Qds.

【0021】さらに、一致信号HIT0〜HITi−1
や、不一致信号Miss0〜Missi−1を出力する
ためのセンスアンプSAが設けられる。このセンスアン
プSAを介して出力される一致信号HIT0〜HITi
−1の数は、冗長メモリセルアレイ53における冗長ワ
ード線数に対応する。つまり、上記一致信号がハイレベ
ルにアサートされた場合、それに対応する冗長ワード線
が、選択レベルに駆動される。このとき、正規メモリセ
ルアレイ54における正規ワード線は、インヒビット回
路(図示せず)により禁止される。
Further, the coincidence signals HIT0 to HITi-1.
Alternatively, a sense amplifier SA for outputting the disagreement signals Miss0 to Missi-1 is provided. Matching signals HIT0 to HITi output via the sense amplifier SA
The number of -1 corresponds to the number of redundant word lines in the redundant memory cell array 53. That is, when the coincidence signal is asserted to the high level, the redundant word line corresponding to it is driven to the selection level. At this time, the normal word line in the normal memory cell array 54 is prohibited by an inhibit circuit (not shown).

【0022】図2には、説明の便宜上、冗長ワード線1
本に対応する部分の構成が抜出して示される。尚、図2
では転送用のMOSトランジスタQdsは省略されてい
る。相補レベルの入力アドレスDA0,DA0*〜DA
n−1,DAn−1*は、一致比較回路CAM00〜C
AM0n−1に、相補ビット単位に入力されるようにな
っている。nチャンネル型MOSトランジスタQH00
からQH0n−1が直列接続され、このnチャンネル型
MOSトランジスタQH00からQH0n−1のゲート
電極に、一致比較回路CAM00〜CAM0n−1から
の比較結果信号20が入力されるようになっている。M
OSトランジスタQH0n−1は低電位側電源Vssに
結合され、MOSトランジスタQH00は、プリチャー
ジ用のnチャンネル型MOSトランジスタQprを介し
て高電位側電源Vccに結合されるとともに、ディスチ
ャージ用のnチャンネル型MOSトランジスタQdis
を介して低電位側電源Vssに結合されている。プリチ
ャージ信号φprがハイレベルのとき、nチャンネル型
MOSトランジスタQprがオンされることによってノ
ードHS0がプリチャージされる。また、ディスチャー
ジ信号φdisがハイレベルのとき、nチャンネル型M
OSトランジスタQdisがオンされることによりノー
ドHS0がディスチャージされる。ノードHS0の論理
レベルは、センスアンプSA1を介して、後段回路へ出
力される。
FIG. 2 shows the redundant word line 1 for convenience of explanation.
The structure of the part corresponding to the book is extracted and shown. Incidentally, FIG.
In, the transfer MOS transistor Qds is omitted. Complementary level input address DA0, DA0 * to DA
n-1 and DAn-1 * are coincidence comparison circuits CAM00 to C
The signal is input to AM0n-1 in complementary bit units. n-channel type MOS transistor QH00
To QH0n-1 are connected in series, and the comparison result signal 20 from the coincidence comparison circuits CAM00 to CAM0n-1 is input to the gate electrodes of the n-channel MOS transistors QH00 to QH0n-1. M
The OS transistor QH0n-1 is coupled to the low potential side power supply Vss, and the MOS transistor QH00 is coupled to the high potential side power supply Vcc via the precharge n-channel type MOS transistor Qpr and the discharge n-channel type. MOS transistor Qdis
Is connected to the low potential side power source Vss via. When the precharge signal φpr is at high level, the n-channel type MOS transistor Qpr is turned on to precharge the node HS0. Further, when the discharge signal φdis is at high level, the n-channel type M
The node HS0 is discharged by turning on the OS transistor Qdis. The logic level of the node HS0 is output to the subsequent circuit via the sense amplifier SA1.

【0023】また、一致比較回路CAM00〜CAM0
n−1からの比較結果信号20は、一致比較回路CAM
00〜CAM0n−1に対応して配置されたpチャンネ
ル型MOSトランジスタQM00〜QM0n−1のゲー
ト電極に入力される。このpチャンネル型MOSトラン
ジスタQM00〜QM0n−1は互いに並列接続されて
いる。pチャンネル型MOSトランジスタQM00〜Q
M0n−1のドレイン電極は低電位側電源Vssに結合
される。pチャンネル型MOSトランジスタQM00〜
QM0n−1のソース電極はノードMS0とされ、この
ノードMS0は、プリチャージ用のnチャンネル型MO
SトランジスタQprを介して高電位側電源Vccに結
合されるとともに、ディスチャージ用のnチャンネル型
MOSトランジスタQdisを介して低電位側電源Vs
sに結合されている。また、ノードMS0の論理レベル
は、センスアンプSA2を介して、後段回路へ出力され
る。
Further, the coincidence comparison circuits CAM00 to CAM0
The comparison result signal 20 from n-1 is the match comparison circuit CAM.
Input to the gate electrodes of p-channel type MOS transistors QM00 to QM0n-1 arranged corresponding to 00 to CAM0n-1. The p-channel type MOS transistors QM00 to QM0n-1 are connected in parallel with each other. p-channel type MOS transistors QM00-Q
The drain electrode of M0n-1 is coupled to the low potential power supply Vss. p-channel type MOS transistor QM00-
The source electrode of QM0n-1 is a node MS0, and this node MS0 is an n-channel MO for precharging.
It is coupled to the high potential side power source Vcc via the S transistor Qpr, and is connected to the low potential side power source Vs via the discharge n-channel type MOS transistor Qdis.
bound to s. Further, the logic level of the node MS0 is output to the subsequent circuit via the sense amplifier SA2.

【0024】上記一致比較回路CAM00〜CAMi−
1n−1は全て同一構成とされ、図4には、一致比較回
路CAM00の構成例が代表的に示される。冗長アドレ
スを保持するためのフリップフロップFFが設けられて
いる。このフリップフロップFFの一方のノードN1に
は、EPROMセルQ9、nチャンネル型MOSトラン
ジスタQ5,Q6が結合され、他方のノードN2には、
EPROMセルQ10、nチャンネル型MOSトランジ
スタQ7,Q8が結合される。EPROMセルQ9,Q
10のゲート電極には制御線24が結合され、この制御
線24を介してパワーオンセット信号や、書込み用高電
圧の印加が可能とされる。nチャンネル型MOSトラン
ジスタQ5,Q7は転送用MOSトランジスタとされ、
データセット用のワード線22がハイレベルに駆動され
た場合に、アドレス信号DA0,DA0*がノードN
1,N2に伝達可能とされる。nチャンネル型MOSト
ランジスタQ6,Q8はアドレス比較結果を出力するた
めのMOSトランジスタとされ、それぞれノードN1,
N2がハイレベルの場合に、アドレス信号DA0,DA
0*の論理状態を比較結果信号20として出力する。上
記フリップフロップFFは、pチャンネル型MOSトラ
ンジスタQ1とnチャンネル型MOSトランジスタQ3
とによって形成された第1インバータと、pチャンネル
型MOSトランジスタQ2とnチャンネル型MOSトラ
ンジスタQ4とによって形成された第2インバータとが
結合されて成る。
The coincidence comparison circuits CAM00 to CAMi-
1n-1 have the same configuration, and FIG. 4 representatively shows a configuration example of the coincidence comparison circuit CAM00. A flip-flop FF for holding a redundant address is provided. An EPROM cell Q9 and n-channel MOS transistors Q5 and Q6 are coupled to one node N1 of the flip-flop FF, and the other node N2 is coupled to the other node N2.
EPROM cell Q10 and n-channel type MOS transistors Q7 and Q8 are coupled. EPROM cells Q9, Q
A control line 24 is coupled to the gate electrode of 10, and a power-on set signal and a writing high voltage can be applied via the control line 24. The n-channel type MOS transistors Q5 and Q7 are transfer MOS transistors,
When the data set word line 22 is driven to the high level, the address signals DA0 and DA0 * are transferred to the node N.
1 and N2 can be transmitted. The n-channel type MOS transistors Q6 and Q8 are MOS transistors for outputting the address comparison result, and are respectively connected to the nodes N1 and N1.
When N2 is at high level, address signals DA0, DA
The logic state of 0 * is output as the comparison result signal 20. The flip-flop FF includes a p-channel type MOS transistor Q1 and an n-channel type MOS transistor Q3.
And a second inverter formed by a p-channel type MOS transistor Q2 and an n-channel type MOS transistor Q4.

【0025】EPROMセルQ9,Q10への書込み動
作について説明する。EPROMセルQ9,Q10への
書込みは、先ず、EPROMセルQ9,Q10を紫外線
照射若しくは電圧印加により消去し、その後、相補レベ
ルのアドレス信号DA0,DA0*の電位差(Vcc/
Vss)を利用して、一方のノードN1をハイレベルと
し、他方のノードN2をローレベルとする。次いで、制
御線24に書込み用高電圧Vppをパルス状に印加す
る。特に制限されないが、書込み用高電圧Vppは12
Vとされる。そのような高電圧印加により、EPROM
セルQ10のゲート・ドレイン間の電位差が12V、E
PROMセルQ9のゲート・ドレイン間の電位差が9V
となる。EPROMセルQ10の浮遊ゲートにホットエ
レクトロンによる電子が注入され、当該EPROMセル
Q10のしきい値Vthが高レベル化される。このと
き、EPROMセルQ9のしきい値Vthはほとんど変
動されず、上記の消去直後のしきい値Vthの低レベル
状態が保持される。この結果、フリップフロップFF
は、しきい値Vthが低レベルとなるほうのEPROM
セル側で電流が流れるため、ノードN2がローレベル、
ノードN1がハイレベルとなる。つまり、EPROMセ
ルQ9,Q10の記憶状態に応じて、フリップフロップ
FFの論理状態がセットされる。EPROMセルQ9,
Q10への書込みについて説明したが、実際の冗長アド
レスの書込みは、一致比較回路列毎に行われる。尚、一
度EPROMセルに書込まれた冗長アドレスは電源遮断
時においても保持され、その保持情報(保持アドレス)
電源投入毎のパワーオンセットによりフリップフロップ
FFにセットされる。
The write operation to the EPROM cells Q9 and Q10 will be described. Writing to the EPROM cells Q9 and Q10 is performed by first erasing the EPROM cells Q9 and Q10 by irradiating ultraviolet rays or applying a voltage, and then, the potential difference (Vcc / Vcc / D0 *) of the address signals DA0 and DA0 * of complementary levels
Vss) is used to set one node N1 to high level and the other node N2 to low level. Next, the writing high voltage Vpp is applied to the control line 24 in a pulse form. Although not particularly limited, the high voltage for writing Vpp is 12
V. By applying such high voltage, EPROM
The potential difference between the gate and drain of cell Q10 is 12V, E
The potential difference between the gate and drain of PROM cell Q9 is 9V
Becomes Electrons due to hot electrons are injected into the floating gate of the EPROM cell Q10, and the threshold Vth of the EPROM cell Q10 is raised. At this time, the threshold Vth of the EPROM cell Q9 is hardly changed, and the low level state of the threshold Vth immediately after the erasing is maintained. As a result, the flip-flop FF
Is the EPROM whose threshold Vth is low.
Since a current flows on the cell side, the node N2 is at low level,
The node N1 goes high. That is, the logical state of the flip-flop FF is set according to the storage states of the EPROM cells Q9 and Q10. EPROM cell Q9,
Although the writing to Q10 has been described, the actual writing of the redundant address is performed for each match comparison circuit row. The redundant address once written in the EPROM cell is retained even when the power is cut off, and the retained information (retained address) is retained.
It is set in the flip-flop FF by power-on set every time the power is turned on.

【0026】上記のように、冗長アドレス(ノードN1
がローレベル、ノードN2がハイレベル)がフリップフ
ロップFFセットされた状態で、アドレス信号DA0が
ハイレベル、アドレス信号DA0*がローレベルとされ
た場合を考える。このとき、フリップフロップのセット
状態より、ノードN2がハイレベルとされているので、
nチャンネル型MOSトランジスタQ8がオンされ、比
較結果信号20は、アドレス信号DA0*の駆動能力に
応じて電流が流れることによってローレベルとされる。
この状態は、EPROMセルの記憶情報と入力アドレス
とが不一致であることを意味する。尚、ノードN1がロ
ーレベルであることから、nチャンネル型MOSトラン
ジスタQ6はオフ状態とされる。逆に、アドレス信号D
A0がローレベル、アドレス信号DA0*がハイレベル
の場合、比較結果信号20はハイレベルとされ、それ
は、EPROMセルの記憶情報と入力アドレスとが一致
することを意味する。尚、制御線24へのパワーオンセ
ット信号がパルス状に与えられるため、パワーオンセッ
ト以降のEPROMセルQ9,Q10のゲート電極が低
電位側電源Vssとなる。このことは、EPROMセル
Q9,Q10のゲート電極に常時電圧を印加する場合に
比べて、記憶情報の長期保持が可能とされる。つまり、
EPROMセルのディスターブ耐性の向上を図ることが
できる。
As described above, the redundant address (node N1
Consider the case where the address signal DA0 is at the high level and the address signal DA0 * is at the low level in the state where the flip-flop FF is set to the low level and the node N2 is at the high level. At this time, since the node N2 is at the high level from the set state of the flip-flop,
The n-channel MOS transistor Q8 is turned on, and the comparison result signal 20 is set to the low level due to the current flowing according to the driving capability of the address signal DA0 *.
This state means that the stored information in the EPROM cell and the input address do not match. Since the node N1 is at low level, the n-channel type MOS transistor Q6 is turned off. Conversely, the address signal D
When A0 is at low level and the address signal DA0 * is at high level, the comparison result signal 20 is at high level, which means that the stored information of the EPROM cell matches the input address. Since the power-on set signal is applied to the control line 24 in a pulse form, the gate electrodes of the EPROM cells Q9 and Q10 after power-on set become the low-potential-side power supply Vss. This makes it possible to retain stored information for a long period of time as compared with the case where a voltage is constantly applied to the gate electrodes of the EPROM cells Q9 and Q10. That is,
It is possible to improve the disturbance resistance of the EPROM cell.

【0027】次に、冗長デコーダ51の動作について説
明する。nチャンネル型MOSトランジスタQH00〜
QH0n−1が互いに直列接続されているため、全ての
一致比較回路CAM00〜CAM0n−1からの比較結
果信号20がハイレベルになった場合に限り、ノードH
S0がローレベルとなり、それによりセンスアンプSA
1からの一致検出信号HIT0がハイレベルにアサート
される。換言すれば、入力されたアドレス信号の全ビッ
トが、フリップフロップFFにセットされた冗長アドレ
スと一致した場合に、ノードHS0がローレベルとさ
れ、センスアンプSA1からの一致検出信号HIT0が
ハイレベルにアサートされる。
Next, the operation of the redundant decoder 51 will be described. N-channel type MOS transistor QH00-
Since the QH0n-1s are connected in series with each other, the node H can be output only when the comparison result signals 20 from all the match comparison circuits CAM00 to CAM0n-1 are at the high level.
S0 becomes low level, which causes the sense amplifier SA
The match detection signal HIT0 from 1 is asserted to a high level. In other words, when all the bits of the input address signal match the redundant address set in the flip-flop FF, the node HS0 is set to low level and the match detection signal HIT0 from the sense amplifier SA1 is set to high level. Asserted.

【0028】逆に、上記のアドレス比較において、全ビ
ットが一致しない場合には、ノードHS0がハイレベル
となるため、センスアンプSA1からの一致検出信号H
IT0はローレベルとされる。このとき、pチャンネル
型MOSトランジスタQM00〜QM0n−1の何れか
がオンされるので、ノードMS0がローレベルとされ、
それによりセンスアンプSA2からの不一致検出信号M
iss0がハイレベルにアサートされる。一致比較回路
群2では、列方向に配列された一致比較回路毎に異なる
冗長アドレスの設定が可能とされるため、その設定によ
り、複数の正規ワード線についての救済が可能とされ
る。
On the contrary, in the above address comparison, if all the bits do not match, the node HS0 becomes high level, so the match detection signal H from the sense amplifier SA1.
IT0 is set to low level. At this time, one of the p-channel type MOS transistors QM00 to QM0n-1 is turned on, so that the node MS0 is set to low level,
As a result, the mismatch detection signal M from the sense amplifier SA2
iss0 is asserted to a high level. In the match comparison circuit group 2, it is possible to set a different redundant address for each match comparison circuit arranged in the column direction, and therefore it is possible to repair a plurality of normal word lines by the setting.

【0029】一致信号HIT0〜HITi−1、不一致
信号Miss0〜Missi−1は、図3に示されるよ
うに、パルス状に形成される。一致信号HIT0がハイ
レベルにアサートされた場合には、入力アドレスと冗長
アドレスとが一致したことを意味し、換言すれば入力さ
れたアドレス信号が、正規メモリセルアレイ54におけ
る不良ビットを選択するようなアドレスであるため、冗
長デコーダ51により、正規ワード線に代えて冗長ワー
ド線が選択される。尚、一致検出信号HIT0がハイレ
ベルにアサートされない限り、冗長ワード線が選択され
ることはない。
The coincidence signals HIT0 to HITi-1 and the non-coincidence signals Miss0 to Missi-1 are formed in a pulse shape as shown in FIG. When the match signal HIT0 is asserted to the high level, it means that the input address and the redundant address match, that is, the input address signal selects the defective bit in the normal memory cell array 54. Since it is an address, the redundant decoder 51 selects a redundant word line instead of the normal word line. The redundant word line is not selected unless the match detection signal HIT0 is asserted to the high level.

【0030】上記のアドレス比較において、入力アドレ
スと冗長アドレスとが不一致の場合には不一検出致信号
Miss0がハイレベルにアサートされることによっ
て、パルス信号が形成される。このように、一致信号と
は別に不一致信号を生成するのは、以下の理由による。
入力アドレスと冗長アドレスとの比較のため、アドレス
が入力されてから一致検出信号HITOがアサートされ
るまでに所定の時間を要する。正規ワード線と冗長ワー
ド線との切換えを正確に行うには、アドレスが与えられ
てから正規ワード線が選択されるタイミングと、冗長ワ
ード線が選択されるタイミングとが等しいほうが良い。
しかし、一致検出信号は、入力アドレスと冗長アドレス
とが一致した場合にのみアサートされる信号であるた
め、そのような信号では、不一致の場合の正規ワード線
の選択タイミングを冗長ワード線選択の場合に合せるこ
とができない。そこで、pチャンネル型MOSトランジ
スタQM00〜QMi−1n−1を上記一致比較回路の
列方向の配列に対応して互いに並列接続することによっ
て入力アドレスと冗長アドレスとの不一致信号Miss
を生成し、それに基づいて正規ワード線の選択タイミン
グを、冗長ワード線の選択タイミングに合せるようにし
ている。そのように一致信号に加えて不一致信号を生成
することにより、アドレスが与えられた後、正規ワード
線が選択されるタイミングと、冗長ワード線が選択され
るタイミングとを容易に整合させることができる。
In the above address comparison, if the input address and the redundant address do not match, the mismatch detection signal Miss0 is asserted to the high level to form a pulse signal. The reason for generating the non-coincidence signal separately from the coincidence signal is as follows.
Due to the comparison between the input address and the redundant address, it takes a predetermined time from the input of the address to the assertion of the match detection signal HITO. In order to accurately switch between the normal word line and the redundant word line, it is preferable that the timing at which the normal word line is selected after the address is given and the timing at which the redundant word line is selected are equal.
However, since the match detection signal is a signal that is asserted only when the input address and the redundant address match, the timing of selecting the normal word line when such a signal does not match is selected when the redundant word line is selected. Can not be adjusted to. Therefore, the p-channel type MOS transistors QM00 to QMi-1n-1 are connected in parallel to each other in correspondence with the arrangement of the coincidence comparison circuits in the column direction, whereby the non-coincidence signal Miss of the input address and the redundant address is generated.
Is generated, and the selection timing of the normal word line is matched with the selection timing of the redundant word line based on that. By thus generating the mismatch signal in addition to the match signal, it is possible to easily match the timing when the normal word line is selected and the timing when the redundant word line is selected after the address is given. .

【0031】上記実施例によれば、以下の作用効果を得
ることができる。 (1)不揮発性記憶素子としてのEPROMセルQ9,
Q10に記憶された冗長アドレスに基づいてセットされ
るフリップフロップFFと、このフリップフロップFF
のセット状態に応じて、冗長アドレスと入力アドレスと
のビット単位の比較を可能とするためのnチャンネル型
MOSトランジスタQ6,Q8とを含んで一致比較回路
CAM00〜CAMi−1n−1を形成し、この一致比
較回路を、入力アドレスのビット構成、及び冗長ワード
線数に対応して行、及び列方向に複数配置することによ
って、冗長デコーダ51の効率良いレイアウトが可能と
され、冗長ワード線数が増大された場合でも、冗長デコ
ーダ51のチップ占有面積の増大を可能な限り抑えるこ
とができる。それにより、チップの歩留り低下を阻止す
ることができる。 (2)上記一致比較回路CAM00〜CAMi−1n−
1の比較結果に応じて駆動されるnチャンネル型MOS
トランジスタQH00〜QHi−1n−1を一致比較回
路に対応して複数配列し、且つ、このnチャンネル型M
OSトランジスタQH00〜QHi−1n−1を上記一
致比較回路の列方向の配列に対応して互いに直列接続す
ることによって、入力アドレスと冗長アドレスとの一致
信号を容易に得ることができる。 (3)上記一致比較回路CAM00〜CAMi−1n−
1の比較結果に応じて駆動されるpチャンネル型MOS
トランジスタQM00〜QMi−1n−1を一致比較回
路に対応して複数配列し、且つ、このpチャンネル型M
OSトランジスタQM00〜QMi−1n−1を上記一
致比較回路の列方向の配列に対応して互いに並列接続す
ることによって入力アドレスと冗長アドレスとの不一致
信号を容易に得ることができる。そして、そのように不
一致信号を得ることにより、冗長ワード線が選択される
場合と正規ワード線が選択される場合とのタイミングを
容易に整合させることができる。 (4)上記実施例の一致/不一致検出速度は、MOSト
ランジスタQ6,Q8,QH00〜QHi−1n−1、
QM00〜QMi−1n−1などのオン電流値で決定さ
れるため、十分なオン電流を流すことによって、高速動
作が期待できる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained. (1) EPROM cell Q9 as a non-volatile memory element,
Flip-flop FF set based on the redundant address stored in Q10, and this flip-flop FF
According to the set state of, the coincidence comparison circuits CAM00 to CAMi-1n-1 are formed including the n-channel type MOS transistors Q6 and Q8 for enabling the bit-by-bit comparison of the redundant address and the input address, By arranging a plurality of the match comparison circuits in the row and column directions corresponding to the bit configuration of the input address and the number of redundant word lines, the redundant decoder 51 can be efficiently laid out and the number of redundant word lines can be reduced. Even if the number is increased, the increase in the chip occupation area of the redundant decoder 51 can be suppressed as much as possible. As a result, it is possible to prevent a decrease in chip yield. (2) Matching comparison circuits CAM00 to CAMi-1n-
N-channel type MOS driven according to the comparison result of 1
A plurality of transistors QH00 to QHi-1n-1 are arranged corresponding to the coincidence comparison circuit, and the n-channel type M
By connecting the OS transistors QH00 to QHi-1n-1 in series corresponding to the arrangement of the coincidence comparison circuits in the column direction, a coincidence signal between the input address and the redundant address can be easily obtained. (3) The coincidence comparison circuit CAM00 to CAMi-1n-
P-channel type MOS driven according to the comparison result of 1
A plurality of transistors QM00 to QMi-1n-1 are arranged corresponding to the coincidence comparison circuit, and the p-channel type M
By connecting the OS transistors QM00 to QMi-1n-1 in parallel to each other corresponding to the arrangement of the coincidence comparison circuits in the column direction, a non-coincidence signal between the input address and the redundant address can be easily obtained. Then, by obtaining the non-coincidence signal, it is possible to easily match the timings when the redundant word line is selected and when the normal word line is selected. (4) The match / mismatch detection speeds of the above-described embodiments are the same as the MOS transistors Q6, Q8, QH00 to QHi-1n-1,
Since it is determined by the ON current value such as QM00 to QMi-1n-1, high-speed operation can be expected by supplying a sufficient ON current.

【0032】図5には一致比較回路の他の構成例が示さ
れる。図5に示される一致比較回路が図4に示されるの
と異なるのは、EPROMセルQ9,Q10に、それぞ
れnチャンネル型MOSトランジスタQ11,Q12を
結合した点である。
FIG. 5 shows another configuration example of the coincidence comparison circuit. The match comparison circuit shown in FIG. 5 differs from that shown in FIG. 4 in that n-channel type MOS transistors Q11 and Q12 are coupled to EPROM cells Q9 and Q10, respectively.

【0033】このnチャンネル型MOSトランジスタQ
11,Q12は制御線24のレベルに応じて、それぞれ
EPROMセルQ9,Q10のドレイン電極をノードN
1,N2に結合させるように作用する。つまり、制御線
24がハイレベルの場合に限り、nチャンネル型MOS
トランジスタQ11,Q12がオンされることによっ
て、EPROMセルQ9,Q10のドレイン電極がそれ
ぞれノードN1,N2に結合されるようになっている。
制御線24がハイレベルにされるのは、パワーオンセッ
ト、及び書込み用高電圧印加時のみであるから、パワー
オンセット、及び書込み用高電圧印加時以外ではEPR
OMセルQ9,Q10のドレイン電極が開放されるの
で、EPROMセルQ9,Q10のドレイン・ディスタ
ーブ耐性の向上を図ることができる。また、制御線24
のハイレベルを制御することにより、EPROMセルQ
9,Q10のドレイン電圧を低レベルにコントロールで
きるので、より耐性を向上できる。場合によっては、M
OSトランジスタQ11,Q12のゲート電極を制御線
24とは別線として、低レベルにコントロールしても同
様な効果が期待できる。
This n-channel MOS transistor Q
11 and Q12 respectively connect the drain electrodes of the EPROM cells Q9 and Q10 to the node N according to the level of the control line 24.
1, acts to bind to N2. That is, only when the control line 24 is at the high level, the n-channel type MOS
By turning on the transistors Q11 and Q12, the drain electrodes of the EPROM cells Q9 and Q10 are coupled to the nodes N1 and N2, respectively.
The control line 24 is set to the high level only when the power-on set and the write high voltage are applied. Therefore, the EPR is not performed except when the power-on set and the write high voltage are applied.
Since the drain electrodes of the OM cells Q9 and Q10 are opened, the drain / disturb resistance of the EPROM cells Q9 and Q10 can be improved. In addition, the control line 24
By controlling the high level of the EPROM cell Q
Since the drain voltages of 9 and Q10 can be controlled to a low level, the durability can be further improved. In some cases, M
Similar effects can be expected even if the gate electrodes of the OS transistors Q11 and Q12 are separated from the control line 24 and controlled to a low level.

【0034】図6には一致比較回路の他のさらに構成例
が示される。図6に示される一致比較回路が図4に示さ
れるのと異なるのは、フリップフロップFFを形成する
ためのnチャンネル型MOSトランジスタQ3,Q4に
代えてEPROMセルQ9,Q10を適用した点であ
る。図6に示される一致比較回路における一致比較動作
は、図4に示される構成の場合と同じであるが、書込み
動作が異なる。そこで、書き込み動作について以下に説
明する。
FIG. 6 shows another further configuration example of the coincidence comparison circuit. The match comparison circuit shown in FIG. 6 is different from that shown in FIG. 4 in that EPROM cells Q9 and Q10 are applied instead of the n-channel type MOS transistors Q3 and Q4 for forming the flip-flop FF. . The match comparison operation in the match comparison circuit shown in FIG. 6 is the same as that in the configuration shown in FIG. 4, but the write operation is different. Therefore, the write operation will be described below.

【0035】書込みは、アドレス信号DA0からnチャ
ンネル型MOSトランジスタQ5を介して、一方のノー
ドN1に書込み用高電圧Vpp(例えば12V)を印加
することによって可能とされる。このとき、他方のノー
ドN2は低電位側電源Vssレベルとされる。この結
果、消去後のEPROMセルQ10では、ゲート電極の
電位が書込み用高電圧Vppレベル、ドレイン電極が低
電位側電源Vssレベルとなり、浮遊ゲートに電子がト
ンネル現象で注入され、しきい値Vthが高レベルとな
る。一方、EPROMセルQ9では、ゲート電極が低電
位側電源Vssレベル、ドレイン電極が書込み用高電圧
Vppレベルとされ、若干のドレインディスターブを受
けるが、しきい値Vthの変動は無視できる程度で低レ
ベルとされる。このようにして冗長アドレスの書込みが
行われる。
Writing is enabled by applying a writing high voltage Vpp (for example, 12V) from the address signal DA0 to one node N1 via the n-channel MOS transistor Q5. At this time, the other node N2 is set to the low-potential-side power supply Vss level. As a result, in the erased EPROM cell Q10, the potential of the gate electrode becomes the high voltage Vpp level for writing, the drain electrode becomes the low potential side power source Vss level, electrons are injected into the floating gate by the tunnel phenomenon, and the threshold Vth becomes High level. On the other hand, in the EPROM cell Q9, the gate electrode is set to the low-potential-side power supply Vss level and the drain electrode is set to the writing high voltage Vpp level, and a slight drain disturbance is caused, but the fluctuation of the threshold value Vth is negligible and the low level. It is said that In this way, the redundant address is written.

【0036】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes.

【0037】例えば、上記実施例では冗長ワード線によ
る冗長救済について説明したが、冗長データ線による冗
長救済の場合にも、同様に実施することができる。ま
た、使用されるデバイスとしては、nチャンネル型MO
Sトランジスタ、pチャンネル型MOSトランジスタの
いずれでもよい。さらに、電源として、正負いずれを使
用してもよいし、EPROMセルへの印加電圧値なども
任意に設定することができる。また、一致比較回路内
に、電流遮断用MOSトランジスタを設け、活性時以外
には電流を消費しないようにすることで、チップの消費
電流の低減を図ることができる。そのような電流遮断用
MOSトランジスタの駆動制御信号としては、基本的に
はロウアドレスの有効性を示すロウアドレスストローブ
信号RAS*を使用することができる。さらに、上記実
施例では、フリップフロップFFにおける負荷MOSト
ランジスタとして、pチャンネル型MOSトランジスタ
を適用したが、それに代えて高抵抗素子や、nチャンネ
ル型MOSトランジスタを適用することができる。そし
て、nチャンネル型MOSトランジスタQdsは一致/
不一致検出の動作をタイミング信号φdsで活性化する
ものであるが、図2に示されるように、このMOSトラ
ンジスタQdsを省略しても一致/不一致検出は可能と
される。
For example, in the above embodiment, the redundant remedy by the redundant word line has been described, but the redundant remedy by the redundant data line can be similarly carried out. The device used is an n-channel MO
Either an S transistor or a p-channel type MOS transistor may be used. Furthermore, either positive or negative may be used as the power supply, and the value of the voltage applied to the EPROM cell and the like can be set arbitrarily. Further, by providing a current cutoff MOS transistor in the coincidence comparison circuit so that the current is not consumed except when it is activated, the current consumption of the chip can be reduced. A row address strobe signal RAS * basically indicating the validity of the row address can be basically used as a drive control signal for such a current cutoff MOS transistor. Further, in the above embodiment, the p-channel type MOS transistor is applied as the load MOS transistor in the flip-flop FF, but a high resistance element or an n-channel type MOS transistor can be applied instead. Then, the n-channel type MOS transistor Qds is matched /
The operation of the mismatch detection is activated by the timing signal φds, but as shown in FIG. 2, the match / mismatch detection can be performed even if the MOS transistor Qds is omitted.

【0038】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるDRA
Mに適用した場合について説明したが、本発明は上記実
施例に限定されるものではなく、スタティック型RAM
や、リード・オンリ・メモリ、一括消去型のフラッシュ
メモリなど、各種半導体記憶装置、さらにはそのような
半導体記憶装置を含むデータ処理装置に広く適用するこ
とができる。
In the above description, the invention made by the present inventor is the field of application behind the invention.
Although the case where the present invention is applied to M has been described, the present invention is not limited to the above embodiment, and a static RAM
The present invention can be widely applied to various semiconductor memory devices such as read-only memory and batch erasing type flash memory, and data processing devices including such semiconductor memory devices.

【0039】本発明は、少なくとも冗長回路の動作を電
気的にプログラム可能な不揮発性記憶素子を含むことを
条件に適用することができる。
The present invention can be applied on the condition that at least the operation of the redundant circuit includes a non-volatile memory element which is electrically programmable.

【0040】[0040]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0041】すなわち、冗長回路の動作をプログラム可
能な不揮発性記憶素子と、この不揮発性記憶素子に記憶
された冗長アドレスに基づいてセットされるフリップフ
ロップと、このフリップフロップのセット状態に応じ
て、冗長アドレスと入力アドレスとのビット単位の比較
を可能とするためのトランジスタとを含んで比較手段を
形成し、この比較手段を、入力アドレスのビット構成、
及び冗長救済線数に対応して行、及び列方向に複数配置
することによって、冗長デコーダの効率良いレイアウト
が可能とされ、冗長救済線数が増大された場合のチップ
占有面積の増大を可能な限り抑えることができる。ま
た、上記比較手段の比較結果に応じて駆動される第1ト
ランジスタを上記比較手段に対応して複数配列し、且
つ、この第1トランジスタを上記比較手段の列方向の配
列に対応して互いに直列接続することによって、入力ア
ドレスと冗長アドレスとの一致信号を容易に得ることが
できる。さらに、上記比較手段の比較結果に応じて駆動
される第2トランジスタを上記比較手段に対応して複数
配列し、且つ、この第2トランジスタを上記比較手段の
列方向の配列に対応して互いに並列接続することによっ
て入力アドレスと冗長アドレスとの不一致信号を容易に
得ることができる。そして、そのように不一致信号を得
ることにより、例えば冗長ワード線が選択される場合と
正規ワード線が選択される場合とのタイミングを容易に
整合させることができる。
That is, a nonvolatile memory element capable of programming the operation of the redundant circuit, a flip-flop set based on the redundant address stored in the nonvolatile memory element, and a set state of the flip-flop are Comparing means is formed by including a transistor for enabling bit-by-bit comparison between the redundant address and the input address, and the comparing means is configured by the bit configuration of the input address,
Also, by arranging a plurality of rows in the row and column directions corresponding to the number of redundant repair lines, an efficient layout of the redundant decoder can be achieved, and the chip occupation area can be increased when the number of redundant repair lines is increased. It can be suppressed as much as possible. Also, a plurality of first transistors driven according to the comparison result of the comparison means are arranged corresponding to the comparison means, and the first transistors are connected in series corresponding to the arrangement of the comparison means in the column direction. By connecting, a match signal between the input address and the redundant address can be easily obtained. Further, a plurality of second transistors driven according to the comparison result of the comparison means are arranged corresponding to the comparison means, and the second transistors are arranged in parallel corresponding to the arrangement of the comparison means in the column direction. By connecting, a mismatch signal between the input address and the redundant address can be easily obtained. Then, by obtaining the non-coincidence signal in this way, it is possible to easily match the timings when the redundant word line is selected and when the normal word line is selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるDRAMに含まれる冗
長デコーダの構成例回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of a configuration example of a redundant decoder included in a DRAM which is an embodiment of the present invention.

【図2】上記冗長デコーダの主要部の構成例回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram of a configuration example of a main part of the redundant decoder.

【図3】上記冗長デコーダの動作タイミング図である。FIG. 3 is an operation timing chart of the redundant decoder.

【図4】上記冗長デコーダに含まれる一致比較回路の構
成例回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a configuration example of a match comparison circuit included in the redundant decoder.

【図5】上記一致比較回路の他の構成例回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram of another configuration example of the coincidence comparison circuit.

【図6】上記一致比較回路の他の構成例回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram of another configuration example of the coincidence comparison circuit.

【図7】上記DRAMの全体的な構成例回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of an overall configuration example of the DRAM.

【図8】従来の冗長デコーダのブロック図である。FIG. 8 is a block diagram of a conventional redundant decoder.

【図9】従来の冗長デコーダの主要部構成例回路図であ
る。
FIG. 9 is a circuit diagram of a configuration example of a main part of a conventional redundant decoder.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 一致比較回路群 4 センスレベル設定回路群 6 バッファ群 12 電源検出回路 14 センスレベル設定回路 16 バッファ 18 駆動回路 51 冗長デコーダ 52 正規ロウデコーダ 53 冗長メモリセルアレイ 54 正規メモリセルアレイ 55 制御部 56 カラムデコーダ 57 カラム選択回路 58 データ入出力回路 59 センスアンプ CAM00〜CAMi−1n−1 一致比較回路 SA,SA1,SA2 センスアンプ FF フリップフロップ Q1,Q2 pチャンネル型MOSトランジスタ Q3,Q4,Q5,Q6,Q7,Q8,Q11,Q12
nチャンネル型MOSトランジスタ Q9,Q10 EPROMセル QH00〜QHi−1n−1 nチャンネル型MOSト
ランジスタ QM00〜QMi−1n−1 pチャンネル型MOSト
ランジスタ
2 Matching Comparison Circuit Group 4 Sense Level Setting Circuit Group 6 Buffer Group 12 Power Supply Detection Circuit 14 Sense Level Setting Circuit 16 Buffer 18 Drive Circuit 51 Redundant Decoder 52 Regular Row Decoder 53 Redundant Memory Cell Array 54 Regular Memory Cell Array 55 Controller 56 Column Decoder 57 Column selection circuit 58 Data input / output circuit 59 Sense amplifiers CAM00 to CAMi-1n-1 Match comparison circuit SA, SA1, SA2 Sense amplifier FF Flip-flop Q1, Q2 p-channel type MOS transistors Q3, Q4, Q5, Q6, Q7, Q8 , Q11, Q12
n-channel type MOS transistors Q9, Q10 EPROM cells QH00 to QHi-1n-1 n-channel type MOS transistors QM00 to QMi-1n-1 p-channel type MOS transistors

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 29/00 G11C 11/401 G11C 15/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11C 29/00 G11C 11/401 G11C 15/04

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 不良アドレスを記憶し、入力されたアド
レス信号と比較するための冗長回路を含み、 上記冗長回路は、上記不良アドレスのビット単位の記憶
及びビット単位の上記アドレス信号との比較を行うため
の複数の比較回路を含み、 上記複数の比較回路の夫々は、上記不良アドレスのビッ
ト単位の情報をプログラム可能な不揮発性記憶手段と、
上記不揮発性記憶手段にプログラムされた情報に基づい
て相補アドレス情報を形成するための第1回路と、上記
第1回路から出力された相補アドレス情報と上記アドレ
ス信号のビット単位とを比較し、比較結果信号を出力す
るための比較手段とを含み、 上記複数の比較回路を第1方向に比較するビット数に対
応して設けるとともに、上記第1方向と交差する第2方
向に冗長救済本数に対応して設けて成る半導体記憶装置
であって、 上記第1方向に配置された比較回路の夫々に対応して設
けられた複数の第1一致比較トランジスタと、プログラ
ムされた上記不良アドレスと上記アドレス信号が一致し
た際に一致信号を伝達するための第1信号線とを具備
し、上記第1一致比較トランジスタは、上記第1信号線
に直列に接続され、対応する上記比較結果信号が夫々の
ゲートに入力され、 上記第1方向に配置された比較回路の夫々に対応して設
けられた複数の第2一致比較トランジスタと、プログラ
ムされた上記不良アドレスと上記アドレス信号が不一致
だった際に不一致信号を伝達するための第2信号線とを
具備し、上記複数の第2一致比較トランジスタは、上記
第2信号線に並列に接続され、対応する上記比較結果が
夫々のゲートに入力される ことを特徴とする半導体記憶
装置。
1. A storing defective addresses, viewing including a redundant circuit for comparing an input address signal, the redundancy circuit, compared with the address signal of the memory and the bitwise of the defective address A plurality of comparison circuits for performing each of the plurality of comparison circuits, each of the plurality of comparison circuits, non-volatile storage means capable of programming the bit unit information of the defective address,
A first circuit for forming complementary address information based on the information programmed in the non-volatile storage means, and the complementary address information output from the first circuit and the bit unit of the address signal are compared and compared. A plurality of comparison circuits are provided in correspondence with the number of bits to be compared in the first direction, and the number of redundant relief lines is provided in the second direction intersecting the first direction. Storage device
And corresponding to each of the comparison circuits arranged in the first direction.
A plurality of first matched comparison transistors, and a program
The defective address and the address signal
A first signal line for transmitting a coincidence signal when
The first match comparison transistor is connected to the first signal line.
Are connected in series and the corresponding comparison result signals are
It is input to the gate and set corresponding to each of the comparison circuits arranged in the first direction.
A plurality of second coincidence comparison transistors, and a program
The above-mentioned defective address and the above-mentioned address signal do not match.
And a second signal line for transmitting a mismatch signal when
And the plurality of second coincidence comparison transistors are
It is connected in parallel to the second signal line, and the corresponding comparison result is
A semiconductor memory device characterized by being input to each gate .
【請求項2】 上記第1回路は、第1電位と第2電位の
間に上記第1ノードで直列に接続された第1及び第2M
OSトランジスタと、上記第1電位と上記第2電位の間
に上記第2ノードで直列に接続された第3及び第4MO
Sトランジスタと、上記不揮発性記憶手段を形成する第
1及び第2不揮発性記憶素子とを含み、 上記第1及び第2MOSトランジスタのゲートは、上記
第2ノードに接続され、 上記第3及び第4MOSトランジスタのゲートは、上記
第1ノードに接続され、 上記第1不揮発性記憶素子のソース・ドレイン経路は、
上記第1ノードと上記第2電位との間に接続され、 上記第2不揮発性記憶素子のソース・ドレイン経路は、
上記第2ノードと、上記第2電位との間に接続されるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The first circuit comprises a first and a second M connected in series between the first potential and the second potential at the first node.
An OS transistor and third and fourth MOs connected in series at the second node between the first potential and the second potential.
An S-transistor and first and second non-volatile storage elements forming the non-volatile storage means, wherein the gates of the first and second MOS transistors are connected to the second node, and the third and fourth MOS transistors are connected. The gate of the transistor is connected to the first node, and the source / drain path of the first nonvolatile memory element is
The source / drain path of the second nonvolatile memory element, which is connected between the first node and the second potential, is
The second node, according to claim 1 Symbol placing the semiconductor memory device, characterized in that it is connected between the second potential.
【請求項3】 第5及び第6MOSトランジスタを含
み、上記第1不揮発性記憶素子は、上記第5MOSトラ
ンジスタを介して上記第1ノードに接続され、上記第2
の不揮発性記憶素子は、上記第6MOSトランジスタを
介して上記第2ノードに接続されることを特徴とする請
求項2記載の半導体記憶装置。
3. A fifth non-volatile memory element, comprising: fifth and sixth MOS transistors, wherein said first non-volatile memory element is connected to said first node via said fifth MOS transistor.
Of the nonvolatile memory element according to claim 2 Symbol mounting of the semiconductor memory device is characterized in that through the first 6MOS transistor is connected to the second node.
【請求項4】 上記第1回路は、第1電位と第2電位の
間に上記第1ノードで直列に接続された第1MOSトラ
ンジスタ及び第1不揮発性記憶素子と、上記第1電位と
上記第2電位の間に上記第2ノードで直列に接続された
第2MOSトランジスタ及び第2不揮発性記憶素子と、
を含み、 上記不揮発性記憶手段が、上記第1及び第2不揮発性記
憶素子によって形成され、 上記第1MOSトランジスタ及び上記第2不揮発性記憶
素子のゲートは、上記第2ノードに接続され、 上記第2MOSトランジスタ及び上記第2不揮発性記憶
素子のゲートは、上記第1ノードに接続されることを特
徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
4. The first circuit includes a first MOS transistor and a first non-volatile memory element connected in series at the first node between a first potential and a second potential, the first potential and the first non-volatile memory element. A second MOS transistor and a second nonvolatile memory element connected in series at the second node between two potentials;
Wherein the non-volatile storage means is formed by the first and second non-volatile storage elements, the gates of the first MOS transistor and the second non-volatile storage element are connected to the second node, 2MOS transistor and a gate of the second nonvolatile memory element according to claim 1 Symbol mounting of the semiconductor memory device, characterized in that it is connected to the first node.
【請求項5】 上記比較回路は、上記第1ノードと上記
複数の第1アドレス信号線の対応する一つとの間に結合
されたソース・ドレイン経路を持つ複数の第1書き込み
トランジスタと、 上記第2ノードと上記複数の第2アドレス信号線の対応
する一つとの間に結合されたソース・ドレイン経路を持
つ複数の第2書き込みトランジスタとを更に含み、上記
複数の第1及び第2書き込みトランジスタは、上記第1
及び第2不揮発性記憶素子に上記不良アドレスの対応す
るビットを書き込む際に、導通状態とされることを特徴
とする請求項1乃至の何れか1項記載の半導体記憶装
置。
5. The plurality of first write transistors having source / drain paths coupled between the first node and a corresponding one of the plurality of first address signal lines, wherein the comparison circuit includes a plurality of first write transistors. Further comprising a plurality of second write transistors having source / drain paths coupled between two nodes and a corresponding one of the plurality of second address signal lines, wherein the plurality of first and second write transistors are , Above first
And when writing the corresponding bits of the defective address in the second nonvolatile memory element, semiconductor memory device of any one of claims 1 to 4, characterized in that it is conductive.
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