JP2000182374A - Dynamic semiconductor memory - Google Patents

Dynamic semiconductor memory

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JP2000182374A
JP2000182374A JP10359093A JP35909398A JP2000182374A JP 2000182374 A JP2000182374 A JP 2000182374A JP 10359093 A JP10359093 A JP 10359093A JP 35909398 A JP35909398 A JP 35909398A JP 2000182374 A JP2000182374 A JP 2000182374A
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JP
Japan
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precharge
bit line
circuit
cell array
memory cell
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Mikihiko Ito
幹彦 伊東
Takahiko Hara
毅彦 原
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce power consumption at the time of standby by reducing a pattern area of a bit line pre-charge equalizing circuit of a DRAM and reducing a leak current made to flow toward a word line of a short-circuited defective part between a word line and a bit line from a pre-charge power source line. SOLUTION: This memory is provided with plural cell array selecting switches 14 selecting plural memory cell arrays, a bit line sense amplifier 16 provided corresponding to pairs of bit line (BLL, bBLL), (BLR, bBLR) of plural memory cell arrays and connected to the pairs of bit line through the cell array selecting switch, a pre-charge equalizing circuit 15 connected to a pre-charge power source line 40 and the bit line sense amplifier 16 and pre-charging/ equalizing the selected pairs of bit line, and a current limiting element Q20 inserted between the pre-charge equalizing circuit 15 and the pre-charge power source line.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ダイナミック型半
導体メモリ(DRAM)に係り、特にセンスアンプ共用
方式のDRAMにおいてビット線対の電位をプリチャー
ジ・イコライズする回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic semiconductor memory (DRAM), and more particularly to a circuit for precharging and equalizing the potential of a bit line pair in a sense amplifier shared DRAM.

【0002】[0002]

【従来の技術】大容量のDRAMにおいては、複数のメ
モリセルアレイでビット線センスアンプを共用するセン
スアンプ共用方式が採用される場合が多い。
2. Description of the Related Art A large-capacity DRAM often employs a sense amplifier sharing system in which a plurality of memory cell arrays share a bit line sense amplifier.

【0003】図9は、従来のセンスアンプ共用方式のD
RAMのコア回路の一部(メモリセルアレイの1カラム
分)およびそれに接続されている周辺回路の一部(セン
スアンプ等)を示す等価回路図である。
FIG. 9 shows a conventional sense amplifier shared type D.
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing a part of a core circuit of a RAM (for one column of a memory cell array) and a part of a peripheral circuit (such as a sense amplifier) connected thereto;

【0004】DRAMのメモリセルアレイは、複数個の
ダイナミック型メモリセルがマトリクス状に配置されて
おり、メモリセルを選択する複数のワード線と、メモリ
セルとの間でデータの授受を行う複数対のビット線とが
互いに交差する方向に設けられている。
In a DRAM memory cell array, a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix, and a plurality of pairs of word lines for selecting memory cells and a plurality of pairs for transferring data between the memory cells. The bit lines are provided in directions that cross each other.

【0005】図9には、表示の簡単化のため、メモリセ
ルアレイ間に配置されたビット線センスアンプのうちの
1個のビット線センスアンプ16と、センスアンプ16の左
側に配置されているメモリセルアレイの各カラムに対応
する一対のセルアレイ選択用スイッチ13、一対のビット
線(BLL 、bBLL)、1個のメモリセル11および1本のワ
ード線WLL と、センスアンプ16の右側に配置されている
メモリセルアレイの各カラムに対応する一対のセルアレ
イ選択用スイッチ14、一対のビット線(BLR 、bBLR)、
1個のメモリセル12および1本のワード線WLR と、セン
スアンプ16の左右のメモリセルアレイの各一対のビット
線で共有される1個のカラム選択ゲート17およびそれに
接続されている一対のデータ線DQ、bDQ を代表的に示し
てある。
FIG. 9 shows one bit line sense amplifier 16 among bit line sense amplifiers arranged between memory cell arrays and a memory arranged on the left side of the sense amplifier 16 for simplification of display. A pair of cell array selection switches 13 corresponding to each column of the cell array, a pair of bit lines (BLL, bBLL), one memory cell 11, one word line WLL, and a right side of the sense amplifier 16 are arranged. A pair of cell array selection switches 14 corresponding to each column of the memory cell array, a pair of bit lines (BLR, bBLR),
One memory cell 12 and one word line WLR, one column selection gate 17 shared by each pair of bit lines of the left and right memory cell arrays of the sense amplifier 16, and a pair of data lines connected thereto DQ and bDQ are shown as representatives.

【0006】なお、前記ビット線センスアンプ16は、セ
ンスアンプ制御信号SEN により制御されるNMOSセン
スアンプ部およびセンスアンプ制御信号bSEPにより制御
されるPMOSセンスアンプ部からなり、選択されたメ
モリセルアレイのメモリセルが選択駆動された時に対応
するビット線対に生じる電位差を検知・増幅するもので
ある。
The bit line sense amplifier 16 comprises an NMOS sense amplifier controlled by a sense amplifier control signal SEN and a PMOS sense amplifier controlled by a sense amplifier control signal bSEP. This is to detect and amplify a potential difference generated in a corresponding bit line pair when a cell is selectively driven.

【0007】また、前記セルアレイ選択用スイッチ13お
よび14は、対応してセルアレイ選択信号ΦL 、ΦR によ
り制御され、前記カラム選択ゲート17は、カラムゲート
制御信号CSL により制御される。
The cell array selection switches 13 and 14 are correspondingly controlled by cell array selection signals .PHI.L and .PHI.R, and the column selection gate 17 is controlled by a column gate control signal CSL.

【0008】さらに、センスアンプ16の左側のメモリセ
ルアレイのビット線対(BLL 、bBLL)にはビット線プリ
チャージ回路31が接続されており、上記ビット線プリチ
ャージ回路31にはプリチャージ電源線41が接続されてい
る。
Further, a bit line precharge circuit 31 is connected to the bit line pair (BLL, bBLL) of the memory cell array on the left side of the sense amplifier 16, and a precharge power supply line 41 is connected to the bit line precharge circuit 31. Is connected.

【0009】同様に、センスアンプ16の右側のメモリセ
ルアレイのビット線対(BLR 、bBLR)にはビット線プリ
チャージ回路32が接続されており、上記ビット線プリチ
ャージ回路32にはプリチャージ電源線42が接続されてい
る。
Similarly, a bit line precharge circuit 32 is connected to the bit line pair (BLR, bBLR) of the memory cell array on the right side of the sense amplifier 16, and a precharge power supply line is connected to the bit line precharge circuit 32. 42 is connected.

【0010】前記ビット線プリチャージ回路31はイコラ
イズ制御信号EQL により制御され、対応して接続されて
いるビット線対(BLL 、bBLL)をプリチャージ電源線41
から供給される電位Vrefにプリチャージ・イコライズす
るものである。
The bit line precharge circuit 31 is controlled by an equalize control signal EQL, and connects a correspondingly connected bit line pair (BLL, bBLL) to a precharge power supply line 41.
And is precharged and equalized to the potential Vref supplied from.

【0011】同様に、ビット線プリチャージ回路32はイ
コライズ制御信号EQR により制御され、対応して接続さ
れているビット線対(BLR 、bBLR)をプリチャージ電源
線42から供給される電位Vrefにプリチャージ・イコライ
ズするものである。
Similarly, the bit line precharge circuit 32 is controlled by the equalization control signal EQR, and precharges the correspondingly connected bit line pair (BLR, bBLR) to the potential Vref supplied from the precharge power supply line 42. This is to charge and equalize.

【0012】図10は、図9の回路の動作例を示すタイ
ミング波形図である。
FIG. 10 is a timing waveform diagram showing an operation example of the circuit of FIG.

【0013】次に、図10に示すタイミング波形図を参
照しながら、図9の回路の動作について説明する。
Next, the operation of the circuit of FIG. 9 will be described with reference to the timing waveform chart shown in FIG.

【0014】アクセスする時には、セルアレイ選択信号
ΦL 、ΦR のうち、アクセスされる側のセルアレイ選択
信号(本例ではΦL)を“H”のままとし、アクセスしな
い側のセルアレイ選択信号(本例ではΦR)を“L”に
し、ビット線イコライズ制御信号EQL 、EQR のうちアク
セスされる側のイコライズ制御信号(本例ではEQL)を
“H”から“L”にする。これにより、選択されたセル
アレイ側のビット線対(本例ではBLL 、bBLL)はフロー
ティング状態になる。
At the time of access, of the cell array selection signals .PHI.L and .PHI.R, the cell array selection signal to be accessed (.PHI.L in this example) remains at "H", and the cell array selection signal to the non-accessed side (.PHI.R in this example). ) Is set to “L”, and the accessed equalization control signal (EQL in this example) of the bit line equalization control signals EQL and EQR is changed from “H” to “L”. As a result, the selected bit line pair (BLL, bBLL in this example) on the cell array side is brought into a floating state.

【0015】続いて、外部アドレスより選択されたワー
ド線(本例ではWLL )が“H”になり、メモリセル(本
例では11)のデータがビット線(本例ではBLL )に読み
出される。
Subsequently, the word line (WLL in this example) selected from the external address becomes "H", and the data of the memory cell (11 in this example) is read out to the bit line (BLL in this example).

【0016】続いて、センスアンプ制御信号SEN が
“L”から“H”、センスアンプ制御信号 bSEP が
“H”から“L”になることによりセンスアンプ回路16
が活性化し、対応するビット線対BLL 、bBLLの電位が検
知・増幅される。
Subsequently, when the sense amplifier control signal SEN changes from "L" to "H" and the sense amplifier control signal bSEP changes from "H" to "L", the sense amplifier circuit 16
Is activated, and the potential of the corresponding bit line pair BLL, bBLL is detected and amplified.

【0017】このビット線センスアンプ16の増幅出力
(読み出しデータ)は、セルへ再書き込みされるととも
に、データ線対DQ、bDQ を介してバッファ回路(図示せ
ず)へ出力される。
The amplified output (read data) of the bit line sense amplifier 16 is rewritten to the cell and output to a buffer circuit (not shown) via the data line pair DQ and bDQ.

【0018】この後、選択ワード線WLL を“H”から
“L”にしてセルへのアクセスを止め、引き続いて、セ
ンスアンプ制御信号bSEPを“L”から“H”、センスア
ンプ制御信号SEN を“H”から“L”へ切り替えること
によりセンスアンプ回路16を非活性状態にする。
Thereafter, the access to the cell is stopped by changing the selected word line WLL from "H" to "L". Subsequently, the sense amplifier control signal bSEP is changed from "L" to "H", and the sense amplifier control signal SEN is changed to "H". By switching from “H” to “L”, the sense amplifier circuit 16 is deactivated.

【0019】さらに、セルアレイ選択信号ΦL 、ΦR を
それぞれ“H“、イコライズ制御信号EQL 、EQR をそれ
ぞれ”H“にしてビット線対(BLL 、bBLL)、(BLR 、
bBLR)をプリチャージ・イコライズしてプリチャージ電
圧Vrefに設定し、次の動作を待機する。
Further, the cell array selection signals .PHI.L, .PHI.R are set to "H", and the equalization control signals EQL, EQR are set to "H", respectively, and the bit line pairs (BLL, bBLL), (BLR,
bBLR) is precharged and equalized and set to the precharge voltage Vref, and the next operation is awaited.

【0020】ところで、上記したような従来のセンスア
ンプ回路では、左右のセルアレイでビット線プリチャー
ジ回路31、32を別々に持っているので、パターン面積が
大きくなるという問題があった。
In the above-described conventional sense amplifier circuit, since the left and right cell arrays have the bit line precharge circuits 31 and 32 separately, there is a problem that the pattern area becomes large.

【0021】また、ワード線・ビット線間の短絡による
不良があって冗長回路により予備のメモリセル行あるい
は予備のメモリセル列に置き換えられた場合、ワード線
・ビット線間短絡不良部分が残存しているので、イコラ
イズの際に、プリチャージ電源線41、42から短絡不良部
分のワード線WL方向へリーク電流が流れるので、待機時
の消費電力が大きくなるという問題があった。
In the case where there is a defect due to a short circuit between the word line and the bit line and the redundant circuit is replaced with a spare memory cell row or a spare memory cell column, a short-circuit defective portion between the word line and the bit line remains. Therefore, at the time of equalization, a leakage current flows from the precharge power supply lines 41 and 42 in the direction of the word line WL in the short-circuit failure portion, so that there is a problem that power consumption during standby increases.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
DRAMは、ビット線センスアンプを共用するメモリセ
ルアレイのそれぞれに持っているので、ビット線プリチ
ャージ回路のパターン面積が大きくなるという問題があ
り、冗長回路による置換の対象となったワード線・ビッ
ト線間短絡不良部分のワード線方向へプリチャージ電源
線からリーク電流が流れるので、待機時の消費電力が大
きくなるという問題があった。
As described above, the conventional DRAM has a problem that the pattern area of the bit line precharge circuit becomes large because each of the memory cell arrays shares the bit line sense amplifier. In addition, since a leakage current flows from the precharge power supply line in the direction of the word line at the short-circuit defective portion between the word line and the bit line which has been replaced by the redundant circuit, there has been a problem that power consumption during standby increases.

【0023】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、ビット線プリチャージ・イコライズ回路のパ
ターン面積を低減し、冗長回路による置換の対象となっ
たワード線・ビット線間短絡不良部分のワード線方向へ
プリチャージ電源線から流れるリーク電流を軽減し、待
機時の消費電力を軽減し得るダイナミック型半導体メモ
リを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it has been proposed to reduce the pattern area of a bit line precharge / equalize circuit and to provide a short circuit between a word line and a bit line which has been replaced by a redundant circuit. It is an object of the present invention to provide a dynamic semiconductor memory capable of reducing leakage current flowing from a precharge power supply line in a part of a word line direction and reducing power consumption during standby.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】本発明の第1のダイナミ
ック型半導体メモリは、それぞれ複数のダイナミック型
メモリセルがマトリクス状に配置された複数のメモリセ
ルアレイと、前記メモリセルアレイのメモリセルを選択
駆動する複数本のワード線と、前記メモリセルアレイの
選択されたメモリセルとの間でデータの授受を行う複数
対のビット線と、前記複数のメモリセルアレイの選択を
行う複数のセルアレイ選択スイッチと、前記複数のメモ
リセルアレイのビット線対にそれぞれ対応して設けら
れ、前記セルアレイ選択スイッチを介して前記ビット線
対に接続されるビット線センスアンプと、前記プリチャ
ージ電源線および前記ビット線センスアンプに接続さ
れ、前記セルアレイ選択スイッチにより選択されたビッ
ト線対にプリチャージ電源線から供給される電流をプリ
チャージし、前記ビット線対をイコライズするプリチャ
ージ・イコライズ回路と、前記プリチャージ・イコライ
ズ回路と前記プリチャージ電源線の間に挿入された電流
制限素子とを具備することを特徴とする。
According to a first dynamic semiconductor memory of the present invention, a plurality of memory cell arrays in each of which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix, and a memory cell of the memory cell array are selectively driven. A plurality of word lines, a plurality of pairs of bit lines for transmitting and receiving data between selected memory cells of the memory cell array, a plurality of cell array selection switches for selecting the plurality of memory cell arrays, A bit line sense amplifier provided corresponding to each of the bit line pairs of the plurality of memory cell arrays and connected to the bit line pair via the cell array selection switch; and connected to the precharge power supply line and the bit line sense amplifier. Is precharged to the bit line pair selected by the cell array selection switch. A precharge / equalize circuit for precharging a current supplied from a source line and equalizing the bit line pair; and a current limiting element inserted between the precharge / equalize circuit and the precharge power supply line. It is characterized by doing.

【0025】本発明の第2のダイナミック型半導体メモ
リは、それぞれ複数のダイナミック型メモリセルがマト
リクス状に配置された複数のメモリセルアレイと、前記
メモリセルアレイのメモリセルを選択駆動する複数本の
ワード線と、前記メモリセルアレイの選択されたメモリ
セルとの間でデータの授受を行う複数対のビット線と、
前記複数のメモリセルアレイの選択を行う複数のセルア
レイ選択スイッチと、前記複数のメモリセルアレイのビ
ット線対にそれぞれ対応して設けられ、前記セルアレイ
選択スイッチを介して前記ビット線対に接続されるビッ
ト線センスアンプと、前記プリチャージ電源線および前
記ビット線センスアンプに接続され、前記セルアレイ選
択スイッチにより選択されたビット線対にプリチャージ
電源線から供給される電流をプリチャージし、前記ビッ
ト線対をイコライズするプリチャージ・イコライズ回路
と、前記プリチャージ・イコライズ回路と前記プリチャ
ージ電源線の間に挿入された電流制限素子と、前記プリ
チャージ・イコライズ回路とプリチャージ電源線の間で
前記電流制限素子に並列に接続されたスイッチ用トラン
ジスタと、前記プリチャージ・イコライズ回路の動作を
受けて、所定期間だけ前記スイッチ用トランジスタをオ
ン状態に制御する制御回路とをさらに具備することを特
徴とする。
According to a second dynamic semiconductor memory of the present invention, there are provided a plurality of memory cell arrays in each of which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix, and a plurality of word lines for selectively driving the memory cells of the memory cell array. A plurality of pairs of bit lines for transmitting and receiving data between selected memory cells of the memory cell array;
A plurality of cell array selection switches for selecting the plurality of memory cell arrays; and bit lines provided corresponding to the bit line pairs of the plurality of memory cell arrays, respectively, and connected to the bit line pairs via the cell array selection switches. A sense amplifier connected to the precharge power supply line and the bit line sense amplifier, for precharging a current supplied from a precharge power supply line to a bit line pair selected by the cell array selection switch; A precharge / equalize circuit for equalizing, a current limiting element inserted between the precharge / equalize circuit and the precharge power supply line, and a current limiting element between the precharge / equalize circuit and the precharge power supply line A switching transistor connected in parallel to the In response to operation of the charge-equalizing circuit, and further comprising a control circuit for controlling the ON state of the switching transistor for a predetermined period.

【0026】本発明の第3のダイナミック型半導体メモ
リは、前記第2の発明のダイナミック型半導体メモリに
おいて、前記メモリセルアレイのテスト時には前記スイ
ッチ用トランジスタを常にオフ状態に制御する回路をさ
らに具備することを特徴とする。
A third dynamic semiconductor memory according to the present invention, in the dynamic semiconductor memory according to the second invention, further comprises a circuit for always controlling the switching transistor to be in an off state when testing the memory cell array. It is characterized by.

【0027】本発明の第4のダイナミック型半導体メモ
リは、複数のメモリセルアレイでビット線センスアンプ
を共用するセンスアンプ共用方式のダイナミック型半導
体メモリにおいて、ビット線対の電位をプリチャージ・
イコライズするプリチャージ・イコライズ回路を前記ビ
ット線センスアンプに対応して設けるとともにプリチャ
ージ電源線に接続することにより複数のメモリセルアレ
イで共用し、前記プリチャージ・イコライズ回路により
ビット線をプリチャージ・イコライズする際に、前記プ
リチャージ電源線から前記プリチャージ・イコライズ回
路に供給する電流を制限することを特徴とする。
According to a fourth dynamic semiconductor memory of the present invention, in a dynamic semiconductor memory of a sense amplifier sharing system in which a plurality of memory cell arrays share a bit line sense amplifier, the potential of a bit line pair is precharged.
A precharge / equalize circuit to be equalized is provided corresponding to the bit line sense amplifier and connected to a precharge power supply line to be shared by a plurality of memory cell arrays, and the bit line is precharged / equalized by the precharge / equalize circuit. In this case, a current supplied from the precharge power supply line to the precharge / equalize circuit is limited.

【0028】本発明の第5のダイナミック型半導体メモ
リは、前記第4のダイナミック型半導体メモリにおい
て、前記セルアレイ選択スイッチにより選択されたビッ
ト線対に対するプリチャージ期間中に、前記プリチャー
ジ・イコライズ回路と前記プリチャージ電源線を一時的
に短絡させて前記選択されたビット線対にプリチャージ
電位を生成することを特徴とする。
According to a fifth dynamic semiconductor memory of the present invention, in the fourth dynamic semiconductor memory, the precharge / equalize circuit is provided during a precharge period for the bit line pair selected by the cell array selection switch. The precharge power supply line is temporarily short-circuited to generate a precharge potential on the selected bit line pair.

【0029】本発明の第1および第5のダイナミック型
半導体メモリによれば、複数のメモリセルアレイでビッ
ト線プリチャージ・イコライズ回路を共用するので、ビ
ット線プリチャージ・イコライズ回路の面積を縮小する
ことができるので、より高い集積度を実現し、ビット単
価を低減することができる。そして、プリチャージ電源
線からビット線プリチャージ・イコライズ回路に供給す
る電流を制限するので、冗長回路による置換の対象とな
ったワード線・ビット線間短絡不良部分のワード線方向
へプリチャージ電源線から流れるリーク電流を軽減し、
待機時の消費電力を軽減することができる。
According to the first and fifth dynamic semiconductor memories of the present invention, since the bit line precharge / equalize circuit is shared by a plurality of memory cell arrays, the area of the bit line precharge / equalize circuit can be reduced. Therefore, a higher degree of integration can be realized and the unit cost per bit can be reduced. Since the current supplied from the precharge power supply line to the bit line precharge / equalize circuit is limited, the precharge power supply line extends in the word line direction of the word line / bit line short-circuit defective portion which has been replaced by the redundant circuit. To reduce the leakage current flowing from
Power consumption during standby can be reduced.

【0030】本発明の第2および第6のダイナミック型
半導体メモリによれば、さらに、セルアレイ選択スイッ
チにより選択されたビット線対に対するプリチャージ期
間中に、プリチャージ・イコライズ回路とプリチャージ
電源線を一時的に短絡させて選択されたビット線対にプ
リチャージ電位を生成するので、プリチャージ・イコラ
イズの際のビット線対の電位低下を回避し、メモリセル
のデータを正しく検知・増幅することができ、製品の歩
留りを高め、コストの低減を図ることができる。
According to the second and sixth dynamic semiconductor memories of the present invention, furthermore, during the precharge period for the bit line pair selected by the cell array selection switch, the precharge / equalize circuit and the precharge power supply line are connected. Since the precharge potential is generated on the selected bit line pair by short-circuiting temporarily, it is possible to avoid the potential drop of the bit line pair during precharge equalization and to correctly detect and amplify the data of the memory cell. As a result, the yield of products can be increased and the cost can be reduced.

【0031】本発明の第3のダイナミック型半導体メモ
リによれば、製造段階でのテスト時に実際の動作時より
も動作条件を厳しくすることができ、ワード線・ビット
線間短絡不良を含む回路を確実に検出することができ
る。
According to the third dynamic semiconductor memory of the present invention, the operating conditions can be made stricter at the time of testing at the manufacturing stage than at the time of actual operation, and a circuit including short-circuit failure between word lines and bit lines can be realized. It can be detected reliably.

【0032】本発明の第4のダイナミック型半導体メモ
リによれば、プリチャージ電流制限素子としてゲート・
ソースを短絡接続したデプレッション型のNチャネルM
OSトランジスタを用いる場合には、ビット線対をプリ
チャージ電源と等しい電位にプリチャージすることがで
き、エンハンスメント型トランジスタを用いる場合に
は、閾値制御プロセスが少なくて済むのでコスト的に有
利である。
According to the fourth dynamic type semiconductor memory of the present invention, the gate-type semiconductor device is used as a precharge current limiting element.
Depletion type N-channel M with source short-circuited
When the OS transistor is used, the bit line pair can be precharged to the same potential as the precharge power supply. When the enhancement transistor is used, the threshold control process can be reduced, which is advantageous in cost.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0034】まず、本発明のDRAMの主な特徴を説明
する。
First, main features of the DRAM of the present invention will be described.

【0035】(1)複数のセルアレイで共有されるビッ
ト線センスアンプ回路に接続されるビット線プリチャー
ジ回路を、各セルアレイのビット線対で共有するように
構成した。
(1) The bit line precharge circuit connected to the bit line sense amplifier circuit shared by a plurality of cell arrays is configured to be shared by the bit line pairs of each cell array.

【0036】これにより、ビット線プリチャージ回路の
パターン面積を低減し、ひいては、DRAMのチップ面
積を縮小することができる。
As a result, the pattern area of the bit line precharge circuit can be reduced, and the chip area of the DRAM can be reduced.

【0037】(2)プリチャージ電源線とビット線プリ
チャージ回路との間に電流制限素子を挿入した。
(2) A current limiting element is inserted between the precharge power supply line and the bit line precharge circuit.

【0038】これにより、イコライズの際に、冗長回路
による置換の対象となったワード線・ビット線間短絡不
良部分のワード線方向へプリチャージ電源線から流れる
リーク電流を軽減し、このリーク電流によってビット線
イコライズ電位が低下することを抑制し、メモリセルの
データをビット線センスアンプ回路により正しく検知・
増幅することができる。
With this arrangement, at the time of equalization, the leakage current flowing from the precharge power supply line in the word line direction of the short-circuit defective portion between the word line and the bit line which has been replaced by the redundant circuit is reduced. The bit line equalizing potential is prevented from lowering, and the data in the memory cell is correctly detected by the bit line sense amplifier circuit.
Can be amplified.

【0039】(3)上記電流制限素子に並列にスイッチ
用のMOSトランジスタを接続し、そのゲートに所定の
タイミングで駆動パルス信号を供給するようにした。
(3) A switching MOS transistor is connected in parallel with the current limiting element, and a drive pulse signal is supplied to the gate thereof at a predetermined timing.

【0040】これにより、ワード線・ビット線間短絡不
良が存在し、ワード線・ビット線間短絡不良によるリー
ク電流が流れる場合でも、イコライズ時にはビット線対
にプリチャージ電位を高速で生成することができる。
Thus, even when a short-circuit between the word line and the bit line exists and a leak current flows due to the short-circuit between the word line and the bit line, a precharge potential can be generated at a high speed in the bit line pair during equalization. it can.

【0041】また、テスト時には、前記スイッチト用ト
ランジスタを動作させないことにより、ワード線・ビッ
ト線間短絡不良部分を含む回路を効率良く検出すること
ができる。
In the test, by not operating the switching transistor, it is possible to efficiently detect a circuit including a short-circuit defective portion between a word line and a bit line.

【0042】<第1実施例>図1は、本発明の第1実施
例に係るセンスアンプ共用方式のDRAMのコア回路の
一部(メモリセルアレイの1カラム分)およびそれに接
続されている周辺回路の一部(センスアンプ等)を示す
等価回路図である。
<First Embodiment> FIG. 1 shows a part of a core circuit (for one column of a memory cell array) of a sense amplifier shared DRAM according to a first embodiment of the present invention and peripheral circuits connected thereto. 3 is an equivalent circuit diagram showing a part (a sense amplifier and the like) of FIG.

【0043】図1のDRAMは、図9を参照して前述し
た従来例のDRAMと比べて、(1)2個のセルアレイ
の各一対のビット線で共有される1個のビット線センス
アンプ回路に対して1個のビット線プリチャージ回路が
接続される(2個のセルアレイの各一対のビット線を1
個のビット線プリチャージ回路で選択的にプリチャージ
・イコライズする)点、(2)プリチャージ電源線と上
記ビット線プリチャージ回路との間に電流制限素子が挿
入されている点が異なり、その他は同じであるので図9
中と同一符号を付している。
The DRAM of FIG. 1 is different from the DRAM of the related art described above with reference to FIG. 9 in that (1) one bit line sense amplifier circuit shared by each pair of bit lines of two cell arrays. Is connected to one bit line precharge circuit (each pair of bit lines of two cell arrays is connected to one bit line).
And (2) a current limiting element is inserted between the precharge power supply line and the bit line precharge circuit. Are the same,
The same reference numerals as in the figure are used.

【0044】即ち、図1のDRAMは、複数個のダイナ
ミック型メモリセル11、12がマトリクス状に配置された
メモリセルアレイと、メモリセルを選択する複数のワー
ド線とメモリセルとのデータの授受を行う複数対のビッ
ト線とが互いに交差する方向に設けられている。
That is, the DRAM of FIG. 1 exchanges data between a memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells 11 and 12 are arranged in a matrix, a plurality of word lines for selecting a memory cell, and a memory cell. A plurality of pairs of bit lines are provided in a direction crossing each other.

【0045】図1には、表示の簡単化のため、メモリセ
ルアレイ間に配置されたビット線センスアンプのうちの
1個のビット線センスアンプ16と、センスアンプ16の左
側に配置されているメモリセルアレイの各カラムに対応
する一対のセルアレイ選択用スイッチ13、一対のビット
線(BLL 、bBLL)、1個のメモリセル11および1本のワ
ード線WLL と、センスアンプ16の右側に配置されている
メモリセルアレイの各カラムに対応する一対のセルアレ
イ選択用スイッチ14、一対のビット線(BLR 、bBLR)、
1個のメモリセル12および1本のワード線WLR と、セン
スアンプ16の左右のメモリセルアレイの各一対のビット
線で共有される1個のカラム選択ゲート17およびそれに
接続されている一対のデータ線DQ、bDQ を代表的に示し
ている。
FIG. 1 shows one of the bit line sense amplifiers 16 among the bit line sense amplifiers arranged between the memory cell arrays and the memory arranged on the left side of the sense amplifier 16 for simplification of display. A pair of cell array selection switches 13 corresponding to each column of the cell array, a pair of bit lines (BLL, bBLL), one memory cell 11, one word line WLL, and a right side of the sense amplifier 16 are arranged. A pair of cell array selection switches 14 corresponding to each column of the memory cell array, a pair of bit lines (BLR, bBLR),
One memory cell 12 and one word line WLR, one column selection gate 17 shared by each pair of bit lines of the left and right memory cell arrays of the sense amplifier 16, and a pair of data lines connected thereto DQ and bDQ are representatively shown.

【0046】前記ビット線センスアンプ16は、センスア
ンプ制御信号SEN により制御されるNMOSセンスアン
プ部およびセンスアンプ制御信号bSEPにより制御される
PMOSセンスアンプ部からなり、選択されたメモリセ
ルアレイのメモリセルが選択駆動された時に対応するビ
ット線対に生じる電位差を検知・増幅するものである。
The bit line sense amplifier 16 comprises an NMOS sense amplifier controlled by a sense amplifier control signal SEN and a PMOS sense amplifier controlled by a sense amplifier control signal bSEP. This is to detect and amplify a potential difference generated in a corresponding bit line pair when selectively driven.

【0047】前記セルアレイ選択用スイッチ13および14
は、対応してセルアレイ選択信号ΦL 、ΦR により制御
され、前記カラム選択ゲート17は、カラムゲート制御信
号CSL により制御される。
The cell array selection switches 13 and 14
Are correspondingly controlled by cell array selection signals ΦL and ΦR, and the column selection gate 17 is controlled by a column gate control signal CSL.

【0048】さらに、センスアンプ16の左右のメモリセ
ルアレイの各一対のビット線で共有される1個のビット
線プリチャージ回路15が前記センスアンプ16の一対のセ
ンスノード間に接続されている。
Further, one bit line precharge circuit 15 shared by each pair of bit lines of the left and right memory cell arrays of the sense amplifier 16 is connected between a pair of sense nodes of the sense amplifier 16.

【0049】そして、プリチャージ電源(電位Vref)が
供給されるプリチャージ電源線40と前記ビット線プリチ
ャージ回路15との間にはリーク電流制限用の電流制限素
子Q20が接続されている。
A current limiting element Q20 for limiting a leak current is connected between a precharge power supply line 40 to which a precharge power supply (potential Vref) is supplied and the bit line precharge circuit 15.

【0050】上記ビット線プリチャージ回路15は、プリ
チャージ時にイコライズ制御信号EQで制御され、セルア
レイ選択用スイッチ13あるいは14により対応して選択さ
れているビット線対(BLL 、bBLL)あるいは(BLR 、bB
LR)をプリチャージ電源線40から供給される電位にプリ
チャージ・イコライズするものである。
The bit line precharge circuit 15 is controlled by an equalization control signal EQ at the time of precharge, and is selected by the bit line pair (BLL, bBLL) or (BLR, bB
LR) is precharged and equalized to a potential supplied from the precharge power supply line 40.

【0051】なお、前記電流制限素子Q20として、本例
ではデプレッション(Depletion )型のNチャネルMO
Sトランジスタのゲート・ソースを短絡接続したものを
使用しているが、デプレッション型トランジスタに限ら
ず、エンハンスメント(Enhancement)型トランジスタ
を使用してもよい。ただし、エンハンスメント型トラン
ジスタを使用した場合、そのゲートには所定の電圧が供
給される。
As the current limiting element Q20, in this example, a depletion type N-channel MO is used.
Although an S transistor having a short-circuited gate and source is used, the invention is not limited to a depletion type transistor, and an enhancement type transistor may be used. However, when an enhancement transistor is used, a predetermined voltage is supplied to its gate.

【0052】この場合、デプレッション型トランジスタ
は、閾値制御プロセスが増加するのでエンハンスメント
型トランジスタよりもコスト的に不利であるが、ビット
線対をプリチャージ電源と等しい電位Vrefにプリチャー
ジすることができる。
In this case, the depletion type transistor is disadvantageous in cost as compared with the enhancement type transistor because the threshold control process is increased, but the bit line pair can be precharged to the potential Vref equal to the precharge power supply.

【0053】これに対して、エンハンスメント型トラン
ジスタは、閾値制御プロセスが少なくて済むのでデプレ
ッション型トランジスタよりもコスト的に有利である
が、ビット線対をプリチャージ電源電位Vrefよりその閾
値電圧分だけ低い値までしかプリチャージすることがで
きないので、センスアンプ回路の動作速度の面で不利に
なる。
On the other hand, the enhancement-type transistor is more cost-effective than the depletion-type transistor because the threshold control process is reduced, but the bit line pair is lower than the precharge power supply potential Vref by the threshold voltage. Since only the value can be precharged, the operation speed of the sense amplifier circuit is disadvantageous.

【0054】なお、図1において、Q1およびC1は、メモ
リセル11の電荷転送用トランジスタおよび情報記憶用キ
ャパシタ、Q2およびC2は、メモリセル12の電荷転送用ト
ランジスタおよび情報記憶用キャパシタ、Q3〜Q5はNM
OSセンスアンプ部のNMOSトランジスタ、Q6〜Q8は
PMOSセンスアンプ部のPMOSトランジスタ、Q9お
よびQ10 はセルアレイ選択用スイッチ13のNMOSトラ
ンジスタ、Q11 およびQ12 はセルアレイ選択用スイッチ
14のNMOSトランジスタ、Q13 〜Q15 はビット線プリ
チャージ回路15のNMOSトランジスタ、Q18 およびQ1
9 はカラム選択ゲート17のNMOSトランジスタであ
る。
In FIG. 1, Q1 and C1 are charge transfer transistors and information storage capacitors of the memory cell 11, Q2 and C2 are charge transfer transistors and information storage capacitors of the memory cell 12, Q3 to Q5. Is NM
NMOS transistors in the OS sense amplifier section, Q6 to Q8 are PMOS transistors in the PMOS sense amplifier section, Q9 and Q10 are NMOS transistors in the cell array selection switch 13, and Q11 and Q12 are cell array selection switches.
14 NMOS transistors, Q13 to Q15 are NMOS transistors of the bit line precharge circuit 15, Q18 and Q1.
9 is an NMOS transistor of the column selection gate 17.

【0055】図2は、図1の回路の動作例を示すタイミ
ング波形図である。
FIG. 2 is a timing waveform chart showing an operation example of the circuit of FIG.

【0056】次に、図2に示したタイミング波形図を参
照しながら図1の回路の動作について説明する。
Next, the operation of the circuit of FIG. 1 will be described with reference to the timing waveform diagram shown in FIG.

【0057】アクセスする時には、セルアレイ選択信号
ΦL 、ΦR のうち、アクセスされる側のセルアレイ選択
信号(本例ではΦL)を“H”のままとし、アクセスしな
い側のセルアレイ選択信号(本例ではΦR)を“L”に
し、ビット線イコライズ制御信号EQを“H”から“L”
にする。これにより、選択されたセルアレイ側のビット
線対(本例ではBLL 、bBLL)はフローティング状態にな
る。
At the time of access, of the cell array selection signals .PHI.L and .PHI.R, the cell array selection signal to be accessed (.PHI.L in this example) remains "H", and the cell array selection signal to the non-accessed side (.PHI.R in this example). ) To “L” and the bit line equalize control signal EQ from “H” to “L”.
To As a result, the selected bit line pair (BLL, bBLL in this example) on the cell array side is brought into a floating state.

【0058】続いて、外部アドレスより選択されたワー
ド線(本例ではWLL )が“H”になり、メモリセル(本
例では11)のデータがビット線に読み出される。
Subsequently, the word line (WLL in this example) selected from the external address becomes "H", and the data of the memory cell (11 in this example) is read out to the bit line.

【0059】続いて、センスアンプ制御信号SEN が
“L”から“H”へ、センスアンプ制御信号bSEPが
“H”から“L”になってセンスアンプ回路16が活性化
し、ビット線対の電位が検知・増幅される。
Subsequently, the sense amplifier control signal SEN changes from "L" to "H", and the sense amplifier control signal bSEP changes from "H" to "L" to activate the sense amplifier circuit 16 and the potential of the bit line pair. Is detected and amplified.

【0060】読み出したデータをセルへ再書き込みした
後、選択ワード線WLL を“H”から“L”にしてセルへ
のアクセスを止め、引き続いてセンスアンプ制御信号bS
EPを“L”から“H”へ、センスアンプ制御信号SEN を
“H”から“L”へ切り替える。
After rewriting the read data to the cell, the selected word line WLL is changed from "H" to "L" to stop the access to the cell, and subsequently the sense amplifier control signal bS
The EP is switched from “L” to “H”, and the sense amplifier control signal SEN is switched from “H” to “L”.

【0061】さらに、セルアレイ選択信号ΦL 、ΦR を
それぞれ“H“にし、イコライズ制御信号EQを”L“か
ら”H“にしてプリチャージ動作を開始させると、各ビ
ット線対はプリチャージ電位Vrefになる。
Further, when the cell array selection signals ΦL and ΦR are set to “H” and the equalization control signal EQ is changed from “L” to “H” to start the precharge operation, each bit line pair is set to the precharge potential Vref. Become.

【0062】上記第1実施例のDRAMによれば、左右
のセルアレイの各一対のビット線(BLL 、bBLL)、(BL
R 、bBLR)で1個のビット線プリチャージ回路15を共有
しているので、各セルアレイのビット線対毎に対応して
1個のビット線プリチャージ回路が接続されている従来
例のDRAMと比べて、ビット線プリチャージ回路のパ
ターン面積を低減し、ひいては、DRAMのチップ面積
を縮小することができる。
According to the DRAM of the first embodiment, each pair of bit lines (BLL, bBLL), (BL
R, bBLR) share one bit line precharge circuit 15, so that the conventional DRAM in which one bit line precharge circuit is connected corresponding to each bit line pair of each cell array. In comparison, the pattern area of the bit line precharge circuit can be reduced, and the chip area of the DRAM can be reduced.

【0063】また、冗長回路による置換の対象となった
ワード線・ビット線間短絡不良部分が冗長回路に置き換
えられた後に残存していたとしても、プリチャージ電源
線40とビット線プリチャージ回路15との間に電流制限素
子Q20 が挿入されており、プリチャージ・イコライズ動
作の際にプリチャージ電流が制限される。
Further, even if the short-circuit defective portion between the word line and the bit line to be replaced by the redundant circuit remains after being replaced by the redundant circuit, the precharge power supply line 40 and the bit line precharge circuit 15 And a current limiting element Q20 is inserted between them to limit the precharge current during the precharge / equalize operation.

【0064】したがって、例えば図6中に示すように、
プリチャージ電源線40およびビット線対側からワード線
方向へ流れるリーク電流iを低減することができるの
で、上記リーク電流iによってビット線イコライズ電位
が低下することを抑制し、メモリセルのデータをビット
線センスアンプ回路16により正しく検知・増幅すること
ができる。
Therefore, for example, as shown in FIG.
Since the leakage current i flowing from the precharge power supply line 40 and the bit line pair side to the word line direction can be reduced, the reduction of the bit line equalizing potential due to the leakage current i is suppressed, and the data of the memory cell is stored in the bit line. The line sense amplifier circuit 16 can correctly detect and amplify.

【0065】ところで、上記第1実施例では、ビット線
プリチャージ回路15を左右のセルアレイで共有したこと
による問題点がある。
The first embodiment has a problem that the bit line precharge circuit 15 is shared by the left and right cell arrays.

【0066】ビット線プリチャージ回路15を左右のセル
アレイで共有しない場合、選択されたセルアレイとは反
対側のセルアレイは常にプリチャージされている。しか
し、共有したことで、選択されたセルアレイにアクセス
中は、反対側のセルアレイはプリチャージされない。即
ち、ワード線・ビット線間短絡不良部分を持つ回路で
は、セルアレイにアクセスしている期間中は前記短絡不
良部分にリーク電流が流れるので、ビット線対の電位は
プリチャージ電位より下がる。プリチャージ電位が下が
った状態でセンスアンプ回路16が駆動されると、センス
アンプ回路16中のNMOSトランジスタQ3、Q4の駆動能
力が低くなるので、セルの持つデータを短時間で正しく
増幅・検知することができない。
When the bit line precharge circuit 15 is not shared by the left and right cell arrays, the cell array opposite to the selected cell array is always precharged. However, due to the sharing, during access to the selected cell array, the cell array on the opposite side is not precharged. That is, in a circuit having a short-circuit defective portion between a word line and a bit line, a leak current flows through the short-circuit defective portion during access to the cell array, so that the potential of the bit line pair is lower than the precharge potential. When the sense amplifier circuit 16 is driven in a state where the precharge potential is lowered, the driving capability of the NMOS transistors Q3 and Q4 in the sense amplifier circuit 16 is reduced, so that the data held in the cell is correctly amplified and detected in a short time. Can not do.

【0067】この問題を解決するための第2実施例を以
下に説明する。
A second embodiment for solving this problem will be described below.

【0068】<第2実施例>図3は、第2実施例に係る
センスアンプ共用方式のDRAMのコア回路の一部およ
び周辺回路の一部を示す等価回路図である。
<Second Embodiment> FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing a part of a core circuit and a part of a peripheral circuit of a sense amplifier shared DRAM according to a second embodiment.

【0069】図3に示す回路は、図1を参照して前述し
た回路と比べて、(1)電流制限素子Q20 に並列にスイ
ッチ用のNMOSトランジスタQ30 が接続され、そのゲ
ートには制御回路30で生成されるスイッチ制御信号(パ
ルス信号)SWが供給され、上記スイッチ用トランジスタ
Q30 が所定のタイミングで駆動される点が異なり、その
他は同じであるので図1中と同一符号を付している。
The circuit shown in FIG. 3 is different from the circuit described above with reference to FIG. 1 in that (1) a switching NMOS transistor Q30 is connected in parallel with a current limiting element Q20, and a control circuit 30 is connected to its gate. Is supplied with a switch control signal (pulse signal) SW generated by the switch transistor
The difference is that Q30 is driven at a predetermined timing, and the other components are the same.

【0070】図4(a)、(b)は、図3の回路中の制
御回路30の構成および動作波形の一例を示している。
FIGS. 4A and 4B show an example of the configuration and operation waveforms of the control circuit 30 in the circuit of FIG.

【0071】図4(a)の回路は、複数のインバータ回
路IVと1個の二入力ノアゲートNGからなる既知の構成で
あり、パルス信号入力(本例では図4(b)に示すよう
なイコライズ制御信号EQ)の立ち上がりより少し遅れて
短い幅のパルス信号(本例では図4(b)に示すような
スイッチ制御信号SW)を出力するように論理構成され
ている。
The circuit shown in FIG. 4A has a known configuration including a plurality of inverter circuits IV and one two-input NOR gate NG, and receives a pulse signal input (in this example, an equalization as shown in FIG. 4B). The logic configuration is such that a pulse signal having a short width (a switch control signal SW as shown in FIG. 4B in this example) is output slightly later than the rise of the control signal EQ).

【0072】図5は、図3の回路の動作例を示すタイミ
ング波形図である。
FIG. 5 is a timing waveform chart showing an operation example of the circuit of FIG.

【0073】図6は、図1の回路あるいは点線で示すス
イッチ用トランジスタQ30 が追加された図3の回路にワ
ード線・ビット線間短絡不良部(図中×印)が存在する
場合に、プリチャージ時に、プリチャージ電源線40・ビ
ット線BL側からワード線WLにリーク電流iが流れる様子
を示す等価回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram of the circuit shown in FIG. 1 or the circuit shown in FIG. 3 to which a switching transistor Q30 shown by a dotted line is added. FIG. 7 is an equivalent circuit diagram showing a state in which a leak current i flows from a precharge power supply line 40 / bit line BL side to a word line WL during charging.

【0074】図7は、図3の回路のプリチャージ時にお
けるビット線対(BLL 、bBLL)および(BLR 、bBLR)の
プリチャージ・イコライズ特性をしている。
FIG. 7 shows the precharge / equalization characteristics of the bit line pair (BLL, bBLL) and (BLR, bBLR) during the precharge of the circuit of FIG.

【0075】また、比較のため、図3の回路および図1
の回路にリーク電流がない場合のプリチャージ・イコラ
イズ特性と、図1の回路にリーク電流が有る場合のプリ
チャージ・イコライズ特性も示している。
For comparison, the circuit shown in FIG.
1 also shows a precharge / equalization characteristic when there is no leakage current in the circuit of FIG. 1 and a precharge / equalization characteristic when there is a leakage current in the circuit of FIG.

【0076】次に、図5乃至図7を参照しながら図3の
回路の動作について説明する。
Next, the operation of the circuit of FIG. 3 will be described with reference to FIGS.

【0077】スイッチ制御信号SWは、イコライズ期間
中、つまり、イコライズ制御信号EQが“H”の期間に一
時的に“H”になり、スイッチ用トランジスタQ30 をオ
ン状態にさせてプリチャージ電源線40とプリチャージ回
路15とを一時的に短絡させる。
The switch control signal SW temporarily becomes “H” during the equalizing period, that is, during the period when the equalizing control signal EQ is “H”, and turns on the switching transistor Q30 to turn on the precharge power supply line 40. And the precharge circuit 15 are temporarily short-circuited.

【0078】この結果、ワード線・ビット線間短絡不良
が存在し、図6中に示すようにワード線・ビット線間短
絡不良によるリーク電流iが流れる場合でも、図7中に
示すようにイコライズ時にはビット線対(BLL 、bBLL)
および(BLR 、bBLR)にプリチャージ電位Vrefを高速で
生成することができる。
As a result, even when a short-circuit between the word line and the bit line exists and a leak current i flows due to the short-circuit between the word line and the bit line as shown in FIG. 6, equalization as shown in FIG. Sometimes bit line pairs (BLL, bBLL)
And (BLR, bBLR) can generate the precharge potential Vref at high speed.

【0079】なお、図1に示した第1実施例のDRAM
において、特にワード線・ビット線間短絡不良が存在し
ない側のセルアレイが長時間アクティブ状態であった
後、ワード線・ビット線間短絡不良が存在する側のセル
アレイがアクセスされる場合を考える。この場合、図7
中に示したようにセルアレイのビット線対に対するプリ
チャージ・イコライズが完了するまでの時間が遅れ、イ
コライズが十分に完了する前のビット線対のイコライズ
レベルがVrefより低い状態(換言すれば、イコライズ期
間が短い状態)でセルにアクセスされる。これにより、
センスアンプ回路16の中のNMOSトランジスタQ3、Q4
のゲート・ソース間の電位差が、ワード線・ビット線間
短絡不良が存在しない場合と比較して小さいので、メモ
リセルのデータを正しく検知・増幅できないという問題
がある。
The DRAM of the first embodiment shown in FIG.
In particular, consider the case where the cell array on the side where there is no short-circuit failure between word lines and bit lines is active for a long time and then the cell array on the side where there is a short-circuit failure between word lines and bit lines is accessed. In this case, FIG.
As shown in the figure, the time until the completion of the precharge / equalization for the bit line pair of the cell array is delayed, and the equalization level of the bit line pair before the equalization is sufficiently completed is lower than Vref (in other words, the equalization The cell is accessed for a short period of time). This allows
NMOS transistors Q3 and Q4 in the sense amplifier circuit 16
Since the potential difference between the gate and the source is small compared to the case where there is no short-circuit failure between the word line and the bit line, there is a problem that data in the memory cell cannot be correctly detected and amplified.

【0080】これに対して、図3に示した第2実施例の
DRAMによれば、図5に示したような動作に際して、
図7に示すようにビット線対(BLL 、bBLL)および(BL
R、bBLR)にプリチャージ電位Vrefを短時間で生成する
ことができ、メモリセルのデータを正しく検知・増幅す
ることが可能になる。
On the other hand, according to the DRAM of the second embodiment shown in FIG. 3, the operation shown in FIG.
As shown in FIG. 7, the bit line pairs (BLL, bBLL) and (BL
R, bBLR), the precharge potential Vref can be generated in a short time, and the data of the memory cell can be correctly detected and amplified.

【0081】ところで、前述したように、ワード線・ビ
ット線間短絡不良を含む回路は、リーク電流によりビッ
ト線イコライズレベルが低下し過ぎると、メモリセルの
データを正しく検知・増幅できない。このような短絡不
良は、通常は、製造段階でのテスト時に不良として検出
され、短絡不良部は冗長回路に置換される。
As described above, a circuit including a short-circuit between a word line and a bit line cannot correctly detect and amplify data in a memory cell if the bit line equalize level is too low due to a leak current. Such a short-circuit defect is usually detected as a defect during a test in a manufacturing stage, and the short-circuit defective portion is replaced with a redundant circuit.

【0082】しかし、ワード線・ビット線間短絡不良に
よるリーク電流が少ない場合など、製造段階でのテスト
はパスするが、製品段階での実際の使用中に誤動作して
しまう場合もある。
However, when the test in the manufacturing stage passes, for example, when the leak current due to the short-circuit failure between the word line and the bit line is small, the device may malfunction during the actual use in the product stage.

【0083】上記問題を解決するために、DRAMの製
造段階でのテスト時に実際の動作時よりも動作条件を厳
しくすることにより、ワード線・ビット線間短絡不良を
含む回路を確実に検出する方法および回路について以下
に説明する。
In order to solve the above-mentioned problem, a method for reliably detecting a circuit including a short-circuit between a word line and a bit line by making operating conditions stricter during a test in a DRAM manufacturing stage than during an actual operation. The circuit and the circuit will be described below.

【0084】図8は、第2実施例のDRAMに対するワ
ード線・ビット線間短絡不良検出のためのテスト方法に
係るDRAMの動作例を示すタイミング波形図である。
FIG. 8 is a timing waveform chart showing an operation example of a DRAM according to a test method for detecting a short circuit between a word line and a bit line in the DRAM of the second embodiment.

【0085】このテスト方法は、前述した第2実施例の
DRAMに対して、製造段階でのテスト時に前記スイッ
チ用トランジスタ(図3中のQ30 )を常にオフ状態に制
御するためにスイッチ制御信号SWを非活性状態(“L”
レベル)のまま維持するように変更したことを特徴とす
る。
This test method is different from the DRAM of the second embodiment in that the switch control signal SW30 (Q30 in FIG. 3) is always turned off during the test in the manufacturing stage. In the inactive state (“L”)
Level).

【0086】この変更の一例としては、例えば図3中の
制御回路30の入力部に二入力のゲート回路(図示せず)
を付加し、このゲート回路の一方の入力端にEQL 信号を
入力し、他方の入力端に通常時/テスト時に応じてゲー
トの通過/禁止を制御する信号(例えばテストモード信
号に基づいて生成される信号)を入力すればよい。
As an example of this change, for example, a two-input gate circuit (not shown) is connected to the input section of the control circuit 30 in FIG.
And an EQL signal is input to one input terminal of the gate circuit, and a signal for controlling passage / inhibition of the gate according to normal / test time (for example, generated based on a test mode signal) is input to the other input terminal. Signal).

【0087】このテスト方法によるテスト時の動作波形
は、図8に示すように、図5に示した第2実施例のDR
AMの動作波形と比べて、基本的には同じであるが、次
の点が異なる。
As shown in FIG. 8, the operation waveform at the time of the test according to this test method is the DR of the second embodiment shown in FIG.
It is basically the same as the operation waveform of AM, but differs in the following point.

【0088】即ち、スイッチ制御信号SWが“L”レベル
であり、スイッチ用トランジスタQ30 がオフ状態である
ので、イコライズ制御信号EQが“L”から“H”に遷移
して全てのビット線対を“L”レベルから所望の電位に
プリチャージ・イコライズする時に、ワード線・ビット
線間短絡不良がある場合にはプリチャージに時間がかか
ることである。
That is, since the switch control signal SW is at the “L” level and the switching transistor Q30 is in the off state, the equalize control signal EQ transitions from “L” to “H”, and all bit line pairs are switched. When precharging and equalizing from the "L" level to a desired potential, if there is a short-circuit failure between word lines and bit lines, precharging takes time.

【0089】この状態でセルへのアクセスが行われる
と、ビット線対(BLL 、bBLL)および(BLR 、bBLR)の
イコライズレベルがプリチャージ電源線40の電位Vrefよ
り低くなっているので、センスアンプ回路16の中のNM
OSトランジスタQ3、Q4のゲート・ソース間の電位差が
小さく、メモリセルのデータを正しく検知・増幅できな
い。つまり、ワード線・ビット線間短絡不良を含む回路
を容易に検出することが可能になる。
When the cell is accessed in this state, the equalization level of the bit line pair (BLL, bBLL) and (BLR, bBLR) is lower than the potential Vref of the precharge power supply line 40, NM in circuit 16
The potential difference between the gate and source of the OS transistors Q3 and Q4 is small, and data in the memory cell cannot be detected and amplified correctly. That is, it is possible to easily detect a circuit including a short circuit between the word line and the bit line.

【0090】上記したように第2実施例のDRAMによ
れば、製造段階でテストする際には、図8に示したよう
にスイッチ制御信号SWを“L”に保ってスイッチ用トラ
ンジスタQ30 をオフした状態でセンスアンプ回路16を動
作させるので、ワード線・ビット線間短絡不良を含む回
路を容易に検出することができ、製品の歩留まりを高
め、低コスト化を推進することができる。
As described above, according to the DRAM of the second embodiment, when testing at the manufacturing stage, the switch control signal SW is kept at "L" and the switch transistor Q30 is turned off as shown in FIG. Since the sense amplifier circuit 16 is operated in this state, a circuit including a short circuit between the word line and the bit line can be easily detected, the yield of products can be increased, and cost reduction can be promoted.

【0091】そして、実際の製品として動作させる際に
は、図5に示したように動作させ、プリチャージ・イコ
ライズ期間中にプリチャージ電源線40の電位Vrefまで短
時間でプリチャージ・イコライズさせるので、メモリセ
ルのデータを正しく検知・増幅することができる。
When operating as an actual product, it is operated as shown in FIG. 5, and during the precharge / equalization period, precharge / equalization is performed in a short time to the potential Vref of the precharge power supply line 40. Thus, the data of the memory cell can be correctly detected and amplified.

【0092】[0092]

【発明の効果】上述したように本発明のダイナミック型
半導体メモリによれば、ビット線プリチャージ・イコラ
イズ回路のパターン面積を低減し、冗長回路による置換
の対象となったワード線・ビット線間短絡不良部分のワ
ード線方向へプリチャージ電源線から流れるリーク電流
を軽減し、待機時の消費電力を軽減することができる。
As described above, according to the dynamic semiconductor memory of the present invention, the pattern area of the bit line precharge / equalize circuit is reduced, and the short circuit between the word line and the bit line to be replaced by the redundant circuit is achieved. Leakage current flowing from the precharge power supply line in the word line direction of the defective portion can be reduced, and power consumption during standby can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係るDRAMのコア回路
の一部および周辺回路の一部を示す等価回路図。
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing a part of a core circuit and a part of a peripheral circuit of a DRAM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の回路の動作例を示すタイミング波形図。FIG. 2 is a timing waveform chart showing an operation example of the circuit of FIG.

【図3】本発明の第2実施例に係るDRAMのコア回路
の一部および周辺回路の一部を示す回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a part of a core circuit and a part of a peripheral circuit of a DRAM according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3の回路中の制御回路の構成および動作波形
の一例を示す図。
4 is a diagram showing an example of a configuration and operation waveforms of a control circuit in the circuit of FIG.

【図5】図3の回路の動作例を示すタイミング波形図。FIG. 5 is a timing waveform chart showing an operation example of the circuit of FIG. 3;

【図6】図3の回路にワード線・ビット線間短絡不良が
存在する場合にリーク電流が流れる様子を示す等価回路
図。
6 is an equivalent circuit diagram showing a state in which a leak current flows when a short circuit between a word line and a bit line exists in the circuit of FIG. 3;

【図7】図3の回路によりビット線対にプリチャージ電
位を短時間で生成する様子を示す特性図。
FIG. 7 is a characteristic diagram showing how a precharge potential is generated in a bit line pair in a short time by the circuit of FIG. 3;

【図8】第2実施例のDRAMに対するワード線・ビッ
ト線間短絡不良検出のためのテスト方法に係るDRAM
の動作例を示すタイミング波形図。
FIG. 8 shows a DRAM according to a test method for detecting a short circuit between a word line and a bit line with respect to the DRAM of the second embodiment.
FIG. 6 is a timing waveform chart showing an operation example of FIG.

【図9】従来のセンスアンプ共用方式のDRAMのコア
回路の一部および周辺回路の一部を示す等価回路図。
FIG. 9 is an equivalent circuit diagram showing a part of a core circuit and a part of a peripheral circuit of a conventional sense amplifier shared DRAM.

【図10】図9の回路の動作例を示すタイミング波形
図。
FIG. 10 is a timing waveform chart showing an operation example of the circuit of FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、12…メモリセル、 14…セルアレイ選択スイッチ、 15…ビット線プリチャージ・イコライズ回路、 16…ビット線センスアンプ、 17…カラム選択ゲート、 30…スイッチトランジスタ制御回路、 40…プリチャージ電源線、 Q1〜Q5、Q9〜Q19 …NMOSトランジスタ、 Q6〜Q8…PMOSトランジスタ、 Q20 …電流制限素子(デプレッション型NMOSトラン
ジスタ)、 Q30 …スイッチ用トランジスタ WLL 、WLR …ワード線、 BLL 、bBLL、BLR 、bBLR…ビット線対、 DQ、bDQ …データ線対、 EQ…イコライズ制御信号、 SEN 、bSEP…センスアンプ制御信号、 SW…スイッチ制御信号、 CSL …カラムゲート制御信号、 ΦL 、ΦR …セルアレイ選択信号。
11, 12: memory cells, 14: cell array selection switch, 15: bit line precharge / equalize circuit, 16: bit line sense amplifier, 17: column selection gate, 30: switch transistor control circuit, 40: precharge power supply line, Q1 to Q5, Q9 to Q19: NMOS transistors, Q6 to Q8: PMOS transistors, Q20: Current limiting elements (depletion type NMOS transistors), Q30: Switching transistors WLL, WLR: Word lines, BLL, bBLL, BLR, bBLR ... Bit line pair, DQ, bDQ: Data line pair, EQ: Equalize control signal, SEN, bSEP: Sense amplifier control signal, SW: Switch control signal, CSL: Column gate control signal, ΦL, ΦR: Cell array selection signal.

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Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ複数のダイナミック型メモリセ
ルがマトリクス状に配置された複数のメモリセルアレイ
と、 前記メモリセルアレイのメモリセルを選択駆動する複数
本のワード線と、 前記メモリセルアレイの選択されたメモリセルとの間で
データの授受を行う複数対のビット線と、 前記複数のメモリセルアレイの選択を行う複数のセルア
レイ選択スイッチと、 前記複数のメモリセルアレイのビット線対にそれぞれ対
応して設けられ、前記セルアレイ選択スイッチを介して
前記ビット線対に接続されるビット線センスアンプと、 前記プリチャージ電源線および前記ビット線センスアン
プに接続され、前記セルアレイ選択スイッチにより選択
されたビット線対にプリチャージ電源線から供給される
電流をプリチャージし、前記ビット線対をイコライズす
るプリチャージ・イコライズ回路と、 前記プリチャージ・イコライズ回路と前記プリチャージ
電源線の間に挿入された電流制限素子とを具備すること
を特徴とするダイナミック型半導体メモリ。
1. A plurality of memory cell arrays each having a plurality of dynamic memory cells arranged in a matrix, a plurality of word lines for selectively driving memory cells of the memory cell array, and a selected memory of the memory cell array A plurality of pairs of bit lines for transmitting and receiving data to and from cells; a plurality of cell array selection switches for selecting the plurality of memory cell arrays; and a plurality of bit line pairs for the plurality of memory cell arrays. A bit line sense amplifier connected to the bit line pair via the cell array selection switch; and a precharge circuit connected to the precharge power supply line and the bit line sense amplifier, and precharged to the bit line pair selected by the cell array selection switch. Precharge the current supplied from the power supply line, and Dynamic semiconductor memory characterized by comprising: a precharge equalize circuit for equalizing, and a current limiting element inserted between the pre-charge power supply line and the precharge and equalizing circuit.
【請求項2】 それぞれ複数のダイナミック型メモリセ
ルがマトリクス状に配置された複数のメモリセルアレイ
と、 前記メモリセルアレイのメモリセルを選択駆動する複数
本のワード線と、 前記メモリセルアレイの選択されたメモリセルとの間で
データの授受を行う複数対のビット線と、 前記複数のメモリセルアレイの選択を行う複数のセルア
レイ選択スイッチと、 前記複数のメモリセルアレイのビット線対にそれぞれ対
応して設けられ、前記セルアレイ選択スイッチを介して
前記ビット線対に接続されるビット線センスアンプと、 前記プリチャージ電源線および前記ビット線センスアン
プに接続され、前記セルアレイ選択スイッチにより選択
されたビット線対にプリチャージ電源線から供給される
電流をプリチャージし、前記ビット線対をイコライズす
るプリチャージ・イコライズ回路と、 前記プリチャージ・イコライズ回路と前記プリチャージ
電源線の間に挿入された電流制限素子と、 前記プリチャージ・イコライズ回路とプリチャージ電源
線の間で前記電流制限素子に並列に接続されスイッチ用
トランジスタと、 プリチャージ・イコライズ回路の動作を受けて、所定期
間だけ前記スイッチ用トランジスタをオン状態にする制
御回路とをさらに具備することを特徴とするダイナミッ
ク型半導体メモリ。
2. A memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix, a plurality of word lines for selectively driving memory cells of the memory cell array, and a selected memory of the memory cell array. A plurality of pairs of bit lines for transmitting and receiving data to and from cells; a plurality of cell array selection switches for selecting the plurality of memory cell arrays; and a plurality of bit line pairs for the plurality of memory cell arrays. A bit line sense amplifier connected to the bit line pair via the cell array selection switch; and a precharge circuit connected to the precharge power supply line and the bit line sense amplifier, and precharged to the bit line pair selected by the cell array selection switch. Precharge the current supplied from the power supply line, and A precharge / equalizing circuit for equalizing; a current limiting element inserted between the precharge / equalizing circuit and the precharge power line; and a current limiting element between the precharge / equalizing circuit and the precharge power line. A dynamic semiconductor memory, further comprising: a switching transistor connected in parallel to the switching transistor; and a control circuit that receives the operation of the precharge / equalize circuit and turns on the switching transistor for a predetermined period.
【請求項3】 請求項2記載のダイナミック型半導体メ
モリにおいて、 前記メモリセルアレイのテスト時には前記スイッチ用ト
ランジスタを常にオフ状態に制御する回路をさらに具備
することを特徴とするダイナミック型半導体メモリ。
3. The dynamic semiconductor memory according to claim 2, further comprising: a circuit that always controls said switching transistor to be in an off state when testing said memory cell array.
【請求項4】 請求項1乃至3のいずれか1つに記載の
ダイナミック型半導体メモリにおいて、 前記電流制限素子は、ゲート・ソースを短絡接続したデ
プレッション型のNチャネルMOSトランジスタあるい
はエンハンスメント型トランジスタのいずれかであるこ
とを特徴とするダイナミック型半導体メモリ。
4. The dynamic semiconductor memory according to claim 1, wherein said current limiting element is a depletion type N-channel MOS transistor having a gate and a source short-circuited or an enhancement type transistor. A dynamic semiconductor memory characterized in that:
【請求項5】 複数のメモリセルアレイでビット線セン
スアンプを共用するセンスアンプ共用方式のダイナミッ
ク型半導体メモリにおいて、 ビット線対の電位をプリチャージ・イコライズするプリ
チャージ・イコライズ回路を前記ビット線センスアンプ
に対応して設けるとともにプリチャージ電源線に接続す
ることにより複数のメモリセルアレイで共用し、 前記プリチャージ・イコライズ回路によりビット線をプ
リチャージ・イコライズする際に、前記プリチャージ電
源線から前記プリチャージ・イコライズ回路に供給する
電流を制限することを特徴とするダイナミック型半導体
メモリ。
5. A dynamic semiconductor memory of a sense amplifier sharing type in which a bit line sense amplifier is shared by a plurality of memory cell arrays. The precharge / equalization circuit is shared by a plurality of memory cell arrays by connecting to the precharge power supply line, and when the bit line is precharged / equalized by the precharge / equalization circuit, the precharge is performed from the precharge power supply line. A dynamic semiconductor memory characterized by limiting a current supplied to an equalizing circuit.
【請求項6】 請求項5記載のダイナミック型半導体メ
モリにおいて、前記セルアレイ選択スイッチにより選択
されたビット線対に対するプリチャージ期間中に、前記
プリチャージ・イコライズ回路と前記プリチャージ電源
線を一時的に短絡させて前記選択されたビット線対にプ
リチャージ電位を生成することを特徴とするダイナミッ
ク型半導体メモリ。
6. The dynamic semiconductor memory according to claim 5, wherein said precharge / equalize circuit and said precharge power supply line are temporarily connected during a precharge period for a bit line pair selected by said cell array selection switch. A dynamic semiconductor memory, wherein a short circuit is generated to generate a precharge potential on the selected bit line pair.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002208298A (en) * 2001-01-10 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
KR100378685B1 (en) * 2000-12-29 2003-04-07 주식회사 하이닉스반도체 Semiconductor memory device and circuit for controlling a sense amplifier thereof
JP2005243158A (en) * 2004-02-27 2005-09-08 Elpida Memory Inc Dynamic type semiconductor memory device
JP2006286171A (en) * 2005-04-01 2006-10-19 Hynix Semiconductor Inc Pre-charge voltage supply circuit of semiconductor device
JP2007257768A (en) * 2006-03-24 2007-10-04 Nec Electronics Corp Semiconductor memory device
US7394709B2 (en) 2004-06-10 2008-07-01 Fujitsu Limited Memory device
KR100842696B1 (en) 2005-07-11 2008-07-01 엘피다 메모리 가부시키가이샤 Current limit circuit and semiconductor memory device
JP2009070558A (en) * 2008-11-25 2009-04-02 Elpida Memory Inc Dynamic type semiconductor memory device
US7606094B2 (en) 2006-07-24 2009-10-20 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory device and control method thereof
JP2011054270A (en) * 2000-03-24 2011-03-17 Renesas Electronics Corp Semiconductor memory device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011054270A (en) * 2000-03-24 2011-03-17 Renesas Electronics Corp Semiconductor memory device
KR100378685B1 (en) * 2000-12-29 2003-04-07 주식회사 하이닉스반도체 Semiconductor memory device and circuit for controlling a sense amplifier thereof
JP2002208298A (en) * 2001-01-10 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
JP2005243158A (en) * 2004-02-27 2005-09-08 Elpida Memory Inc Dynamic type semiconductor memory device
US7394709B2 (en) 2004-06-10 2008-07-01 Fujitsu Limited Memory device
JP2006286171A (en) * 2005-04-01 2006-10-19 Hynix Semiconductor Inc Pre-charge voltage supply circuit of semiconductor device
KR100842696B1 (en) 2005-07-11 2008-07-01 엘피다 메모리 가부시키가이샤 Current limit circuit and semiconductor memory device
JP2007257768A (en) * 2006-03-24 2007-10-04 Nec Electronics Corp Semiconductor memory device
US7606094B2 (en) 2006-07-24 2009-10-20 Elpida Memory, Inc. Semiconductor memory device and control method thereof
JP2009070558A (en) * 2008-11-25 2009-04-02 Elpida Memory Inc Dynamic type semiconductor memory device

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