JPH04342201A - ノングレアー処理方法 - Google Patents

ノングレアー処理方法

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Publication number
JPH04342201A
JPH04342201A JP3114726A JP11472691A JPH04342201A JP H04342201 A JPH04342201 A JP H04342201A JP 3114726 A JP3114726 A JP 3114726A JP 11472691 A JP11472691 A JP 11472691A JP H04342201 A JPH04342201 A JP H04342201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glare
polarizer
resin layer
fine particles
liquid crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP3114726A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Denda
聡 傳田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP3114726A priority Critical patent/JPH04342201A/ja
Publication of JPH04342201A publication Critical patent/JPH04342201A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はノングレアー処理に関す
る。詳しくは液晶表示装置・エレクトロクロミック表示
装置・EL表示装置・プラズマ表示装置・CRT表示装
置等各種の表示装置・あるいは図形・文字等を印刷・形
成した表示板等のノングレアー処理方法に関する。
【0002】以下、液晶表示装置を例にとり説明するが
、その他の表示装置でも本発明が成り立つのはもちろん
である。
【0003】
【従来の技術】従来の液晶表示装置は図1に示すように
、電極基板上の偏光板に外光1(光源から直接入射する
光であれば何でも可)が入射してくるため、光源である
外光の像が表示に寄与する光2と重なり、液晶表示され
た表示が見えない、または非常に見ずらくなった。そこ
で偏光板上に印刷,エンボス加工等により表面に微小な
凹凸を形成するノングレアー処理法が主として用いられ
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ノングレアー処理のレ
ベルは、液晶表示装置の視認特性と関係が深くノングレ
アー効果を高くすれば、表示が見にくくなるという関係
がありそのため客先のノングレアー特性の要求レベルや
、液晶表示体の表示特性等によりフレキシブルにノング
レアー特性を変更できることが望まれていた。しかしな
がら印刷法では散布する基材の特性・印刷条件・乾燥条
件等を変更してもノングレアー特性を仕様に合わせて容
易にかつスピーディーに変化させることは困難であり、
エンボス加工等においても同様の課題があった。
【0005】本発明の目的は新たなノングレアー処理方
法を用いることにより市場ニーズに即応できるノングレ
アー処理を容易に実現することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は表示装置の表面
、または表面部分を構成する要素部品上のプラスチック
・レジン・ノリワニス・接着剤・インキ等の樹脂に対し
て微粒子をブラストすることにより微少な凹凸を形成す
ることにより達成される。
【0007】凹凸の形成方法は基板上の樹脂に対して水
などの溶液中もしくは気体中に砂等の微粒子を混合し基
板表面にブラストすることにより微小な凹凸を形成する
ものである。基板上の樹脂は透明または半透明の物が良
いが、不透明または着色されていてもよい。但し不透明
または着色している場合には、樹脂層を通して下の表示
が見える様にすればよい。表示装置は透過型であっても
反射型であってもどちらでもよい。
【0008】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1及び図2・図
3により説明する本発明を説明するために、本発明を適
用した液晶表示装置を図2に示す。図2に示した液晶表
示装置は反射型であり、約90度にツイスト配向さたネ
マチック液晶が1対の電極基板で挟持され、上下に偏光
子3が偏光軸を所定の方向にして配置されている。下側
の偏光子3の下には更に反射体100が積層されている
。上側の偏光子3の上層樹脂に対し微少な凹凸を加工し
ノングレアー樹脂層膜4を形成する。本発明が適用され
た液晶表示装置は太陽光1等、光源から放射された光が
偏光子3上に入射するが、偏光子3上には微細な凹凸を
有するノングレアー樹脂層膜4が形成されているため、
太陽光1がノングレアー樹脂層膜4上で散乱反射され、
観測者から液晶表示を見る際に明確な太陽像等が表示装
置上に形成されず、従って液晶表示2が明確に見ること
が可能である。
【0009】図3は本発明のノングレアー樹脂層膜4を
形成する過程の実施例説明図である。ポリビニルアルコ
ール(PVA)の両側を三酢酸セルロース(TAC)で
挟み込んで形成した偏光子3をプレート7上に装着し搬
送トレイ8上に載せる。そして搬送しながら水溶液中に
Siの微粒子(粒径5から10ミクロン)を超音波にて
攪絆しながらノズル5より偏光子3上にブラストさせる
。以上の様にしてTAC上に微小な凹凸を有するノング
レアー樹脂層膜4を形成できる。ノングレアー樹脂層膜
4は先に処理を施しても構わないし、液晶表示装置の表
面に装着後処理することも可能である。ここでノングレ
アー樹脂層膜表面の凹凸のレベルは粒子の形状及び粒径
・水溶液に対する混合比・ブラスト圧力・ブラストノズ
ルの形状・ブラストノズルと基板までの距離・基板の搬
送スピードにより自由に制御することが可能である。 またノングレアー樹脂層膜4の形成場所は偏光子3上ば
かりでなく液晶表示装置を構成するプラスチック電極板
・ガラス電極基板・UVフィルター等の要素部品上に構
成されてもよい。要素部品にノングレアー樹脂層膜4を
形成した時には装置上に設置してノングレアー樹脂層膜
を装備した液晶表示装置が構成される。
【0010】
【発明の効果】以上述べたように,本発明によれば従来
法と比較して容易にノングレアー効果の異なる表面を形
成することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来例の説明図である。
【図2】本発明の実施例説明図で、表示体上にノングレ
アー処理を施した状態を示す図である。
【図3】本発明の実施例説明図で、ノングレアー樹脂層
膜形成していることを示す図である。
【符号の説明】
1    太陽光 2    液晶表示光 3    偏光子 4    ノングレアー樹脂層膜 5    ノズル 6    プレート 7    搬送トレイ 100    反射体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ノングレアー処理膜の製造方法におい
    て、基板上の樹脂材料に微粒子をブラストすることによ
    り微小な凹凸を形成した事を特徴とする表示装置あるい
    は表示板のノングレアー処理方法。
JP3114726A 1991-05-20 1991-05-20 ノングレアー処理方法 Pending JPH04342201A (ja)

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