JPH04351885A - 多色表示ｅｌディスプレイの製造方法 - Google Patents
多色表示ｅｌディスプレイの製造方法Info
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- JPH04351885A JPH04351885A JP3152235A JP15223591A JPH04351885A JP H04351885 A JPH04351885 A JP H04351885A JP 3152235 A JP3152235 A JP 3152235A JP 15223591 A JP15223591 A JP 15223591A JP H04351885 A JPH04351885 A JP H04351885A
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Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２種以上の異なる発光
色を有する薄膜エレクトロルミネッセンス（以下ＥＬと
いう）素子が平面的に配列され、多色表示が得られるＥ
Ｌディスプレイの製造方法に係り、特に発光層の輝度に
むらがなく、発光素子の信頼性の高い多色表示ＥＬディ
スプレイの製造方法に関する。
色を有する薄膜エレクトロルミネッセンス（以下ＥＬと
いう）素子が平面的に配列され、多色表示が得られるＥ
Ｌディスプレイの製造方法に係り、特に発光層の輝度に
むらがなく、発光素子の信頼性の高い多色表示ＥＬディ
スプレイの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、多色表示ＥＬディスプレイと
して発光色の異なる発光素子を平面上に配列したものが
知られており、例えば、図４に示すものがある。これは
、二種類の発光色の異なるＥＬ発光素子を用いたもので
あり、（ａ）図は概略平面図、（ｂ）図は（ａ）図中に
示すＡーＡ線での概略断面図である。透明基板６１上に
複数の帯状の透明電極６２が平行に配列され、その上に
下部絶縁層６３（図４（ａ）においては図示せず）、発
光層６４、６５が形成されている。発光層は二種類の発
光層が帯状をなし、平面的に交互に配列され、それぞれ
の中心が帯状の透明電極６２上となるように設けられて
いる。発光層６４、６５の上面には上部絶縁層６６（図
４（ａ）においては図示せず）が一様に積層され、上部
絶縁層６６の上には複数の帯状の背面電極６７が積層さ
れている。この帯状の背面電極６７は、透明電極６２の
方向と直角となる方向に配列され、マトリックス構造と
なっている。
して発光色の異なる発光素子を平面上に配列したものが
知られており、例えば、図４に示すものがある。これは
、二種類の発光色の異なるＥＬ発光素子を用いたもので
あり、（ａ）図は概略平面図、（ｂ）図は（ａ）図中に
示すＡーＡ線での概略断面図である。透明基板６１上に
複数の帯状の透明電極６２が平行に配列され、その上に
下部絶縁層６３（図４（ａ）においては図示せず）、発
光層６４、６５が形成されている。発光層は二種類の発
光層が帯状をなし、平面的に交互に配列され、それぞれ
の中心が帯状の透明電極６２上となるように設けられて
いる。発光層６４、６５の上面には上部絶縁層６６（図
４（ａ）においては図示せず）が一様に積層され、上部
絶縁層６６の上には複数の帯状の背面電極６７が積層さ
れている。この帯状の背面電極６７は、透明電極６２の
方向と直角となる方向に配列され、マトリックス構造と
なっている。
【０００３】このような多色表示ＥＬディスプレイにお
いて透明電極６２と背面電極６７とから選択的に電圧を
印加すると電圧を印加した電極マトリックスの交点部分
の発光層が発光する。
いて透明電極６２と背面電極６７とから選択的に電圧を
印加すると電圧を印加した電極マトリックスの交点部分
の発光層が発光する。
【０００４】上記例は二種類の発光色の異なるＥＬ発光
素子を用いたものであるが、赤色発光素子（例えば発光
層を、母体材料であるＣａＳ中に発光中心物質としてＥ
ｕを添加した材料［ＣａＳ：Ｅｕ］としたもの）、青色
発光素子（例えば発光層をＳｒＳ：Ｃｅとしたもの）、
緑色発光素子、（例えば発光層をＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆとし
たもの）の三色のＥＬ発光素子を平面的に配列し、フル
カラーディスプレイとしたものも知られている。
素子を用いたものであるが、赤色発光素子（例えば発光
層を、母体材料であるＣａＳ中に発光中心物質としてＥ
ｕを添加した材料［ＣａＳ：Ｅｕ］としたもの）、青色
発光素子（例えば発光層をＳｒＳ：Ｃｅとしたもの）、
緑色発光素子、（例えば発光層をＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆとし
たもの）の三色のＥＬ発光素子を平面的に配列し、フル
カラーディスプレイとしたものも知られている。
【０００５】図５は上記のような２種類の発行色の異な
るＥＬ発光素子を有する多色表示ＥＬディスプレイの従
来から知られている製造方法を示す説明図であり、この
製造方法は次のような工程による。 ■図５（ａ）に示すように透明基板６１上に透明電極６
２を形成し、その上から下部絶縁層６３を着膜する。 ■下部絶縁層６３の上には一の種類の発光層１６５を一
様に着膜する（図５、（ｂ））。 ■一の種類の発光層上に、当該発光層が形成する素子の
形状および寸法に対応したレジスト６８を形成する（図
５、（ｃ））。 ■上記レジストをマスクとして上記一の種類の発光層１
６５をエッチングにより除去し、素子部分の発光層６５
を形成する（図５、（ｄ））。 ■上記レジスト６８上を含む基板上に他の種類の発光層
１６４を着膜する（図５、（ｅ））。 ■レジスト６８およびこの上に着膜された発光層１６４
を除去し、素子部分の発光層６４を形成する（図５、（
ｆ））。 ■二種類の発光層が平面的に配列された層の上に上部絶
縁層６６を着膜し、その上に背面電極６７を形成して完
成する。
るＥＬ発光素子を有する多色表示ＥＬディスプレイの従
来から知られている製造方法を示す説明図であり、この
製造方法は次のような工程による。 ■図５（ａ）に示すように透明基板６１上に透明電極６
２を形成し、その上から下部絶縁層６３を着膜する。 ■下部絶縁層６３の上には一の種類の発光層１６５を一
様に着膜する（図５、（ｂ））。 ■一の種類の発光層上に、当該発光層が形成する素子の
形状および寸法に対応したレジスト６８を形成する（図
５、（ｃ））。 ■上記レジストをマスクとして上記一の種類の発光層１
６５をエッチングにより除去し、素子部分の発光層６５
を形成する（図５、（ｄ））。 ■上記レジスト６８上を含む基板上に他の種類の発光層
１６４を着膜する（図５、（ｅ））。 ■レジスト６８およびこの上に着膜された発光層１６４
を除去し、素子部分の発光層６４を形成する（図５、（
ｆ））。 ■二種類の発光層が平面的に配列された層の上に上部絶
縁層６６を着膜し、その上に背面電極６７を形成して完
成する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような多色表示ＥＬディスプレイの製造方法では、図５
（ｃ）に示すように一の種類の発光層１６５を着膜後、
この上にレジスト６８を形成し、このレジスト６８は図
５（ｆ）に示すように、他の種類の発光層１６４を形成
した後に剥離して除去している。このような工程では発
光層６５上に直接レジストを塗布し、剥離するために発
光層６５の上面が汚染され、これによって発光時の輝度
にむらが生じたり、発光素子の信頼性が低下するという
問題点がある。
ような多色表示ＥＬディスプレイの製造方法では、図５
（ｃ）に示すように一の種類の発光層１６５を着膜後、
この上にレジスト６８を形成し、このレジスト６８は図
５（ｆ）に示すように、他の種類の発光層１６４を形成
した後に剥離して除去している。このような工程では発
光層６５上に直接レジストを塗布し、剥離するために発
光層６５の上面が汚染され、これによって発光時の輝度
にむらが生じたり、発光素子の信頼性が低下するという
問題点がある。
【０００７】また、図５（ｅ）に示すように一の種類の
発光層をエッチングした後、レジストの上から他の発光
層を着膜するため、後から着膜する他の発光層が着膜時
にレジストの耐熱温度よりも高温を必要とする材料では
高温によってレジストが損なわれ、レジストの機能が失
われてしまう。このため、着膜温度が高温となる発光層
を二種以上使用できないという問題もある。
発光層をエッチングした後、レジストの上から他の発光
層を着膜するため、後から着膜する他の発光層が着膜時
にレジストの耐熱温度よりも高温を必要とする材料では
高温によってレジストが損なわれ、レジストの機能が失
われてしまう。このため、着膜温度が高温となる発光層
を二種以上使用できないという問題もある。
【０００８】本発明は上記の問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は高画質が得られ、信頼性の高い多
色表示ＥＬディスプレイが得られるとともに、着膜温度
が高温となる発光層を二種以上使用することもできる多
色表示ＥＬディスプレイの製造方法を提供することであ
る。
のであり、その目的は高画質が得られ、信頼性の高い多
色表示ＥＬディスプレイが得られるとともに、着膜温度
が高温となる発光層を二種以上使用することもできる多
色表示ＥＬディスプレイの製造方法を提供することであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、本発明は、絶縁基板上に、２種以上の発光色の異なる
二重絶縁構造薄膜ＥＬ素子を、平面的に配列した多色表
示ＥＬディスプレイの製造方法において、一の種類の発
光層とその上に形成する絶縁層とを着膜し、当該発光層
の素子以外の部分の前記発光層と絶縁層とをともにエッ
チングによって除去して発光層と絶縁層との素子部分積
層体を形成し、この工程を発光層の種類数回繰り返した
後、素子部分積層体間を絶縁物質で埋める工程を含むも
のとする。
、本発明は、絶縁基板上に、２種以上の発光色の異なる
二重絶縁構造薄膜ＥＬ素子を、平面的に配列した多色表
示ＥＬディスプレイの製造方法において、一の種類の発
光層とその上に形成する絶縁層とを着膜し、当該発光層
の素子以外の部分の前記発光層と絶縁層とをともにエッ
チングによって除去して発光層と絶縁層との素子部分積
層体を形成し、この工程を発光層の種類数回繰り返した
後、素子部分積層体間を絶縁物質で埋める工程を含むも
のとする。
【００１０】
【作用】このような構成の多色表示ＥＬディスプレイの
製造方法では、発光層とその上に形成する絶縁層とを着
膜した後、絶縁層の上にレジストを設けて、上記絶縁層
と前記発光層とを続けてエッチング除去することとして
いるので、レジストは直接発光層と接触することがない
。このため発光層には、レジストの塗布・剥離による汚
れが生じることがなく、発光時に汚れに起因する輝度の
むらが生じたり、汚れによってその後に着膜した絶縁層
が剥離したりすることがなくなる。したがって輝度むら
等のない高画質が得られ、信頼性の高い多色表示ＥＬデ
ィスプレイを製造することが可能となる。
製造方法では、発光層とその上に形成する絶縁層とを着
膜した後、絶縁層の上にレジストを設けて、上記絶縁層
と前記発光層とを続けてエッチング除去することとして
いるので、レジストは直接発光層と接触することがない
。このため発光層には、レジストの塗布・剥離による汚
れが生じることがなく、発光時に汚れに起因する輝度の
むらが生じたり、汚れによってその後に着膜した絶縁層
が剥離したりすることがなくなる。したがって輝度むら
等のない高画質が得られ、信頼性の高い多色表示ＥＬデ
ィスプレイを製造することが可能となる。
【００１１】また、一の種類の発光層とその上部に積層
する絶縁層からなる当該発光層の素子部分積層体を形成
した後、他の種類の発光層を高温で着膜する必要があっ
ても、着膜温度以下で形状等が損なわれるレジスト等を
既に除去しており、先に形成した素子部分積層体に影響
を与えることなく順次着膜することが可能となる。さら
に、発光色の異なる発光層のうえに積層する絶縁層をそ
れぞれ別個に形成しているので、これらの材料を発光層
の材料によって異なるものとすることができる。
する絶縁層からなる当該発光層の素子部分積層体を形成
した後、他の種類の発光層を高温で着膜する必要があっ
ても、着膜温度以下で形状等が損なわれるレジスト等を
既に除去しており、先に形成した素子部分積層体に影響
を与えることなく順次着膜することが可能となる。さら
に、発光色の異なる発光層のうえに積層する絶縁層をそ
れぞれ別個に形成しているので、これらの材料を発光層
の材料によって異なるものとすることができる。
【００１２】なお、一の種類の素子部分積層体を形成後
、他の種類の発光層とその上に着膜した絶縁層とをエッ
チングするときには、先に形成した素子部分積層体がレ
ジストで保護されていないが、絶縁層と発光層とで異な
るエッチャントを用いることになるので、絶縁層のエッ
チャントに対して後から着膜した発光層が先に形成した
素子部分積層体を覆って保護することになる。その後の
発光層をエッチングするときのエッチャントに対しては
、既に形成されている素子部分積層体の上層にある絶縁
層が耐性を有しており、これらの素子部分積層体を損な
うことなくエッチングが可能となる。
、他の種類の発光層とその上に着膜した絶縁層とをエッ
チングするときには、先に形成した素子部分積層体がレ
ジストで保護されていないが、絶縁層と発光層とで異な
るエッチャントを用いることになるので、絶縁層のエッ
チャントに対して後から着膜した発光層が先に形成した
素子部分積層体を覆って保護することになる。その後の
発光層をエッチングするときのエッチャントに対しては
、既に形成されている素子部分積層体の上層にある絶縁
層が耐性を有しており、これらの素子部分積層体を損な
うことなくエッチングが可能となる。
【００１３】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例について
説明する。図１は、本発明の一実施例であり、黄橙色発
光のＥＬ発光素子と緑色発光のＥＬ発光素子とを平面的
に配列した多色表示ＥＬディスプレイの製造方法を示す
説明図である。
説明する。図１は、本発明の一実施例であり、黄橙色発
光のＥＬ発光素子と緑色発光のＥＬ発光素子とを平面的
に配列した多色表示ＥＬディスプレイの製造方法を示す
説明図である。
【００１４】図１（ａ）に示すように、透明基板１の上
に、２０００Å程度の厚さのＩＴＯ（インジウム・ティ
ン・オキサイド）の層をＥＢ蒸着法またはスパッタリン
グ法等によって着膜し、フォトリソグラフィ法によって
複数の帯状の透明電極２を形成する。この上にＳｉＯ２
からなる下部絶縁層３をスパッタリング法またはプラ
ズマＣＶＤ法等により着膜する。下部絶縁層３の上には
、図１（ｂ）に示すようにＺｎＳ中に発光中心物質であ
るＭｎを添加した材料（ＺｎＳ：Ｍｎ）の層１０４をＥ
Ｂ蒸着法またはスパッタリング法等で５０００Åの厚さ
に着膜し、続いて上部絶縁層となる第１のＳｉＯ２ の
層１０５を着膜する。次に上部絶縁層となる第１のＳｉ
Ｏ２ 層１０５の上に、黄橙色発光素子の平面形状及び
寸法に対応したレジスト６を形成する（図１（ｃ））。 このレジスト６をマスクとして第２の絶縁層となるＳｉ
Ｏ２ 層１０５を、例えばバッフアードフッ酸（体積比
ＨＦ：ＮＨ４ Ｆ＝１：１０）によってエッチング除去
し、続いて例えば希塩酸（体積比ｃｏｎｃ． ＨＣｌ：
Ｈ２ Ｏ＝１：１）によって発光層であるＺｎＳ：Ｍｎ
層１０４をエッチングし、図１（ｄ）に示すような黄橙
色発光の素子部分積層体７を形成する。さらにこれらの
上から、緑色の発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの層１０
８を５０００Åの厚さで着膜し、続いて第２のＳｉＯ２
層１０９を着膜する（図１（ｅ））。以下黄橙色発光
の素子部分積層体を形成した方法と同様に緑色発光素子
を形成する部分に相当する位置にレジスト１０を設け（
図１（ｆ））、このレジスト１０をマスクとしてＳｉＯ
２ の層１０９と緑色発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの
層１０８をエッチング除去する（図１（ｇ））。
に、２０００Å程度の厚さのＩＴＯ（インジウム・ティ
ン・オキサイド）の層をＥＢ蒸着法またはスパッタリン
グ法等によって着膜し、フォトリソグラフィ法によって
複数の帯状の透明電極２を形成する。この上にＳｉＯ２
からなる下部絶縁層３をスパッタリング法またはプラ
ズマＣＶＤ法等により着膜する。下部絶縁層３の上には
、図１（ｂ）に示すようにＺｎＳ中に発光中心物質であ
るＭｎを添加した材料（ＺｎＳ：Ｍｎ）の層１０４をＥ
Ｂ蒸着法またはスパッタリング法等で５０００Åの厚さ
に着膜し、続いて上部絶縁層となる第１のＳｉＯ２ の
層１０５を着膜する。次に上部絶縁層となる第１のＳｉ
Ｏ２ 層１０５の上に、黄橙色発光素子の平面形状及び
寸法に対応したレジスト６を形成する（図１（ｃ））。 このレジスト６をマスクとして第２の絶縁層となるＳｉ
Ｏ２ 層１０５を、例えばバッフアードフッ酸（体積比
ＨＦ：ＮＨ４ Ｆ＝１：１０）によってエッチング除去
し、続いて例えば希塩酸（体積比ｃｏｎｃ． ＨＣｌ：
Ｈ２ Ｏ＝１：１）によって発光層であるＺｎＳ：Ｍｎ
層１０４をエッチングし、図１（ｄ）に示すような黄橙
色発光の素子部分積層体７を形成する。さらにこれらの
上から、緑色の発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの層１０
８を５０００Åの厚さで着膜し、続いて第２のＳｉＯ２
層１０９を着膜する（図１（ｅ））。以下黄橙色発光
の素子部分積層体を形成した方法と同様に緑色発光素子
を形成する部分に相当する位置にレジスト１０を設け（
図１（ｆ））、このレジスト１０をマスクとしてＳｉＯ
２ の層１０９と緑色発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの
層１０８をエッチング除去する（図１（ｇ））。
【００１５】第２のＳｉＯ２ 層を除去するエッチャン
トには第１のＳｉＯ２ 層と同様バッファードフッ酸等
が用いられるが、発光層材料であるＺｎＳは、このエッ
チャントに対しては耐性を有し、先に形成した黄橙色発
光の素子部分積層体７が緑色発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ
，Ｆ層１０８で覆われているので、これらをエッチング
することはない。さらに、第２のＳｉＯ２層１０９のエ
ッチング後、ＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの層１０８をエッチング
するエッチャントには希塩酸（体積比ｃｏｎｃ． ＨＣ
ｌ：Ｈ２ Ｏ＝１：１）等が用いられるが、すでに形成
されている黄橙色発光の素子部分積層体７の上面にはＳ
ｉＯ２ の層５が着膜されており、これが上記エッチャ
ントに耐性があるので、オーバーエッチングによって先
に形成した発光層４をエッチングすることはない。
トには第１のＳｉＯ２ 層と同様バッファードフッ酸等
が用いられるが、発光層材料であるＺｎＳは、このエッ
チャントに対しては耐性を有し、先に形成した黄橙色発
光の素子部分積層体７が緑色発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ
，Ｆ層１０８で覆われているので、これらをエッチング
することはない。さらに、第２のＳｉＯ２層１０９のエ
ッチング後、ＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの層１０８をエッチング
するエッチャントには希塩酸（体積比ｃｏｎｃ． ＨＣ
ｌ：Ｈ２ Ｏ＝１：１）等が用いられるが、すでに形成
されている黄橙色発光の素子部分積層体７の上面にはＳ
ｉＯ２ の層５が着膜されており、これが上記エッチャ
ントに耐性があるので、オーバーエッチングによって先
に形成した発光層４をエッチングすることはない。
【００１６】エッチングが終了するとレジスト１０を除
去し、さらに厚さ２０００ÅのＳｉＯ２ を全面に着膜
し、各素子部分積層体間に生じている凹部１２を埋める
とともに各素子部分積層体を覆って上部絶縁層１４を完
成する。上部絶縁層１４の上に、４０００Åの厚さのＡ
ｌ の層をＥＢ蒸着法またはスパッタリング法等によっ
て着膜し、パターニングして背面電極１３を形成する（
図１（ｈ））。
去し、さらに厚さ２０００ÅのＳｉＯ２ を全面に着膜
し、各素子部分積層体間に生じている凹部１２を埋める
とともに各素子部分積層体を覆って上部絶縁層１４を完
成する。上部絶縁層１４の上に、４０００Åの厚さのＡ
ｌ の層をＥＢ蒸着法またはスパッタリング法等によっ
て着膜し、パターニングして背面電極１３を形成する（
図１（ｈ））。
【００１７】このような多色表示ＥＬディスプレイの製
造方法では、発光層の上に直接レジストを形成すること
を必要とせず、レジストは直接発光層と接触することが
ない。このため発光層には、レジストの塗布・剥離によ
る汚れが生じることがなく、発光時に汚れに起因する輝
度のむらが生じたり、汚れによってその後に着膜した絶
縁層が剥離したりすることがなくなる。
造方法では、発光層の上に直接レジストを形成すること
を必要とせず、レジストは直接発光層と接触することが
ない。このため発光層には、レジストの塗布・剥離によ
る汚れが生じることがなく、発光時に汚れに起因する輝
度のむらが生じたり、汚れによってその後に着膜した絶
縁層が剥離したりすることがなくなる。
【００１８】上記実施例において、発光層の上に着膜す
る第２の絶縁層はＺｎＳ：Ｍｎからなる発光層の上にも
、ＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆからなる発光層の上にも同じＳｉＯ
２ の層を用いているが、異なる材料を用いることもで
き、図１（ｅ）に示すＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ層の上に着膜す
る絶縁層１０９としてＴａ２ Ｏ５ を用いることがで
きる。このように発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ層上に
はＳｉＯ２ に代えてＴａ２ Ｏ５ を用いると図２に
示すような多色表示ＥＬディスプレイが得られる。
る第２の絶縁層はＺｎＳ：Ｍｎからなる発光層の上にも
、ＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆからなる発光層の上にも同じＳｉＯ
２ の層を用いているが、異なる材料を用いることもで
き、図１（ｅ）に示すＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ層の上に着膜す
る絶縁層１０９としてＴａ２ Ｏ５ を用いることがで
きる。このように発光層となるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ層上に
はＳｉＯ２ に代えてＴａ２ Ｏ５ を用いると図２に
示すような多色表示ＥＬディスプレイが得られる。
【００１９】これは、ＺｎＳ：Ｍｎからなる発光層２４
の上部絶縁層２５はＳｉＯ２ からなっており、ＺｎＳ
：Ｔｂ，Ｆからなる発光層２８の上部絶縁層２９がＴａ
２ Ｏ５となっている。なお、素子間部分３１は適宜絶
縁材料で埋められている。このような、多色表示ＥＬデ
ィスプレイでは、透明電極２２と背面電極３０に印加す
る電圧がすべての素子について同じとしても、Ｔａ２
Ｏ５ の誘電率がＳｉＯ２ の誘電率よりも高いため、
発光層両面に印加される電圧を比較するとＺｎＳ：Ｔｂ
，Ｆからなる層２８に印加される電圧の方が大きくなる
。これによって同電圧を印加した場合にはＺｎＳ：Ｍｎ
よりも輝度が低いＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの発光輝度が上昇し
、双方の輝度がほぼ同じとなって、適切な中間色の表示
ができる多色表示ＥＬディスプレイが得られる。
の上部絶縁層２５はＳｉＯ２ からなっており、ＺｎＳ
：Ｔｂ，Ｆからなる発光層２８の上部絶縁層２９がＴａ
２ Ｏ５となっている。なお、素子間部分３１は適宜絶
縁材料で埋められている。このような、多色表示ＥＬデ
ィスプレイでは、透明電極２２と背面電極３０に印加す
る電圧がすべての素子について同じとしても、Ｔａ２
Ｏ５ の誘電率がＳｉＯ２ の誘電率よりも高いため、
発光層両面に印加される電圧を比較するとＺｎＳ：Ｔｂ
，Ｆからなる層２８に印加される電圧の方が大きくなる
。これによって同電圧を印加した場合にはＺｎＳ：Ｍｎ
よりも輝度が低いＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆの発光輝度が上昇し
、双方の輝度がほぼ同じとなって、適切な中間色の表示
ができる多色表示ＥＬディスプレイが得られる。
【００２０】図３は、本発明の他の実施例であり、発光
色がそれぞれ赤、青、緑の３種の発光素子を平面的に配
列したフルカラー表示ＥＬディスプレイの製造方法を示
す説明図である。図３（ａ）に示すように、ガラス基板
４１上にＩＴＯからなる透明電極４２と下部絶縁層４３
を形成する。続いて緑色発光を生じるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ
層１４４とその上にＳｉＯ２ 層１４５を着膜し、レジ
スト５０を用いて緑色発光素子部分以外のＳｉＯ２ 層
及びＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ層をエッチング除去する。さらに
レジスト５０を除去して緑色素子部分積層体５３を形成
する（図３（ｂ）、（ｃ））。
色がそれぞれ赤、青、緑の３種の発光素子を平面的に配
列したフルカラー表示ＥＬディスプレイの製造方法を示
す説明図である。図３（ａ）に示すように、ガラス基板
４１上にＩＴＯからなる透明電極４２と下部絶縁層４３
を形成する。続いて緑色発光を生じるＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ
層１４４とその上にＳｉＯ２ 層１４５を着膜し、レジ
スト５０を用いて緑色発光素子部分以外のＳｉＯ２ 層
及びＺｎＳ：Ｔｂ，Ｆ層をエッチング除去する。さらに
レジスト５０を除去して緑色素子部分積層体５３を形成
する（図３（ｂ）、（ｃ））。
【００２１】次に、素子形成範囲全面に、赤色発光を生
じる発光層となる、ＣａＳ中に発光中心物質Ｅｕ，Ｆを
添加した材料からなる層１４６とＳｉＯ２層１４７とを
続けて着膜し、ＳｉＯ２ 層１４７の上にレジスト５１
を形成する（図３（ｄ））。赤色発光素子部分以外のＳ
ｉＯ２ 層及びＣａＳ：Ｅｕ，Ｆ層をエッチング除去し
、さらにレジスト５１を除去して赤色素子部分積層体５
４を形成する（図３（ｅ））。
じる発光層となる、ＣａＳ中に発光中心物質Ｅｕ，Ｆを
添加した材料からなる層１４６とＳｉＯ２層１４７とを
続けて着膜し、ＳｉＯ２ 層１４７の上にレジスト５１
を形成する（図３（ｄ））。赤色発光素子部分以外のＳ
ｉＯ２ 層及びＣａＳ：Ｅｕ，Ｆ層をエッチング除去し
、さらにレジスト５１を除去して赤色素子部分積層体５
４を形成する（図３（ｅ））。
【００２２】同様に、青色発光を生じる発光層となる、
ＳｒＳ中に発光中心物質Ｃｅ，Ｆを添加した材料からな
る層１４８とＳｉＯ２ 層１４９とを続けて着膜し、Ｓ
ｉＯ２層１４９の上にレジスト５２を形成する（図３（
ｆ））。青色発光素子部分以外のＳｉＯ２ 層及びＳｒ
Ｓ：Ｃｅ，Ｆ層をエッチング除去し、さらにレジスト５
２を除去して青色素子部分積層体５５を形成する（図３
（ｇ））。さらに素子形成範囲全面にＳｉＯ２ を着膜
して素子間に生じている凹部５７を埋め上部絶縁層を形
成する。その上にＡｌを着膜し、パターンニングを行っ
て背面電極５６を形成する。
ＳｒＳ中に発光中心物質Ｃｅ，Ｆを添加した材料からな
る層１４８とＳｉＯ２ 層１４９とを続けて着膜し、Ｓ
ｉＯ２層１４９の上にレジスト５２を形成する（図３（
ｆ））。青色発光素子部分以外のＳｉＯ２ 層及びＳｒ
Ｓ：Ｃｅ，Ｆ層をエッチング除去し、さらにレジスト５
２を除去して青色素子部分積層体５５を形成する（図３
（ｇ））。さらに素子形成範囲全面にＳｉＯ２ を着膜
して素子間に生じている凹部５７を埋め上部絶縁層を形
成する。その上にＡｌを着膜し、パターンニングを行っ
て背面電極５６を形成する。
【００２３】上記の工程によって発光層の汚れを生じる
ことなく高画質で信頼性の高いフルカラーＥＬディスプ
レイが得られる。またこのようなフルカラーＥＬディス
プレイの製造方法では、ＣａＳ：Ｅｕ，Ｆ層の着膜時お
よびＳｒＳ：Ｃｅ層の着膜時に３５０℃〜４５０℃程度
の高温にすることが必要となり、一般的なレジストは約
２５０℃で形状が損なわれるが、上記発光層着膜時には
レジストを用いていないので先に形成した素子部分積層
体に影響を与えることなく順次着膜することが可能とな
る。
ことなく高画質で信頼性の高いフルカラーＥＬディスプ
レイが得られる。またこのようなフルカラーＥＬディス
プレイの製造方法では、ＣａＳ：Ｅｕ，Ｆ層の着膜時お
よびＳｒＳ：Ｃｅ層の着膜時に３５０℃〜４５０℃程度
の高温にすることが必要となり、一般的なレジストは約
２５０℃で形状が損なわれるが、上記発光層着膜時には
レジストを用いていないので先に形成した素子部分積層
体に影響を与えることなく順次着膜することが可能とな
る。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の多色表示
ＥＬディスプレイの製造方法では、発光層とその上に形
成する絶縁層とを着膜した後、絶縁層の上にレジストを
設けて、上記絶縁層と前記発光層とを続けてエッチング
除去することとしているので、レジストは直接発光層と
接触することがなく、発光層を汚染して発光時に輝度の
むらが生じたり、着膜した絶縁層が剥離したりすること
がなくなり、高画質が得られ、信頼性の高い多色表示Ｅ
Ｌディスプレイを製造することが可能となる。また、一
の種類の発光層とその上部に積層する絶縁層からなる当
該発光層の素子部分積層体を形成した後、他の種類の発
光層を着膜するとき、発光層の着膜温度以下で形状等が
損なわれるレジスト等を既に除去しており、先に形成し
た素子部分積層体に影響を与えることなく順次着膜する
ことが可能となる。さらに、発光色の異なる発光層のう
えに積層する絶縁層をそれぞれ別個に形成しているので
、これらの材料を発光層の材料によって異なるものとす
ることができる。
ＥＬディスプレイの製造方法では、発光層とその上に形
成する絶縁層とを着膜した後、絶縁層の上にレジストを
設けて、上記絶縁層と前記発光層とを続けてエッチング
除去することとしているので、レジストは直接発光層と
接触することがなく、発光層を汚染して発光時に輝度の
むらが生じたり、着膜した絶縁層が剥離したりすること
がなくなり、高画質が得られ、信頼性の高い多色表示Ｅ
Ｌディスプレイを製造することが可能となる。また、一
の種類の発光層とその上部に積層する絶縁層からなる当
該発光層の素子部分積層体を形成した後、他の種類の発
光層を着膜するとき、発光層の着膜温度以下で形状等が
損なわれるレジスト等を既に除去しており、先に形成し
た素子部分積層体に影響を与えることなく順次着膜する
ことが可能となる。さらに、発光色の異なる発光層のう
えに積層する絶縁層をそれぞれ別個に形成しているので
、これらの材料を発光層の材料によって異なるものとす
ることができる。
【図１】本発明の第１の実施例である多色表示ＥＬディ
スプレイの製造方法の概略を示す説明図である。
スプレイの製造方法の概略を示す説明図である。
【図２】上記第１の実施例を一部変更した第２の実施例
によって製造される多色表示ＥＬディスプレイの構成を
示す説明図である。
によって製造される多色表示ＥＬディスプレイの構成を
示す説明図である。
【図３】本発明の第３の実施例である多色表示ＥＬディ
スプレイの製造方法の概略を示す説明図である。
スプレイの製造方法の概略を示す説明図である。
【図４】従来の多色表示ＥＬディスプレイの構成を示す
説明図である。
説明図である。
【図５】従来の多色表示ＥＬディスプレイの製造方法の
概略を示す説明図である。
概略を示す説明図である。
【符合の説明】１ 透明基板
２ 透明電極
３ 下部絶縁層
４ 黄橙色発光層
５ 上部絶縁層
６ レジスト
７ 素子部分積層体
８ 緑色発光層
９ 上部積層体
１１ 素子部分積層体
４１ 透明基板
４２ 透明電極
５０、５１、５２ レジスト
５３ 緑色発光素子積層体
５４ 赤色発光素子積層体
５５ 青色発光素子積層体
５６ 背面電極
Claims (1)
- 【請求項１】 絶縁基板上に、２種以上の発光色
の異なる二重絶縁構造薄膜ＥＬ素子を、平面的に配列し
た多色表示ＥＬディスプレイの製造方法において、一の
種類の発光層とその上に形成する絶縁層とを着膜し、当
該発光層の素子以外の部分の前記発光層と絶縁層とをと
もにエッチングによって除去して発光層と絶縁層との素
子部分積層体を形成し、この工程を発光層の種類数回繰
り返した後、素子部分積層体間を絶縁物質で埋める工程
を含むことを特徴とする多色表示ＥＬディスプレイの製
造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3152235A JPH04351885A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 多色表示ｅｌディスプレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3152235A JPH04351885A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 多色表示ｅｌディスプレイの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04351885A true JPH04351885A (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=15536043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3152235A Withdrawn JPH04351885A (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 多色表示ｅｌディスプレイの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04351885A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5989785A (en) * | 1994-12-22 | 1999-11-23 | Nippondenso Co., Ltd. | Process for fabricating an electroluminescent device |
-
1991
- 1991-05-29 JP JP3152235A patent/JPH04351885A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5989785A (en) * | 1994-12-22 | 1999-11-23 | Nippondenso Co., Ltd. | Process for fabricating an electroluminescent device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |