JPH04350913A - 積層型インダクタの製造方法 - Google Patents
積層型インダクタの製造方法Info
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- JPH04350913A JPH04350913A JP3150860A JP15086091A JPH04350913A JP H04350913 A JPH04350913 A JP H04350913A JP 3150860 A JP3150860 A JP 3150860A JP 15086091 A JP15086091 A JP 15086091A JP H04350913 A JPH04350913 A JP H04350913A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/16—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates the magnetic material being applied in the form of particles, e.g. by serigraphy, to form thick magnetic films or precursors therefor
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- Soft Magnetic Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁性体層を介して導電体
を重畳した積層型インダクタの製造方法に関する。
を重畳した積層型インダクタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の積層型インダクタは、磁性体と、
この磁性体を介して重畳されている導電体とを有してい
る。この積層型インダクタの製造方法は、フェライト粉
末とメチルセルロース、プチラール樹脂などのバインダ
ー及び溶剤とを混練したペーストを印刷法により積層す
る。導電体は金属粉末とバインダーから成るペーストを
印刷することにより形成する。その積層体を焼成炉に入
れて磁性体の所要焼成温度及び時間で処理して焼成体を
得る。この焼成体は焼結により積層型インダクタとなる
ものである。
この磁性体を介して重畳されている導電体とを有してい
る。この積層型インダクタの製造方法は、フェライト粉
末とメチルセルロース、プチラール樹脂などのバインダ
ー及び溶剤とを混練したペーストを印刷法により積層す
る。導電体は金属粉末とバインダーから成るペーストを
印刷することにより形成する。その積層体を焼成炉に入
れて磁性体の所要焼成温度及び時間で処理して焼成体を
得る。この焼成体は焼結により積層型インダクタとなる
ものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述の条件で得られた
焼成体の焼成温度は、１０００℃以上であり、焼成によ
って磁性体の結晶粒が粒成長しする。すなわち、平均結
晶粒が１０μｍ以上に粗大化してしまうためにインダク
タとしての電磁気特性を鑑みると透磁率μは良好である
ものの電気抵抗ρが減少するという傾向があり好ましく
ない。
焼成体の焼成温度は、１０００℃以上であり、焼成によ
って磁性体の結晶粒が粒成長しする。すなわち、平均結
晶粒が１０μｍ以上に粗大化してしまうためにインダク
タとしての電磁気特性を鑑みると透磁率μは良好である
ものの電気抵抗ρが減少するという傾向があり好ましく
ない。
【０００４】そこで、一般に電気抵抗ρを増加させるた
めには、結晶粒を微小化することが周知である。すなわ
ち、結晶粒の粗大化を抑制するために焼成温度を１００
０℃以下と低くした場合には磁性層の磁性体（フェライ
ト）自体が十分に焼結せず密度不足により完全な焼成体
を得ることができず機械的強度が十分に出せないという
欠点がある。このため、焼成する工程において、結晶粒
の成長を抑制しながら緻密化を図ることができる一つの
手段として熱間加圧成形を行ったところ電気抵抗ρの改
善が図られた。しかしながら、この熱間加圧成形により
結晶粒の粒内に機械的な歪が蓄積し、これによって、粒
内に内部応力が生じることから透磁率μが問題となるも
のであった。
めには、結晶粒を微小化することが周知である。すなわ
ち、結晶粒の粗大化を抑制するために焼成温度を１００
０℃以下と低くした場合には磁性層の磁性体（フェライ
ト）自体が十分に焼結せず密度不足により完全な焼成体
を得ることができず機械的強度が十分に出せないという
欠点がある。このため、焼成する工程において、結晶粒
の成長を抑制しながら緻密化を図ることができる一つの
手段として熱間加圧成形を行ったところ電気抵抗ρの改
善が図られた。しかしながら、この熱間加圧成形により
結晶粒の粒内に機械的な歪が蓄積し、これによって、粒
内に内部応力が生じることから透磁率μが問題となるも
のであった。
【０００５】それ故に、本発明の課題は、熱間加圧成形
後に熱処理を行うことにより従来の焼成体の透磁率μよ
りも優れた透磁率μを有する焼成体を得ることができ、
小体積で大きなインダクタンス値を有する積層型インダ
クタの製造方法を提供することにある。
後に熱処理を行うことにより従来の焼成体の透磁率μよ
りも優れた透磁率μを有する焼成体を得ることができ、
小体積で大きなインダクタンス値を有する積層型インダ
クタの製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、強磁性
体よりなる磁性体層を介して導電体が積層方向に重畳す
るように形成した積層体を熱間加圧成形により焼成して
焼成体を得た後に、該焼結体をさらに熱処理を行うこと
により積層型インダクタを得る積層型インダクタの製造
方法が得られる。
体よりなる磁性体層を介して導電体が積層方向に重畳す
るように形成した積層体を熱間加圧成形により焼成して
焼成体を得た後に、該焼結体をさらに熱処理を行うこと
により積層型インダクタを得る積層型インダクタの製造
方法が得られる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の積層型インダクタの製造方法
について説明をする。積層型インダクタは、強磁性体よ
りなる磁性体として酸化鉄主体のフェライト磁性体と、
この磁性体を介して重畳されている導電体とを有してい
る。この積層型インダクタの製造方法は、図１に示すよ
うに、フェライト粉末１とメチルセルロース、プチラー
ル樹脂などの適宜のバインダー及び溶剤とを混練してペ
ースト２を作り、このペースト２を印刷法により積層す
る。導電体はＡｇ−Ｐｄ（７５：２５の合金）、Ａｇそ
の他の金属粉末３とバインダーとから成るペースト４を
印刷することにより形成する。このように各ペースト２
，４によって作られた積層体５を熱間加圧成形６により
処理すると焼結体７が得られる。この焼結体７は、結晶
粒の成長を抑制しながら緻密化を図ることができ、電気
抵抗ρの改善が図れる。
について説明をする。積層型インダクタは、強磁性体よ
りなる磁性体として酸化鉄主体のフェライト磁性体と、
この磁性体を介して重畳されている導電体とを有してい
る。この積層型インダクタの製造方法は、図１に示すよ
うに、フェライト粉末１とメチルセルロース、プチラー
ル樹脂などの適宜のバインダー及び溶剤とを混練してペ
ースト２を作り、このペースト２を印刷法により積層す
る。導電体はＡｇ−Ｐｄ（７５：２５の合金）、Ａｇそ
の他の金属粉末３とバインダーとから成るペースト４を
印刷することにより形成する。このように各ペースト２
，４によって作られた積層体５を熱間加圧成形６により
処理すると焼結体７が得られる。この焼結体７は、結晶
粒の成長を抑制しながら緻密化を図ることができ、電気
抵抗ρの改善が図れる。
【０００８】しかし、この熱間加圧成形６により結晶粒
の粒内に機械的な歪が蓄積し、これによって、粒内に内
部応力が生じることから透磁率μが問題となる。したが
って、さらに、焼結体は７には、さらに熱処理８が行な
われる。この熱処理工程においては、磁性体層の結晶粒
内に熱間加圧成形により発生した機械的な歪を除去する
役目を果たす。この結果、電磁気特性（透磁率μ＞７０
０、電気抵抗ρ＞１０８ Ωｃｍ）値が得られる。
の粒内に機械的な歪が蓄積し、これによって、粒内に内
部応力が生じることから透磁率μが問題となる。したが
って、さらに、焼結体は７には、さらに熱処理８が行な
われる。この熱処理工程においては、磁性体層の結晶粒
内に熱間加圧成形により発生した機械的な歪を除去する
役目を果たす。この結果、電磁気特性（透磁率μ＞７０
０、電気抵抗ρ＞１０８ Ωｃｍ）値が得られる。
【０００９】ここで、熱処理８の工程における熱処理温
度は、６００℃以下では結晶粒内に蓄積している機械的
な歪を完全に除去することは困難であるため、６００℃
〜９００℃が望ましい。逆に、１０００℃以上では焼成
体中に存在する導電体（Ａｇ：Ｐｄ合金）が溶解してし
まい特性劣化を起こす。さらに、結晶粒の粒成長の促進
や結晶粒径の不均一化、もしくは焼成体の形状が変化す
るという不具合が起こる恐れがある。
度は、６００℃以下では結晶粒内に蓄積している機械的
な歪を完全に除去することは困難であるため、６００℃
〜９００℃が望ましい。逆に、１０００℃以上では焼成
体中に存在する導電体（Ａｇ：Ｐｄ合金）が溶解してし
まい特性劣化を起こす。さらに、結晶粒の粒成長の促進
や結晶粒径の不均一化、もしくは焼成体の形状が変化す
るという不具合が起こる恐れがある。
【００１０】以下に、本発明の積層型インダクタの製造
方法の一実施例を、図１を参照して、具体的に述べる。 磁性層のＮｉ−Ｚｎフェライト粉末１と導電体のＡｇ−
Ｐｄ合金のペースト状の金属粉末３を印刷し積層した複
数個の積層体５を８００℃で５分間 １．５ｔｏｎ／
ｃｍ２ の成形圧力で熱間加圧処理６をした。この熱間
加圧処理６により得られた焼成体を５００℃〜１１００
℃の温度で各々１時間ずつ熱処理８をして積層型インダ
クタ９を得た。インダクタ９における磁性層の平均結晶
粒径、密度、電磁気特性（透磁率μ、電気抵抗ρ）を表
１に示す。
方法の一実施例を、図１を参照して、具体的に述べる。 磁性層のＮｉ−Ｚｎフェライト粉末１と導電体のＡｇ−
Ｐｄ合金のペースト状の金属粉末３を印刷し積層した複
数個の積層体５を８００℃で５分間 １．５ｔｏｎ／
ｃｍ２ の成形圧力で熱間加圧処理６をした。この熱間
加圧処理６により得られた焼成体を５００℃〜１１００
℃の温度で各々１時間ずつ熱処理８をして積層型インダ
クタ９を得た。インダクタ９における磁性層の平均結晶
粒径、密度、電磁気特性（透磁率μ、電気抵抗ρ）を表
１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１により、５００℃〜１１００℃で熱処
理８して得られたインダクタ９における磁性層の密度は
各々５．３ｇ ／ｃｍ３ と同程度であり、機械的強度
を十分に満たすことのできる密度が得られた。また、電
磁気特性において、透磁率μは６００℃〜１１００℃の
温度で熱処理８を行ったものは、従来のインダクタでの
透磁率（μ＜７００）よりも優れた透磁率（μ＞７００
）を有する焼成体であることがわかった。さらに、電気
抵抗ρにおいては、５００℃〜９００℃の温度で熱処理
８を行って得られたインダクタ９は、従来の焼成体と同
程度のρ＝１０８ Ωｃｍの値を有する焼成体であるこ
とがわかった。
理８して得られたインダクタ９における磁性層の密度は
各々５．３ｇ ／ｃｍ３ と同程度であり、機械的強度
を十分に満たすことのできる密度が得られた。また、電
磁気特性において、透磁率μは６００℃〜１１００℃の
温度で熱処理８を行ったものは、従来のインダクタでの
透磁率（μ＜７００）よりも優れた透磁率（μ＞７００
）を有する焼成体であることがわかった。さらに、電気
抵抗ρにおいては、５００℃〜９００℃の温度で熱処理
８を行って得られたインダクタ９は、従来の焼成体と同
程度のρ＝１０８ Ωｃｍの値を有する焼成体であるこ
とがわかった。
【００１３】このように、電磁気特性を表１鑑みると、
６００℃〜９００℃の温度で熱間加圧成形６をした後に
熱処理８を行うと、従来の成形圧力で熱間加圧処理（８
００℃、５分間１．５ｔｏｎ／ｃｍ３ ）をして得られ
たインダクタは、電磁気特性透磁率（μ＜７００、電気
抵抗ρ＝１０８ Ωｃｍ）であるのに対し、本発明のの
製造方法により得られたインダクタ９は熱間加圧成形６
を行った後に６００℃〜９００℃の温度で熱処理８を行
うことにより、従来よりも優れた特性（とくに透磁率μ
）を有する焼成体を得ることができた。
６００℃〜９００℃の温度で熱間加圧成形６をした後に
熱処理８を行うと、従来の成形圧力で熱間加圧処理（８
００℃、５分間１．５ｔｏｎ／ｃｍ３ ）をして得られ
たインダクタは、電磁気特性透磁率（μ＜７００、電気
抵抗ρ＝１０８ Ωｃｍ）であるのに対し、本発明のの
製造方法により得られたインダクタ９は熱間加圧成形６
を行った後に６００℃〜９００℃の温度で熱処理８を行
うことにより、従来よりも優れた特性（とくに透磁率μ
）を有する焼成体を得ることができた。
【００１４】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の積層型イ
ンダクタの製造方法によれば、熱間加圧成形により成形
体を焼成したときの結晶粒内に蓄積された機械的な歪を
除去するために熱処理を行うことにより電磁気特性に優
れた積層型のインダクタの製造が可能となり、小体積で
大きなインダクタンス値を有することのできるインダク
タを提供することができる。
ンダクタの製造方法によれば、熱間加圧成形により成形
体を焼成したときの結晶粒内に蓄積された機械的な歪を
除去するために熱処理を行うことにより電磁気特性に優
れた積層型のインダクタの製造が可能となり、小体積で
大きなインダクタンス値を有することのできるインダク
タを提供することができる。
【図１】本発明の積層型インダクタの製造方法の一実施
例を示す工程図である。
例を示す工程図である。
１ フェライト粉末
３ 金属粉末
４ ペースト
５ 積層体
６ 熱間加圧成形処理
７ 焼成体
８ 熱処理
９ インダクタ
Claims (1)
- 【請求項１】 強磁性体よりなる磁性体層を介して導
電体が積層方向に重畳するように形成した積層体を熱間
加圧成形により焼成して焼成体を得た後に、該焼結体を
さらに熱処理を行うことによりインダクタを得る積層型
インダクタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3150860A JPH04350913A (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | 積層型インダクタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3150860A JPH04350913A (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | 積層型インダクタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04350913A true JPH04350913A (ja) | 1992-12-04 |
Family
ID=15505963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3150860A Pending JPH04350913A (ja) | 1991-05-28 | 1991-05-28 | 積層型インダクタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04350913A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0936639A2 (en) * | 1998-02-10 | 1999-08-18 | Lucent Technologies Inc. | Process for forming device comprising metallized magnetic substrates |
-
1991
- 1991-05-28 JP JP3150860A patent/JPH04350913A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0936639A2 (en) * | 1998-02-10 | 1999-08-18 | Lucent Technologies Inc. | Process for forming device comprising metallized magnetic substrates |
| EP0936639A3 (en) * | 1998-02-10 | 1999-09-29 | Lucent Technologies Inc. | Process for forming device comprising metallized magnetic substrates |
| EP1017068A2 (en) * | 1998-02-10 | 2000-07-05 | Lucent Technologies Inc. | Process for forming device comprising metallized magnetic substrates |
| EP1017068A3 (en) * | 1998-02-10 | 2000-07-12 | Lucent Technologies Inc. | Process for forming device comprising metallized magnetic substrates |
| US6153078A (en) * | 1998-02-10 | 2000-11-28 | Lucent Technologies Inc. | Process for forming device comprising metallized magnetic substrates |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010207 |