JPH04342575A - ベンズアルデヒドアセタール誘導体とその製造法及びこれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

ベンズアルデヒドアセタール誘導体とその製造法及びこれを有効成分とする除草剤

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JPH04342575A
JPH04342575A JP3297000A JP29700091A JPH04342575A JP H04342575 A JPH04342575 A JP H04342575A JP 3297000 A JP3297000 A JP 3297000A JP 29700091 A JP29700091 A JP 29700091A JP H04342575 A JPH04342575 A JP H04342575A
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JP3297000A
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Tsutomu Ishii
勉 石井
Katsutoshi Ishikawa
勝敏 石川
Sunao Maeda
直 前田
Masatoshi Gohara
郷原 雅敏
Yasunaga Iwasaki
泰永 岩崎
Makoto Nishida
誠 西田
Sadafumi Eda
貞文 江田
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なベンズアルデヒド
アセタール誘導体、その製造法及びこれを有効成分とし
て含有する除草剤に関する。
【0002】
【従来の技術】2位にフェノキシ基を有するピリジン類
が除草活性を示すことは特開昭63−258467号、
特開昭63−115870号および特開昭62−174
059号に記載されている。
【0003】特開昭63−115870には2−(4,
6−ジメトキシピリジン−2−イルオキシ)−3−クロ
ロベンズアルデヒドジメチルアセタール及び2−(4,
6−ジメトキシピリジン−2−イルオキシ)−3,5−
ジクロロベンズアルデヒドジメチルアセタールが例示さ
れている。しかしながら、これらのジメチルアセタール
類は雑草に対する効果が不充分で作物に対する薬害も強
く実用的でない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明は優れた
除草効果を示すと共に、作物にも安全な化合物を提供す
ることを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、炭素数3〜8のアルキ
ル基をもつアセタール類が第一に大豆、綿、トウモロコ
シ等の作物に対する薬害が軽減され、第二に殺草力もジ
ョンソングラス、シャターケーン、ヒエ、メヒヒバ、チ
ガヤ及びアオビユを中心に特徴あるスペクトラムを示し
、かつ、難防除といわれるジョンソングラスのライゾー
ムよりの発生に優れた防除効果を有することを見い出し
本発明を完成させた。
【0006】すなわち、本発明のベンズアルデヒドアセ
タール誘導体は、一般式(I)(化6)
【0007】
【化6】 (式中、Rは炭素数3〜8の直鎖あるいは枝分かれのア
ルキル基を表わす)で表わされる。
【0008】即ち、ジメチル、ジエチルアセタール類で
は薬害が強く、かつ殺草効果も不充分であるが、炭素数
3〜8のアルキル基をもつアセタールは、薬害が軽減さ
れ実用上問題がない程度になり、充分な殺草力のある事
を見い出した。又、雑草に対する殺草力も特徴あるスペ
クトラムを示し、特にライゾーム発生のジョンソングラ
ス、シャターケーン、チガヤ等のイネ科雑草に対し、既
存薬剤より極めて優れた効果を示すようになった。
【0009】本発明の化合物は次の反応式(化7)に示
した方法によって製造することが出来る。
【0010】
【化7】 工程(b)及び(c)は同一の条件で行われる。すなわ
ち、一般式(II)で示される2−ヒドロキシベンズア
ルデヒド類と式(VI)で示される2−クロロ−4,6
−ジメトキシピリジンを不活性溶媒中、塩基の存在下に
50℃ないし溶媒の沸点の温度範囲で1〜10時間加熱
することにより製造することができる。
【0011】塩基としては、金属ナトリウム、金属カリ
ウム等のアルカリ金属類、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等の水酸化アルカリ金属類及び炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属類が挙げられる。
【0012】溶媒としては、ベンゼン、トルエン及びキ
シレン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン及びジグライム等のエーテル類、アセトン及び
メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリジノン
及びジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒類
、アセトニトリル及び水が挙げられる。
【0013】工程(a)及び(b)は特開昭58−13
534記載の方法及び一般にアルデヒド基をアセタール
基に変換する方法を適用することが出来る。これらにつ
いて具体的に説明する。
【0014】(1)酸触媒の存在下にアルコール類を反
応させる方法 酸の存在下に対応するアルコール類を反応させる。アル
コール類の量は化学量論から溶媒を兼ねて大過剰に使用
する範囲まで許容出来る。化学量論的に用いる場合は反
応に不活性な溶媒を用いることが出来る。溶媒としては
ベンゼン、トルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びジグライム等
のエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ジメチルピロリジノン及びジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒類及びアセトニトリルが挙
げられる。
【0015】酸としては塩酸及び硫酸等の鉱酸、及びメ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びp−トルエン
スルホン酸等の有機スルホン酸類が挙げられる。反応温
度は0℃から沸点まで可能であるが、20℃から沸点の
範囲で行うのが望ましい。反応時間は反応温度にもよる
が通常は1から10時間で終了する。
【0016】(2)オルトギ酸エステルを反応させる方
法 オルトギ酸エステル類を反応させることによっても容易
にアセタール類が得られる。オルトギ酸エステル類を溶
媒を兼ねて過剰に用いてもよいし、対応するアルコール
類を溶媒として使用することもできる。場合によっては
反応に不活性な他の溶媒を用いる事も出来る。塩化アン
モニウムの様な弱酸性物質を触媒として加えると反応が
順調に進行する場合が多い。反応温度は0℃から沸点の
間にあるが、50℃から沸点で行うのが望ましい。反応
は通常2から8時間で完結する。
【0017】一般式(I)で表わされる、本発明に係わ
るベンズアルデヒドアセタール誘導体を含有する除草剤
は、その作用特性としてほとんどの水田もしくは畑地で
問題となる有害雑草に対して極めて有効である。水田に
おいてはヒエ、サヤヌカグサ、ヨシなどのイネ科強害雑
草、カヤツリグサ、タマガヤツリ、ミズガヤツリ、ホタ
ルイ、シズイ、クログワイ、マツバイ、ヒデリコなどの
カヤツリグサ科強害雑草またはウリカワ、オモダカ、ヘ
ラオモダカなどのオモダカ科強害雑草、更には、コナギ
、キカシグサ、セリ等の広葉雑草に対して極めて有効で
ある。畑地においてはハコベ、シロザ、ナズナ、アオビ
ユ、アメリカツノクサネム、イチビ等の広葉雑草、ヒエ
、エノコログサ、メヒシバ、オヒシバ、スズメノカタビ
ラ、ノスズメのテッポウ、エンバク、カラスムギ、シバ
ムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギシバ、ハイコヌカグサ
、メリケンカルカヤ、セキヨウヌカボ、シングルグラス
、オオクサキビ、ジョンソングラス、シャッターケーン
、ウーリーカップグラス等のイネ科雑草およびコゴメカ
ヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、特にジヨンソングラス
、シャッターケーン、モガヤ等の多年生イネ科雑草に対
して極めて有効である。
【0018】式(I)で表わされる本発明に係わる除草
剤は、ともに後述の試験例に示すごとく、その作用部位
の一つと考えられるALS(アセトラクテートシンセー
ス)の酵素レベルの阻害活性試験に於いて、ノビエ、ジ
ョンソングラス、エノコログサ等の雑草に高い阻害活性
を示す。一方、エンドウ豆、綿、落花生等の広葉作物に
対し、阻害活性を示さない。このことは、本発明に係わ
る除草剤が、エンドウ豆、綿、落花生等に安全な高い選
択率を有することを示す。また、ポット試験に於いても
トウモロコシ、ダイズ、ワタ、テンサイ、落花生、ヒマ
ワリ、ナタネ、ジャガイモ、蔬菜類等の作物に対する薬
害は無いが、有っても極めて少ない。また処理法によっ
ては小麦、稲、大麦、サトウキビ等の狭葉作物にも薬害
を全く出さず使用できるが、れらの作物に限されるもの
ではない。
【0019】また、一般式(I)で表わされる本発明に
係わる除草剤は土壌処理、土壌混層処理、茎葉散布処理
、畝間処理などあらゆる処理法に於いて有効であり、施
用量としては、0.01〜10kg/haの広い範囲で
使用可能であるが、標準的には、0.1〜5kg/ha
の範囲で使用が好ましい。
【0020】本発明に係わる一般式(I)で表わされる
化合物は、処理する植物に対して原体をそのまま使用し
てよいが、一般には不活性な液体担体または固体担体と
混合し、通常用いられる製剤形態である粉剤、粒剤、水
和剤、乳剤、フロアブル剤等に調整して使用される。さ
らに製剤上必要ならば補助剤を添加することもできる。
【0021】担体としては、通常農園芸用薬剤に使用さ
れるものであるならば固体または液体のいずれでも使用
でき、特定のものに限定されるものではない。
【0022】例えば固体担体としてし、クレー、タルク
、ベントナイト、炭酸カルシウム、ケイソウ土、ホワイ
トカーボンの如き鉱物質粉末、大豆粉、デンプンの如き
植物性粉末、石油樹脂、ポリビニルアルコール、ポリア
ルキレングリコール等の如き高分子化合物、尿素、ワッ
クス類等が挙げられる。また液体担体としては、キシレ
ン、メチルナフタレン、アルキルベンゼン等の各種有機
溶剤類、植物オイル等各種オイル、水等が挙げられる。
【0023】補助剤としては、通常農園芸用薬剤に使用
される界面活性剤、結合剤(例えば、リグニンスルフォ
ン酸、アルギン酸、ポリビニルアルコール、アラビアガ
ム、CMCナトリウム等)、安定剤(例えば、酸化防止
用にフェノール系化合物、チオール系化合物又は高脂肪
酸エステル類等を用いたり、pH調整剤として燐酸塩を
用いたり、時に光安定剤も用いる)等を必要に応じて単
独または組合せて使用できる。さらに場合によっては防
菌防徽のために工業用殺菌剤、防菌防徽剤などを添加す
ることもできる。
【0024】界面活性剤の例としては、非ウオン性、陰
イオン性、陽イオン性及び両イオン性のものを適宜単独
または混合して使用できる。非イオン性としては、アル
キルフェノール、高級アルコール、アルキルナフトール
、高級脂肪酸、脂肪酸エステル等にエチレンオキシド(
例えば、X−77とか、ノイゲンEA80等の如きもの
)またはプロピレンオキシドを付加させたもの等が好ま
しい。陰イオン性のものとしては、アルキルフェノール
、アルキルナフトール、高級アルコール、高級脂肪酸、
脂肪酸エステル等をアルキルスルホン酸塩(例えばネオ
ペレックスの如きもの)、アルキル硫酸エステル塩、リ
ン酸エステル塩等としたものが好ましい。またリグニン
スルホン酸塩(例えばサンエキスの如きもの)等も好ま
しい例の一つである。
【0025】本発明に係わる除草剤における式(I)で
表わされる化合物の含有量は、製剤形態によって異なる
が、通常粉剤では0.05〜20重量%、水和剤では1
〜50重量%、粉剤では0.05〜15重量%、乳剤で
は1〜50重量%、フロアブル製剤では1〜50重量%
、ドライフロアブル製剤では1〜50重量%であり、好
ましくは、粉剤では0.5〜5重量%、水和剤では10
〜40重量%、粒剤では、0.5〜8重量%、乳剤では
5〜20重量%、フロアブル製剤では10〜30重量%
、ドライフロアブル製剤では10〜40重量%である。
【0026】補助剤の含有量は0〜80重量%であり、
担体の含有量は、100重量%から有効成分化合物及び
補助剤の含有量を差し引いた量である。
【0027】式(I)で表わされる本発明の除草剤は、
他の除草剤の一種または二種以上、あるいは殺菌剤、殺
虫剤、植物成長調節剤の如き農薬、肥料、土壌改良剤と
の混合使用が可能であることはもちろんのこと、これら
との混合製剤も可能であり、場合によっては相乗効果も
期待できる。
【0028】ここで言う他の除草剤とは、3,6−ジク
ロロ−2−メトキシベンゾイックアシッド(dicam
ba)、2,5−ジクロロ−3−アミノベンゾイックア
シッド(amiben)、4−クロロ−2,2−ジメチ
ルバレルアニリド(monalide)、3,4−ジク
ロロプロピオンアニリド(propanil)、3,4
−ジクロロ−2−メチルアクリルアニリド(dicry
l)、3,4−ジクロロシクロプロパンカルボキシアニ
リド(cypromid)、3,4−ジクロロ−2−メ
チル−ペンタンアニリド(karsil)、N,N−ジ
メチル−2,2−ジフェニルアセトアミド(diphe
namide)、N−ナフチルフタラミン酸(napt
alam)、N−(1,1−ジメチルベンジル)−2−
ブロモ−ターシャリーブチルアセトアミド(burom
obutide)、2−ベンゾチアゾール−2−イルオ
キシ−N−メチルアセトアニリド(mefenasat
e)、1,1−ジメチル−3−フェニルウレア(fen
uron)、3−(4−クロロフェニル)−1,1−ジ
メチルウレア(monuron)、3−(4−クロロフ
ェニル)−1−メトキシ−1−メチルウレア(mono
linuron)、1−(2−メチルシクロヘキシル)
−3−フェニルウレア(siduron)、1,1−ジ
メチル−3−(3−トリフルオロメチルフェニル)ウレ
ア(flumeturon)、3−(3,4−ジクロロ
フェニル)−1,1−ジメチルウレア(diuron)
、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1−メトキシ−
1−メチルウレア(linuron)、3−(3−クロ
ロ−4−メチルフェニル)−1,1−ジメチルウレア(
chlortoluron)、3−〔3−(N−タアシ
ャリ−ブチルカルバモイルオキシ)フェニル〕−1,1
−ジメチルウレア(karbutilate)、1−(
α,α−ジメチルベンジル)−3−(4−メチルフェニ
ル)ウレア(dymron)、3−(4−イソプロピル
フェニル)−1,1−ジメチルウレア(isoprot
uron)、3−(2−ベンゾチアゾリル)−1,3−
ジメチルウレア(methabenzthiazuro
n)、3−(2−ベンゾチアゾリル)−1−メチルウレ
ア(benzthiazuron)、3−(ヘキサハテ
ドロ−4,7−メタノインダン−5−イル)−1,1−
ジメチルウレア(noruron)、3−〔5−(1,
1−ジメチルエチル)−1,3,4−チアジアゾール−
2−イル〕−1,3−シメチルウレア(tebuthi
uron)、3−(5−タアシャリ−ブチルイソオキサ
ゾール−3−イル)−1,1−ジメチルウレア(iso
uon)、2−クロロ−4,6−ビス(エチルアミノ)
−  1,3,5−トリアジン(simazine)、
2−クロロ−4−エチルアミノ−6−イソプロピルアミ
ノ−1,3,5−トリアジン(atrazine)、2
−クロロ−4,6−ビス(イソプロピルアミノ)−1,
3,5−トリアジン(propazine)、2−(2
−クロロ−4−エチルアミノ−1,3,5−トリアジン
−6−イルアミノ)−2−メチルプロピオニトリル(c
yanazine)、2−メトクシ−4,6−ビス(イ
ソプロピルアミノ)−1,3,5−トリアジン(pro
meton)、2−メチルチオ−  4,6−ビス(エ
チルアミノ)−1,3,5−トリアジン(simetr
yne)、2−メチルチオ−4,6−ビス(イソプロピ
ルアミノ)−1,3,5−トリアジン(prometr
yne)、2−メチルチオ−4−メチラミノ−6−イソ
プロピルアミノ−1,3,5−トリアジン(ametr
yne)、2−メチルチオ−4−イソプロピルアミノ−
6−メチルアミノ−1,3,5−トリアジン(desm
etryne)、4−アミノ−6−タアシャリ−ブチル
−3−メチルチオ−1,2,4−トリアジン−6−(4
H)−オン(metribuzin)、3−シクロヘキ
シル−6−ジメチルアミノ−1−メチル−1,3,5−
トリアジン−2,4−(1H,3H)−ジオン(hex
azinone)、2−クロロ−N−イソプロピルアセ
トアニリド(propachlor)、N−メトキシメ
チル−2’,6’−ジエチル−2−クロロアセトアニリ
ド(Aalachlor)、2−クロロ−2’,6’−
ジエチル−N−(ブトキシメチル)アセトアニリド(b
utachlor)2−クロロ−2’−エチル−6’−
メチル−N−(2−メトキシ−1−メチルエチル)アセ
トアニリド(metolachlor)、N,N−ジア
リル−2−クロロアセトアミド(allidochlo
r)、2,6−ジニトロ−N,N−ジプロピル−4−ト
リフルオロメチルアニリン(triflualin)、
3,4−ジメチル−2,6−ジニトロ−N−1−エチル
プロピルアニリン(pendimethalin)、2
−クロロ−N−(4−メトキシ−6−メチル−  1,
3,5−トリアジン−2−イル−アミノカルボニル)ベ
ンゼンスルフォンアミド(chlorosulfuro
n)、メチル−2−〔3−(4−メトキシ−6−メチル
−1,3,5−トリアジン−2−イル)ウレイドスルフ
ォニル〕ベンゾエート(metsulfurone−m
ethyl)、メチル−2−〔3−(4,6−ジメチル
ピリミジン−2−イル)ウレイドスルフォニル〕ベンゾ
エート(sulfometuron−methyl)、
メチル−2−〔3−(4,6−ジメトキシリミジン−2
−イル)ウレイドスルフォニル〕ベンゾエート(ben
sulfuron)、エチル−2−〔3−(4−クロロ
−6−メトキシピリミジン−2−イル)ウレイドスルフ
ォニル〕ベンゾエート(chlorinuron)、3
−〔(4−メトキシ−6−メチル−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)ウレイドスルフォニル〕−2−チオフ
ェンカルボン酸(thiameturon)、2−(4
−イソプロピル−4−メチル−5−オキソ−2−イミダ
ゾリジノン−2−イル)ニコチン酸イソプロピルアミン
酸(imazapyr)、2−(4−イソプロピル−4
−メチル−5−オキソ−2−イミダゾリン−2−イル)
−3−キノリン酸(imazaquin)、2−(4−
イソプロピル−4−メチル−5−オキソ−2−イミダゾ
リン−2−イル)−5−エチル−3−ピリジンカルボン
酸(imazethapyr)、2−(4−イソプロピ
ル−4−メチル−5−オキソ−2−イミダゾリン−2−
イル)−3−(4)−安息香酸メチルエステル(ima
zamethabenzo)、3−イソプロピル−1H
−2,1,3−ベンゾチアジアジン−4(3H)−オン
−2,2−ジオキサイド(bentazon)、5−ブ
ロモ−3−sec−ブチル−6−メチルウラシル(br
omacil)、3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシベ
ンゾニトリル(bromoxynil)、4−ヒドロキ
シ−3,5−シヨードベンゾニトリル(ioxynil
)、N−(フォスフォノメチル)グリシン(glyph
osate)  であるが、勿論これらに限定されるも
のではない。
【0029】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明化合物の製造法を
具体的に説明する。
【0030】実施例1 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ
)ベンズアルデヒド−ジ−nブチルアセタールの合成(
化合物番号−3) 40mlのn−ブチルアルコール中に、1.5gの2−
(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ)ベ
ンズアルデヒドと0.03gの塩化アンモニウムを加え
、還流下に攪拌を行った。2時間後、反応を止め減圧下
に濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって精製した。n−ヘキサン−酢酸エチル(7/3)
で溶出させて、目的とする2−(4,6−ジメトキシピ
リミジン−2−イルオキシ)ベンズアルデヒド−n−ブ
チルアセタール1.6gを得た。(収率71.1%)上
記操作中の中間体2−(4,6−ジメトキシピリミジン
−2−イルオキシ)ベンズアルデヒドは、特開昭62−
174059号に準じて合成した。
【0031】実施例−2 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ
)ベンズアルデヒド−ジ−n−ヘキシルアセタールの合
成(化合物番号−5) 40mlのn−ヘキシルアルコール中に、1.5gの2
−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ)
ベンズアルデヒドと2.7gのオルトギ酸n−ヘキシル
と0.03gの塩化アンモニウムを加え、還流下に攪拌
を行った。2時間後反応を止め減圧下に濃縮し残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製した。 n−ヘキサン/酢酸エチル(7/3)で溶出させて、目
的とする2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
ルオキシ)ベンズアルデヒド−ジ−n−ヘキシルアセタ
ール1.7gを得た。(収率66%)
【0032】実施例−3 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ
)ベンズアルデヒド−ジ−n−オクチルアセタールの合
成(化合物−7) 40mlのn−オクタノールと15mlのベンゼンの混
合溶媒に1gのサリチルアルデヒドを加えシーラムキャ
ップ付ナスフラスコに入れ30分窒素置換を行った。次
に0.04gのジクロロトリス(トリフェニルホスフィ
ン)ルテニウムを加え100℃で20時間加熱反応を行
った。反応終了後、混合物を濾過し減圧下において濃縮
を行った。得られた0.9gの残渣を10mlのDMF
に溶解し、0.5gの2−クロロ−4,6−ジメトキシ
ピリミジンと0.2gの炭酸カリウムを加え110℃で
3時間加熱反応を行った。反応終了後混合物を  10
0mlの水に開け50mlの酢酸エチルで3回抽出を行
った。有機層を洗浄後、乾燥、減圧下で濃縮を行い残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製し
た。n−ヘキサン/酢酸エチル(7/3)で溶出させて
、目的とする2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2
−イルオキシ)ベンズアルデヒド−ジ−n−オクチルア
セタール0.7gを得た。(収率17%)
【0033】
参考例−1 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ
)ベンズアルデヒドジメチルアセタールの合成(比較化
合物−C) 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ
)ベンズアルデヒド52.6gオルトギ酸メチル42.
9g、塩化アンモニウム0.48g及びメタノール  
500mlの混合物を攪拌しながら還流点で5時間反応
を反応した。反応液を室温まで冷却した後、析出物を濾
過、濾液を減圧下に濃縮して残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製した。n−ヘキサン−酢酸エチ
ル(7/3)で溶出し、目的とする2−(2,6−ジメ
トキシピリミジン−2−イルオキシ)ベンズアルデヒド
ジメチルアセタール61.0gを得た。(収率98%) 油状 NMR (400MHz.CDCl3)δfrom T
MS3.26(6H,s)、3.79(6H,s)、5
.64(1H,s)、7.13(1H,d,J=8.1
Hz)、7.23〜7.21(1H,m)、7.34〜
7.38(1H,m)、7.64〜7.66(1H,d
d,J=8.1&1.5Hz)
【0034】参考例−2 2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イルオキシ
)ベンズアルデヒドジエチルアセタールの合成(比較化
合物−D) 参考例−1に準じて合成した。(収率90%)NMR 
(400MHz.CDCl3)δfrom TMS1.
11(6H,t,J=7.3Hz)、3.51(4H,
q,J=7.3Hz)、3.79(6H,s)、5.7
2(1H,s)、5.74(1H,s)、7.11(1
H,d,J=8.1Hz)、7.22〜7.26(1H
,m)、7.32〜7.36(1H,m)、7.67〜
7.69(1H,m)実施例1、2、3に準じて製造し
た化合物を第1表に示す。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
【表3】
【0038】製造例および試験例 次に本発明に係わる除草剤の製剤例及び除草活性試験例
を示す。 製剤例1(水和剤) 本発明化合物(1):20重量部、ネオペレックス(商
品名、花王製;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
):2重量部、ノイゲンEA80(商品名、三洋化製;
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル):1重量
部、ホワイトカーボン:5重量部および珪藻土72重量
部をよく粉砕混合して水和剤を得た。
【0039】製剤例2(水和剤) 本発明化合物(2):20重量部、アルキルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム:2重量部、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテル:1重量部及びジークライト:
77重量部をよく粉砕混合して水和剤を得た。
【0040】製剤例3(水和剤) 本発明化合物(3):50重量部、ホワイトカーボンア
:5重量部、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル硫酸アンモニウム塩:6重量部、リグニンスルホン
酸ナトリウム:2重量部及び珪藻土:37重量部をよく
Jat−O−マイザーを用いて粉砕混合して水和剤を得
た。
【0041】製剤例4(フロアブル剤)本発明化合物(
5):20重量部、リグニンスルホン酸ナトリウム:2
重量部、キサンタンガム:0.3重量部及びポリオキシ
エチレンアルキルアリールエーテル:1重量部に、水:
76.7重量部を加えて混合後、サンドグライダーを用
いて微粉砕してフロアブル剤を得た。
【0042】製剤例5(フロアブル剤)本発明化合物(
2):30重量部と水50重量部に溶解したサンエキス
P252(商品名、前記と同様):10重量部を湿式粉
砕混合し、その後水  9.6重量部に溶解したケルザ
ンS(商品名、ケルコ製;キサンタンガム):  0.
2重量部とデルトップ(商品名、武田薬品工業製;有機
ヨウ素系防黴剤):0.2重量部を加えて混合し、フロ
アブルを得た。
【0043】製剤例6(粉剤) 本発明化合物(1):1重量部、エマルゲン910(商
品名、花王;ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル):0.5重量部およびカオリンクレー:98.5重
量部をよく粉砕混合して粉剤を得た。
【0044】製剤例7(粉剤) 本発明化合物(4):3重量部、リグニンスルホン酸ナ
トリウム:3重量部、ポリオキシエチレンアルキルアリ
ールエーテル:2重量部及びクレー:92重量部を混合
粉砕して粉剤を得た。
【0045】製剤例8(ドライフロアブル剤)本発明化
合物(6):60重量部、アルキルベンゼンスルホン酸
ナトリウム:5重量部及びポリプロピレングリコールポ
リエチレングリコールエーテル:35重量部を混合し、
ドライフロアブル剤を得た。
【0046】製剤例9(粒剤) 本発明化合物(3):1重量部、ネオペレックス(商品
名、前記と同様):2重量部、サンエキスP252(商
品名、山陽国策パルプ製;リグニンスルホン酸ナトリウ
ム):2重量部、ベントナイト:70重量部およびタル
ク:23重量部をよく混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に小型射出成形機で押し出し造粒した。こ
れを30〜60℃で風乾し解砕した後、製粒機で0.3
〜2mmに製粒して粒剤を得た。
【0047】製剤例10(粒剤) 微粉砕した本発明化合物(6):1重量部、ゴーセノー
ル(Gosenol)GL−05s(日本合成化学製 
 PVA):2重量部、サンエキスP252(商品名、
山陽国策パルプ製;リグニンスルホン酸ソーダ):2重
量部及びレー:95重量部を良く混合した後、適当量の
水を加えて湿潤させ、次に射出成形機で押し出し造粒し
た。これを60〜90℃で風乾し解砕した後、整粒機で
0.3〜1mmに整粒して粒剤を得た。
【0048】製剤例11(乳剤) 本発明化合物(2):10重量部、ソルボール800A
(商品名、東邦化学製;非イオン性界面活性剤と陰イオ
ン性界面活性剤の混合物):10重量部およびo−キシ
レン:80重量部を混合溶解して乳剤を得た。
【0049】製剤例12(乳剤) 本発明化合物(3):10重量部、ソルボール800A
(商品名、東邦化学製;非イオン性界面活性剤とアニオ
ン性界面活性剤の混合物):10重量部およびo−キシ
レン:80重量部を混合溶解して乳剤を得た。
【0050】試験例1  ALS(アセトラクテートシ
ンセース)阻害試験 作物と雑草との間に酵素レベルにおける選択性を見出す
ために、広葉作物の代表としてエンドウ豆を、狭葉雑草
の代表としてヒエを用い、ALS阻害試験を行った。
【0051】エンドウ豆およびヒエの種子を25℃、暗
所において8〜14日間発芽生育させた後、その芽生え
より、文献(ブラントフィジオロジー、75巻、827
〜831)に記載の方法に従ってアセトラクテートシン
セースの部分精製懸濁液(A液)を得た。供試験化合物
0.5mgを試験管に測りとり、20mMK2HPO4
溶液0.15ml、さらに、0.25mlの反応基質液
、(K2HPO440mM、ピルビン酸ナトリウム40
mM、TPP1mM、MgCl21mM、およびFAD
20μMよりなる)を加え、0.4mMの反応液(B)
とした。0.4mlのB液に0.1mlのA液を加え、
30℃の恒温水槽内で、1時間振盪した後、50μlの
6N硫酸を加えて反応を停止させた。
【0052】次に反応停止液を60℃恒温水槽に移し、
15分間加熱した後、0.5%クレアチン溶液0.5m
lと5%アルカリ性α−ナフトール溶液0.5mlを加
え、15分間60℃に保った。その結果、被検液は桃色
〜赤色を呈した。以上の操作の後、被検液の525nm
に於ける吸光度を吸光光度計により測定した(供試化合
物の吸光度  ■)。
【0053】一方、B液の供試化合物として、何も入れ
ず前記の処理をしたもの(プランクの吸光度  ■)と
、B液の供試化合物として50μlの6N硫酸を用い前
記の処理をしたもの(硫酸の吸光度  ■)を同時に測
定した。それぞれの測定値より次の式(数1)に従って
各化合物10000ppm(0.5mg/0.5ml)
に於ける酵素阻害率を求め、その結果を第2表(表4)
に示した。なお、以下の試験例において用いた比較化合
物A、B、C、D、Eは下記の化合物を表わす。
【0054】
【数1】
【0055】
【化8】
【0056】
【表4】
【0057】本試験の結果は、本発明化合物が酵素レベ
ルに於いてヒエ等のイネ科雑草に強い阻害を示すのに対
しエンドウ豆等の広葉作物に対しては阻害作用を示さな
い明確な選択性を有していることを示すものである。
【0058】試験例2  畑地土壌処理試験1/100
0アールの樹脂性ポットに畑地土壌をつめ、施肥後、対
象作物としてワタおよびダイズの種子を3cmの深さに
播種した。また、対象雑草としてアオビユ、シロザ、ヒ
エ、エノコログサ、メヒシバおよびジョンソングラスの
種子を1cmの深さに播種した。その1日後、供試化合
物の所定量を前記製剤例1に準じて調製した水和剤を、
1アール当たり10Lの散布液量となるように水で希釈
し、加圧噴霧器を用いて均一に土壌表面に散布した。こ
れらを温室内にて生育させ、散布50日後に各作物およ
び雑草に対する影響を調査した。その結果を第3表(表
5)に示した。表中、各雑草に対する除草効果および各
作物に対する薬害程度は、各処理における新鮮重を測定
し、以下の算出方法により%で表示した。
【0059】
【数2】
【0060】
【表5】
【0061】本試験結果は、一般式(I)で表わされる
本発明化合物は、一部の広葉雑草およびジヨンソングラ
スを含むイネ科雑草に対して土壌処理における優れた除
草効果を示し、なおかつ対照化合物と比較してダイズ、
ワタ等の作物には極めて安全であることを示すものであ
る。
【0062】試験例3  畑地茎葉処理試験1/100
0アールの樹脂性ポットに畑地土壌をつめ、施肥後、対
象作物としてワタおよびダイズの種子を3cmの深さに
播種した。その後5日後に、対象雑草としてアオビユ、
シロザ、ヒエ、エノコログサ、メヒシバおよびジョンソ
ングラスの種子を1cmの深さに播種した。 これらを温室内にて生育させ、イネ科雑草が2〜3葉期
になった時に供試化合物の所定量を前記製剤例11に記
載した方法に準じて調整した乳剤を、1アール当たり5
 Lの散布液量となるように水で希釈し、加圧噴霧器を
用いて均一に散布した。散布40日後に各作物および雑
草に対する影響を調査した。その結果を第4表(表6)
に示した。表中、各雑草に対する除草効果および各作物
に対する薬害程度は、試験例2と同様に表示した。
【0063】
【表6】
【0064】本試験結果は、一般式(I)で表わされる
本発明化合物は、一部の広葉雑草およびジヨンソングラ
スを含むイネ科雑草に対して茎葉処理においても優れた
除草効果を示し、なおかつ対照化合物と比較してダイズ
、ワタ等の作物には極めて安全であることを示すもので
ある。
【0065】試験例4  地下茎発生ジョンソングラス
に対する効果試験 1/1000アールの樹脂性ポットに畑地土壌をつめ、
施肥後、ジョンソングラスの地下茎を2〜3cmの深さ
に移植し、温室内にて生育させた。ジヨンソングラスが
4〜5葉期になった時に供試化合物の所定量を前記製剤
例11に記載した方法に準じて調製した乳剤を、1アー
ル当たり5Lの散布液量となるように水で希釈し、加圧
噴霧器を用いて均一に散布した。散布50日後に各化合
物の地下茎発生のジョンソングラスに対する効果を調査
した。その結果を第5表(表7)に示した。表中、ジョ
ンソングラスに対する除草効果は、試験例2と同様に表
示した。
【0066】
【表7】
【0067】本試験結果は、一般式(I)で表わされる
本発明化合物が地下茎発生のジョンソングラスに対して
極めて高い防除効果を有することを示している。一般に
地下茎発生のジョンソングラスは生育が速く、また複数
の芽をもっているため、薬剤の効果切れによる回復や後
発生が起こり易いとされている。従って、本試験結果は
本発明化合物が対照化合物として比較して、生育の阻害
効果とともに、優れた残効性を有しており地下茎発生の
ジョンソングラスの防除に極めて有効であることを示す
ものである。
【0068】試験例5  湛水土壌処理(発生前処理)
1/5000アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、ホタルイ、ウリカワの種子または塊茎を播種し
て湛水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲(2
〜3葉期)2本を1株とし、その2株を移植して温室内
に生育させた。1日後(雑草発生前に)、供試化合物の
所定量を前記製剤例9に記載した方法に準じて調整した
粒剤を用いて処理し、50日に雑草に対する防除効果お
よび水稲に対する薬害状況を調査した。その結果を第6
表(表8)に示した。表中、被検植物の被害程度および
水稲に対する薬害程度は、試験例2と同様に表示した。
【0069】
【表8】
【0070】試験例6  湛水土壌処理(生育期処理)
1/5000アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、ホタルイ、ウリカワの種子または塊茎を播種し
て湛水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲(2
〜3葉期)2本を1株とし、その2株を移植して温室内
に生育させた。ヒエが2葉になった時に、供試化合物の
所定量を前記製剤例9に記載した方法に準じて調整した
粒剤を用いて処理し、50日に雑草に対する防除効果お
よび水稲に対する薬害状況を調査した。その結果を第7
表(表9)に示した。表中被検植物の被害程度および水
稲に対する薬害程度は、試験例2と同様に表示した。
【0071】
【表9】
【0072】試験例5〜試験例6の結果は、一般式(I
)で表わされる本化合物は、一部の広葉雑草及びイネ科
雑草に対して湛水土壌処理に於いて高い殺草効果を示し
、なおかつイネにも薬害の極めて少ないことを示すもの
である。
【0073】
【発明の効果】本発明に係わる一般式(I)で表わされ
る化合物を含有する除草剤はアセタールのアルキル基の
炭素数を3〜8にすることによって、大豆、綿等の作物
に対する薬害が軽減され、さらに難防除といわれるライ
ゾーム発生からのジヨンソングラスに対して優れた防除
効果を有し、かつシャターケーン、ヒエ、メヒバ、チガ
ヤ及びアオビユを中心に特徴あるスペクトラムを有して
いる。前述の文献記載の公知化合物等の比較薬剤、ある
いはその他の公知化合物を凌駕する性能を有しており極
めて有用な除草剤を世の中に提供するものである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一般式(I)(化1)【化1】 (式中、Rは炭素数3〜8の直鎖、あるいは枝分かれの
    アルキル基を表わす)で表わされるベンズアルデヒドア
    セタール誘導体。
  2. 【請求項2】  式(II)(化2) 【化2】 で表わされるサリチルアルデヒドに一般式(III)R
    OH                  (III)
    (式中、Rは炭素数3〜8の直鎖あるいは枝分かれのア
    ルキル基を表わす)で表わされるアルコール類、又一般
    式(IV) CH(OR)3            (IV)(式
    中、Rは前記と同じ意味を表わす)で表わされるオルト
    ギ酸エステル類を酸の存在下に反応させ一般式(V)(
    化3) 【化3】 (式中、Rは前記と同じ意味を表わす)で表わされるア
    セタール誘導体とした後、式(VI) (化4)【化4
    】 で表わされる2−クロル−4,6−ジメトキシピリミジ
    ンを塩基の存在下に反応させることを特徴とする請求項
    1記載の一般式(I)で表わされるベンズアルデヒドア
    セタール誘導体の製造法。
  3. 【請求項3】  式(VII) (化5)【化5】 で表わされる2−(4,6−ジメトキシピリミジン−2
    −イルオキシ)ベンズアルデヒドに一般式(III)R
    OH                  (III)
    (式中、Rは炭素数3〜8の直鎖あるいは枝分かれのア
    ルキル基を表わす)で表わされるアルコール類、又一般
    式(IV) CH(OR)3            (IV)(式
    中、Rは前記と同じ意味を表わす)で表わされるオルト
    ギ酸エステル類を酸の存在下に反応させる事を特徴とす
    る請求項1記載の一般式(I)で表わされるベンズアル
    デヒドアセタール誘導体の製造法。
  4. 【請求項4】  請求項1記載の一般式(I)で表わさ
    れるベンズアルデヒドアセタール誘導体を有効成分とし
    て含有する除草剤。
JP3297000A 1990-12-17 1991-11-13 ベンズアルデヒドアセタール誘導体とその製造法及びこれを有効成分とする除草剤 Pending JPH04342575A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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