JPH0433969A - カチオン電着組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、低温硬化性と耐候性に優れたカチオン電着組
成物に関するものである。
成物に関するものである。
従来カチオン電着塗装は、その優れた防錆力、塗装作業
性の観点より、自動車用途を中心に汎用されている。
性の観点より、自動車用途を中心に汎用されている。
これ等に使用されているカチオン電着組成物は、トリレ
ンジイソシアネートとポリオールとを反応させ、末端に
インシアネート基を有するプレポリマーに、通常アルコ
ールまたはε−カプロラクタム等でブロック化したブロ
ックイソシアネートを硬化剤として含有するものである
。
ンジイソシアネートとポリオールとを反応させ、末端に
インシアネート基を有するプレポリマーに、通常アルコ
ールまたはε−カプロラクタム等でブロック化したブロ
ックイソシアネートを硬化剤として含有するものである
。
しかし、カチオン電着塗装膜上に、直接上塗り塗料を塗
装した場合、得られた塗膜は紫外線等により黄変(耐候
性が低下)する問題点を有していた。
装した場合、得られた塗膜は紫外線等により黄変(耐候
性が低下)する問題点を有していた。
かかる問題を解決する手段として、トリレンジイソシア
ネートの代わりに、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、水添MDl等の耐候性に
優れる脂肪族あるいは脂環式イソシアネートを使用する
と、通常焼付温度が180℃以上必要であった。
ネートの代わりに、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、水添MDl等の耐候性に
優れる脂肪族あるいは脂環式イソシアネートを使用する
と、通常焼付温度が180℃以上必要であった。
本発明者は、上記の問題点に鑑みて鋭意検討しり結果、
α−(3−メチルイソシナトフェニル)エチルイソシア
ネート又は2.5−及び/又は2.6−ジイソシアナト
メチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプタンまたはこれらイ
ソシアネートの変成体より合成されるフ゛口・ンクイソ
シアネート(A)と3級アミノ基及び活性水素含有化合
物(B)との組合せにおいて、耐候性及び低温焼付性に
優れる事を見出し本発明に到達した。
α−(3−メチルイソシナトフェニル)エチルイソシア
ネート又は2.5−及び/又は2.6−ジイソシアナト
メチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプタンまたはこれらイ
ソシアネートの変成体より合成されるフ゛口・ンクイソ
シアネート(A)と3級アミノ基及び活性水素含有化合
物(B)との組合せにおいて、耐候性及び低温焼付性に
優れる事を見出し本発明に到達した。
すなわち、本発明はα−(3−メチルイソシアナトフェ
ニル)−エチルイソシアネート或いは2.5−及び/又
は2,6−ジイツシアナトメチルビシクロ[2,1〕ヘ
プタンまたはこれらイソシアネートの変成体より合成さ
れるブロックイソシアネート(A)と3級アミノ基及び
活性水素含有化合物(B)とを、焼付は温度において、
Aのブロックイソシアネートが外れ、解離するイソシア
ネート基(NCO基)に対し、Bの活性水素(H)の当
量比(H/NCO基)が0.8〜1.3の割合で配合し
てなるカチオン電着塗料組成物に関するや 本発明に使用される一つのブロックイソシアネート(A
)は、α−(3−メチルイソシアナトフェニル)−エチ
ルイソシアネート、または α−(3−メチルイソシア
ナトフェニル)−エチルイソシアネートとグリコール、
ポリオールあるいは水との反応により得られる末端にイ
ソシアネート基を有するプレポリマー、あるいはα−(
3−メチルイソシアナトフェニル)−エチルイソシアネ
ートのイソシアヌレート結合を含有するポリイソシアネ
ートを、分子中に活性水素を少なくとも1個有するブロ
ック剤よりブロック化することにより合成される。
ニル)−エチルイソシアネート或いは2.5−及び/又
は2,6−ジイツシアナトメチルビシクロ[2,1〕ヘ
プタンまたはこれらイソシアネートの変成体より合成さ
れるブロックイソシアネート(A)と3級アミノ基及び
活性水素含有化合物(B)とを、焼付は温度において、
Aのブロックイソシアネートが外れ、解離するイソシア
ネート基(NCO基)に対し、Bの活性水素(H)の当
量比(H/NCO基)が0.8〜1.3の割合で配合し
てなるカチオン電着塗料組成物に関するや 本発明に使用される一つのブロックイソシアネート(A
)は、α−(3−メチルイソシアナトフェニル)−エチ
ルイソシアネート、または α−(3−メチルイソシア
ナトフェニル)−エチルイソシアネートとグリコール、
ポリオールあるいは水との反応により得られる末端にイ
ソシアネート基を有するプレポリマー、あるいはα−(
3−メチルイソシアナトフェニル)−エチルイソシアネ
ートのイソシアヌレート結合を含有するポリイソシアネ
ートを、分子中に活性水素を少なくとも1個有するブロ
ック剤よりブロック化することにより合成される。
もう一つのブロックイソシアネート(A)は、2.5−
及び/又は2,6−ジイソシアナトメチルビシクロ〔2
,2,1〕ヘプタン、または、2,5−及び/又は2.
6−ジイソシアナトメチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプ
タンとグリコール、ポリオールあるいは水との反応によ
り得られる末端にイソシアネート基を有するプレポリマ
ー、あるいは2゜5−及び/又は2.6ジイソシアナト
メチルビシクロ(2,1〕ヘプタンのイソシアヌレート
結合を含有するポリイソシアネートを、分子中に活性水
素を少なくとも1個有するブロック剤よりブロック化す
ることにより合成される。
及び/又は2,6−ジイソシアナトメチルビシクロ〔2
,2,1〕ヘプタン、または、2,5−及び/又は2.
6−ジイソシアナトメチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプ
タンとグリコール、ポリオールあるいは水との反応によ
り得られる末端にイソシアネート基を有するプレポリマ
ー、あるいは2゜5−及び/又は2.6ジイソシアナト
メチルビシクロ(2,1〕ヘプタンのイソシアヌレート
結合を含有するポリイソシアネートを、分子中に活性水
素を少なくとも1個有するブロック剤よりブロック化す
ることにより合成される。
上記のα−(3−メチルイソシアナトフェニル)エチル
イソシアネートは、例えば、 特願平190676に記
載の方法で製造される。
イソシアネートは、例えば、 特願平190676に記
載の方法で製造される。
また、2,5−及び/又は2,6−ジイツシアナトメチ
ルビシクロ[2,1〕ヘプタンは、例えば、特願平2−
11801号の方法で製造される。
ルビシクロ[2,1〕ヘプタンは、例えば、特願平2−
11801号の方法で製造される。
また、上記イソシアネート等のプレポリマーまタハイソ
シアヌレート結合を含有するポリイソシアネートは、通
常用いられるイソシアネートのプレポリマーまたはイソ
シアヌレート結合を含有するポリイソシアネートと同様
の方法で容易に合成できる。
シアヌレート結合を含有するポリイソシアネートは、通
常用いられるイソシアネートのプレポリマーまたはイソ
シアヌレート結合を含有するポリイソシアネートと同様
の方法で容易に合成できる。
上記プレポリマーに用いられるグリコールまたはポリオ
ールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレング
リコール、ジプロピレングIJ−1−ル、ポリプロピレ
ングリコール、1.3−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチル
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペ
ンタエリドツト、ポリエステルポリオール、エポキシポ
リオール等が挙げられる。
ールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレング
リコール、ジプロピレングIJ−1−ル、ポリプロピレ
ングリコール、1.3−ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール、1.6−ヘキサンジオール、ネオペンチル
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペ
ンタエリドツト、ポリエステルポリオール、エポキシポ
リオール等が挙げられる。
また、分子中に活性水素を少なくとも1個有するブロッ
ク剤としては、例えば、ε−カプロラクタム、メチルエ
チルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセト
酢酸エチル、フェノール等が挙げられるが、安定性より
ε−カプロラクタム、メチルエチルケトオキシム、シク
ロヘキサノンオキシム等が好ましい。
ク剤としては、例えば、ε−カプロラクタム、メチルエ
チルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセト
酢酸エチル、フェノール等が挙げられるが、安定性より
ε−カプロラクタム、メチルエチルケトオキシム、シク
ロヘキサノンオキシム等が好ましい。
本発明に用いられる3級アミノ基及び活性水素含有化合
物(B)は、例えばビスフェノールA型エポキシ、ビス
フェノールF型エポキシ、更にこれ等をジアミン、二塩
酸等で分子量を増大したエポキシ、EPU−3(旭電化
製)の様なポリウレタン、E−1800−6,5(日本
石油化学■製)の欅なエポキシ化ポリブタジェン等のエ
ポキシ基に2級アミンを導入して、3級アミノ基を持た
せたものが挙げられる。
物(B)は、例えばビスフェノールA型エポキシ、ビス
フェノールF型エポキシ、更にこれ等をジアミン、二塩
酸等で分子量を増大したエポキシ、EPU−3(旭電化
製)の様なポリウレタン、E−1800−6,5(日本
石油化学■製)の欅なエポキシ化ポリブタジェン等のエ
ポキシ基に2級アミンを導入して、3級アミノ基を持た
せたものが挙げられる。
またジメチルアミノエチルメタクリレートやジエチルア
ミノエチルメタクリレートの様な3級アミノ基を有する
アクリルモノマーと2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト等の水酸基を有する七ツマ−とスチレン、プチメメタ
クリレートの様な共重合可能なモノマーを共重合させて
得られる3級アミノ基有するアクリル樹脂を挙げること
ができる。
ミノエチルメタクリレートの様な3級アミノ基を有する
アクリルモノマーと2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト等の水酸基を有する七ツマ−とスチレン、プチメメタ
クリレートの様な共重合可能なモノマーを共重合させて
得られる3級アミノ基有するアクリル樹脂を挙げること
ができる。
本発明のブロックイソシアネート(A)と3級アミノ基
及び活性水素含有化合物(B)の使用量は、電着塗膜を
焼付けた場合、A中のブロック剤が外れて遊離するイソ
シアネート基(有効NC○基)と、B中の活性水素(H
)と反応硬化するに十分なりの量(H/NCO基)が0
.8〜1.3が適当であり、好ましくは0.9〜1.2
である。
及び活性水素含有化合物(B)の使用量は、電着塗膜を
焼付けた場合、A中のブロック剤が外れて遊離するイソ
シアネート基(有効NC○基)と、B中の活性水素(H
)と反応硬化するに十分なりの量(H/NCO基)が0
.8〜1.3が適当であり、好ましくは0.9〜1.2
である。
通常、Bの固型分100重量部に対して、Aの固型分1
0〜200重量部が好ましい。
0〜200重量部が好ましい。
本発明のカチオン電着塗料用組成物を調製するには、成
分A及び成分Bを混合し、これを適宜の酸、例えば硼酸
、燐酸、硫酸、塩酸等の無機酸、乳酸、酢酸等の有機酸
で、好ましくは有機酸を単独または併用して中和後、水
に溶解または分散させる。
分A及び成分Bを混合し、これを適宜の酸、例えば硼酸
、燐酸、硫酸、塩酸等の無機酸、乳酸、酢酸等の有機酸
で、好ましくは有機酸を単独または併用して中和後、水
に溶解または分散させる。
本発明によるカチオン電着塗料用組成物には上記成分の
他に、必要により、顔料、溶媒活性剤等の常套の添加剤
を適宜配合する。
他に、必要により、顔料、溶媒活性剤等の常套の添加剤
を適宜配合する。
好ましい顔料としては、常套のいかなるものを用いても
よく、無機顔料としては、例えば、酸化鉄、ストロンチ
ウムクロメート、カーボンブラック2、コールダスト、
二酸化チタン、タルク、硫酸バリウム、または色顔料、
例えばカドミウムイエロー、カドミウムレッド、クロミ
ウムイエロー等が挙げられる。
よく、無機顔料としては、例えば、酸化鉄、ストロンチ
ウムクロメート、カーボンブラック2、コールダスト、
二酸化チタン、タルク、硫酸バリウム、または色顔料、
例えばカドミウムイエロー、カドミウムレッド、クロミ
ウムイエロー等が挙げられる。
また、有Il顔料としては、例えば、フタロシアニンブ
ルー、フタロシアニングリーン等を用いてもよい、また
、複数の顔料の混合物等が挙げられる。
ルー、フタロシアニングリーン等を用いてもよい、また
、複数の顔料の混合物等が挙げられる。
本発明のカチオン電着組成物を用いる電着方法において
、本発明のカチオン電着組成物を、導電性のアノードお
よび導電性のカソード(塗装されるべき表面を有する)
に接触させ、通常の方法で電着塗装する。
、本発明のカチオン電着組成物を、導電性のアノードお
よび導電性のカソード(塗装されるべき表面を有する)
に接触させ、通常の方法で電着塗装する。
塗装後、一般には、60″C〜120°Cで焼き付ける
が、従来の電着塗料との同様の高温焼き付けも可能であ
る。
が、従来の電着塗料との同様の高温焼き付けも可能であ
る。
従来のカチオン電着組成物を用いる電着方法においては
、耐候性を重視すれば、180’C以上の焼付は温度が
必要になり、150″C焼付は温度まで低下させれば耐
候性が劣る欠点があった。
、耐候性を重視すれば、180’C以上の焼付は温度が
必要になり、150″C焼付は温度まで低下させれば耐
候性が劣る欠点があった。
本発明によれば、このような欠点は解消され、150℃
の様な比較的低温の焼付は温度条件下に於いても、耐候
性に優れるカチオン電着塗料が得られる。
の様な比較的低温の焼付は温度条件下に於いても、耐候
性に優れるカチオン電着塗料が得られる。
以下、本発明を、更に具体的に説明するため、実施例及
び比較例をあげて説明するが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
び比較例をあげて説明するが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
上旦旦上葛金底
参考例1
α−3−アミノフェニル エチルアミンの入内容積50
0dの攪拌機付5tlS 316L製オートクレーブに
m−ニトロアセトフェノン33.0 g (0,2モル
)、メタノール200yd及びラネーニッケル4.6g
にッケル分として)を仕込んだ後、窒素で置換してしば
らく攪拌する。
0dの攪拌機付5tlS 316L製オートクレーブに
m−ニトロアセトフェノン33.0 g (0,2モル
)、メタノール200yd及びラネーニッケル4.6g
にッケル分として)を仕込んだ後、窒素で置換してしば
らく攪拌する。
オートクレーブを氷水で冷却しながらアンモニアを約4
0g導入した。引き続き、水素を圧入し、40kg/c
jGとした後、昇温しで70“Cにした。
0g導入した。引き続き、水素を圧入し、40kg/c
jGとした後、昇温しで70“Cにした。
その温度で55分間反応させ、水素を16.5Ni、吸
収したところで吸収が停止したので反応を終了した。室
温まで放冷した後反応液を取り出して濾過し、濾液を5
〜5tmdgの圧力で真空蒸留して留出温度120〜1
22℃の留分23.9g (収率88.0%)を得た。
収したところで吸収が停止したので反応を終了した。室
温まで放冷した後反応液を取り出して濾過し、濾液を5
〜5tmdgの圧力で真空蒸留して留出温度120〜1
22℃の留分23.9g (収率88.0%)を得た。
この液体は無色透明であり、元素分析値、GCMSスペ
クトル、IR−スペクトル、 ’H−NMRスペクトル
の分析値を調べたところ下記のデータが得られたことが
らα−(3−アミノフェニル)エチルアミンであると同
定した。
クトル、IR−スペクトル、 ’H−NMRスペクトル
の分析値を調べたところ下記のデータが得られたことが
らα−(3−アミノフェニル)エチルアミンであると同
定した。
ガスクロマトグラフィーによる純度は99.3%であっ
た。
た。
(1) ’ H−N M Rスペクトル(100MH
z 、 DMSO−66)δppm : 1.0〜1.5ニーc島プロトン 3H4,2〜5
.3 : CNNz 2H6,1〜
7.2:ベンゼン環プロトン4B(2)IRスペクトル
(岩塩板、液膜法)波数 CI−’: 3400.3
340.3190.2940.1600.1485.1
455.1360.1310.1160(3)GC−M
Sスペクトル El−MSスペクトル: (Mつ=136(注、APE
Aの分子量CJ+db=136.2)(4)元素分析値
(Cs H+zNz )CHN 計算値(χ”) 70.48 B、81 20
.56実測値(χ)70.45 8.91 20.
38上記で得られたα−(3−アミノフェニル)エチル
アミンを原料として冷熱2段法でホスゲン化を行った。
z 、 DMSO−66)δppm : 1.0〜1.5ニーc島プロトン 3H4,2〜5
.3 : CNNz 2H6,1〜
7.2:ベンゼン環プロトン4B(2)IRスペクトル
(岩塩板、液膜法)波数 CI−’: 3400.3
340.3190.2940.1600.1485.1
455.1360.1310.1160(3)GC−M
Sスペクトル El−MSスペクトル: (Mつ=136(注、APE
Aの分子量CJ+db=136.2)(4)元素分析値
(Cs H+zNz )CHN 計算値(χ”) 70.48 B、81 20
.56実測値(χ)70.45 8.91 20.
38上記で得られたα−(3−アミノフェニル)エチル
アミンを原料として冷熱2段法でホスゲン化を行った。
攪拌機、温度計、ホスゲンガス導入管、冷却管、滴下ロ
ートを装備した2!反応フラスコにオルトジクロルベン
ゼン800gを装入し、攪拌上反応フラスコを氷水浴に
つけ、内温を約2°Cに保ち、ホスゲンガスを75 g
/ hの割合で1時間フラスコ内に導入した。
ートを装備した2!反応フラスコにオルトジクロルベン
ゼン800gを装入し、攪拌上反応フラスコを氷水浴に
つけ、内温を約2°Cに保ち、ホスゲンガスを75 g
/ hの割合で1時間フラスコ内に導入した。
次いでオルトジクロルベンゼン307gに熔解した上記
ジアミン(n ) 40 g (0,294mol)を
1時間で滴下した。アミン滴下時にはホスゲンガスを7
5g/hの割合で導入しながら、2〜7°Cで冷ホスゲ
ン化を行い、滴下後更に7〜16°Cで30分間ホスゲ
ンを50 g / hの割合で導入した。アミン滴下後
、フラスコ内は淡黄白色スラリー状液となった。
ジアミン(n ) 40 g (0,294mol)を
1時間で滴下した。アミン滴下時にはホスゲンガスを7
5g/hの割合で導入しながら、2〜7°Cで冷ホスゲ
ン化を行い、滴下後更に7〜16°Cで30分間ホスゲ
ンを50 g / hの割合で導入した。アミン滴下後
、フラスコ内は淡黄白色スラリー状液となった。
次いでホスゲンを50g/hの割合で導入しながら反応
フラスコ内液を2.5時間で74°Cに昇温した。
フラスコ内液を2.5時間で74°Cに昇温した。
昇温後更にホスゲンの導入を続けながら、反応温度74
〜100°Cで2時間熱ホスゲン化を行った。
〜100°Cで2時間熱ホスゲン化を行った。
熱ホスゲン化の過程でフラスコ内液は淡褐色透明溶液と
なった。冷熱2段ホスゲン化で合計210gのホスゲン
ガスを導入した。これは理論量の約3.6倍であった。
なった。冷熱2段ホスゲン化で合計210gのホスゲン
ガスを導入した。これは理論量の約3.6倍であった。
熱ホスゲン化終了後、90°Cで窒素ガスを2時間導入
し脱ガスを行った。
し脱ガスを行った。
冷却後濾過した後、減圧下で溶媒のオルトジクロルベン
ゼンの留去を行い、褐色の反応液約55gを得た。更に
減圧蒸留により、若干量副生ずるα−(3−イソシアナ
トフェニル)エチルクロリドを除去することによって、
約44.7 gの沸点136°C/10mHgの留分を
得た(無色透明液体、800%44.61)。この留分
の元素分析値は下記の通りであった。
ゼンの留去を行い、褐色の反応液約55gを得た。更に
減圧蒸留により、若干量副生ずるα−(3−イソシアナ
トフェニル)エチルクロリドを除去することによって、
約44.7 gの沸点136°C/10mHgの留分を
得た(無色透明液体、800%44.61)。この留分
の元素分析値は下記の通りであった。
元素分析値(%)(C3゜HsNzO□として)CHN
計算値 63.76 4.25 14.88
分析値 63.86 4.22 14.91
また、第1図に示すTRスペクトル、第2図のH−NM
Rスペクトルが得られた。更に、GC−MSスペクトル
では(M”″)−188が観測され、式(1)で表され
る化合物の分子量188.2と一致した。以上よりこの
留分は目的物であるα−(3−イソシアナトフェニル)
エチルイソシアナートと同定した。
分析値 63.86 4.22 14.91
また、第1図に示すTRスペクトル、第2図のH−NM
Rスペクトルが得られた。更に、GC−MSスペクトル
では(M”″)−188が観測され、式(1)で表され
る化合物の分子量188.2と一致した。以上よりこの
留分は目的物であるα−(3−イソシアナトフェニル)
エチルイソシアナートと同定した。
1工」」」J【遣
参考例2
溶媒として酢酸イソアミル687 g 、 0DCB2
189 gを混合し、造塩及びホスゲン化の溶媒(以下
混合溶媒と称す)として準備した。この場合、溶媒酢酸
イソアミルに当たる0DCBの比率は76.1%である
。
189 gを混合し、造塩及びホスゲン化の溶媒(以下
混合溶媒と称す)として準備した。この場合、溶媒酢酸
イソアミルに当たる0DCBの比率は76.1%である
。
混合溶媒1126gを32の四ツロフラスコに入れ、攪
拌しながら氷水で5 ”Cまで冷却した。これに塩化水
素ガスを1.6N!/winの割合で30分間吹き込ん
だのち、別途用意した原料ジアミン2,5−異性体約6
0%と2.6−異性体約40%の混合物であるジアミノ
メチル−ビシクロ(2,1〕ヘプタン(BHCA) 2
50.0 g (1,62mol)を混合溶媒1750
gに熔解した溶液(原料ジアミン濃度: 12.5重量
%)をフラスコ内液中に2時間かけて滴下した0滴下中
も冷却をつづけフラスコ内温を10〜15°Cに保った
。
拌しながら氷水で5 ”Cまで冷却した。これに塩化水
素ガスを1.6N!/winの割合で30分間吹き込ん
だのち、別途用意した原料ジアミン2,5−異性体約6
0%と2.6−異性体約40%の混合物であるジアミノ
メチル−ビシクロ(2,1〕ヘプタン(BHCA) 2
50.0 g (1,62mol)を混合溶媒1750
gに熔解した溶液(原料ジアミン濃度: 12.5重量
%)をフラスコ内液中に2時間かけて滴下した0滴下中
も冷却をつづけフラスコ内温を10〜15°Cに保った
。
また塩化水素ガスの吹き込みをINI/+inの割合で
続行した。原料ジアミン溶液の滴下が終わったのちも、
フラスコ内温を25℃以下に保ちながら、塩化水素ガス
の吹き込みを0.4Nl/winの割合で2時間続行し
、造塩反応を完結させた。
続行した。原料ジアミン溶液の滴下が終わったのちも、
フラスコ内温を25℃以下に保ちながら、塩化水素ガス
の吹き込みを0.4Nl/winの割合で2時間続行し
、造塩反応を完結させた。
造塩反応では、塩酸塩粒子の塊りが生成するようなこと
はなく、極めてスムースに推移し、白色の均一な微粒子
のスラリーが得られた。
はなく、極めてスムースに推移し、白色の均一な微粒子
のスラリーが得られた。
造塩反応終了後、フラスコ内温を25℃から160°C
まで50分間で昇温しなから100’Cの時点からホス
ゲンを徐々に吹き込んでホスゲン化反応を開始した。マ
ントルヒーターで内温を160部1℃に調節しながら、
ホスゲンの吹き込みを100g/h〜120g/hの割
合で続行した。
まで50分間で昇温しなから100’Cの時点からホス
ゲンを徐々に吹き込んでホスゲン化反応を開始した。マ
ントルヒーターで内温を160部1℃に調節しながら、
ホスゲンの吹き込みを100g/h〜120g/hの割
合で続行した。
ホスゲン吹き込み開始後、約6時間で反応液の性状がス
ラリー状(白色)から澄明(とう赤色)となったので、
更に30分間ホスゲンガスを50g/hの割合で吹き込
んだのち、ホスゲン化反応を終了した。ホスゲン化反応
時間は合計6.5時間であった。使用したホスゲンガス
は理論量の約2.2倍であった。
ラリー状(白色)から澄明(とう赤色)となったので、
更に30分間ホスゲンガスを50g/hの割合で吹き込
んだのち、ホスゲン化反応を終了した。ホスゲン化反応
時間は合計6.5時間であった。使用したホスゲンガス
は理論量の約2.2倍であった。
その後、フラスコ内反応液に、N2ガスを1.3N]/
+l1inの割合で80分間吹き込脱ガスを行なった。
+l1inの割合で80分間吹き込脱ガスを行なった。
この間液温は160部1°Cとした0反応液を脱ガス後
冷却し極微量の固形分を除くため、ろ紙(5C)でろ過
した。ろ液を脱溶媒したのち、真空下で精留し110〜
116℃10.4〜0.6torrの主留分306.5
gを得た。
冷却し極微量の固形分を除くため、ろ紙(5C)でろ過
した。ろ液を脱溶媒したのち、真空下で精留し110〜
116℃10.4〜0.6torrの主留分306.5
gを得た。
このものの分析値は次の通りであった。
NC0% 40.72加水分解性塩素
(HCと略す) 0.032%ガスクロマトグラフ純
度% 99.8 脱溶媒後のHCO,202g/100g −BCHI元
素分析 CI(N 計算値% 64.06 6.84 13.58実測値
% 64.11 6.89 13.47元素分析、T
Rスペクトル、NMRスペクトル等の結果より得られた
主留分は、目的物であることを確認した。また、主留分
の収率は理論値(1,62mol、334.2 g )
に対して91,7%であった。
(HCと略す) 0.032%ガスクロマトグラフ純
度% 99.8 脱溶媒後のHCO,202g/100g −BCHI元
素分析 CI(N 計算値% 64.06 6.84 13.58実測値
% 64.11 6.89 13.47元素分析、T
Rスペクトル、NMRスペクトル等の結果より得られた
主留分は、目的物であることを確認した。また、主留分
の収率は理論値(1,62mol、334.2 g )
に対して91,7%であった。
プロ クイソシアネ−A のム
製造例1
ヒ A−1の4
反応容器に窒素ガスを吹き込みながら、プラクセル30
8(ダイセル化学■製)を800部とトルエ7500部
を仕込み攪拌しながら80°C迄昇温し、α−(3−イ
ソシアナトフェニル)−エチルイソシアネート(以下I
EBIと略す”) 1664部を1時間かけて仕込んだ
、更に80°Cで4時間反応させた後、ε−カプロラク
タムを312部加え80℃で2時間反応させ樹!I!1
(A−1)を得た。
8(ダイセル化学■製)を800部とトルエ7500部
を仕込み攪拌しながら80°C迄昇温し、α−(3−イ
ソシアナトフェニル)−エチルイソシアネート(以下I
EBIと略す”) 1664部を1時間かけて仕込んだ
、更に80°Cで4時間反応させた後、ε−カプロラク
タムを312部加え80℃で2時間反応させ樹!I!1
(A−1)を得た。
製造例2
A−2のム
反応容器に窒素ガスを吹き込みながら、トリメチロール
プロパン134部とトルエン300部ヲ仕込み攪拌しな
がら80℃迄昇温させた後、IEB11410部を1時
間かけて仕込んだ後、4時間80°Cで反応させた。5
0℃まで冷却し、メチルエチルケトオキシム147部を
1時間かけて5分割で仕込み、更に1時間、50℃で反
応させ樹脂(A−2)を得た。
プロパン134部とトルエン300部ヲ仕込み攪拌しな
がら80℃迄昇温させた後、IEB11410部を1時
間かけて仕込んだ後、4時間80°Cで反応させた。5
0℃まで冷却し、メチルエチルケトオキシム147部を
1時間かけて5分割で仕込み、更に1時間、50℃で反
応させ樹脂(A−2)を得た。
製造例3
A−3のム
通常の方法で合成されたIEBIイソシアヌレート(不
揮発分50%、N00%9%)を500部とトルエン5
00部を仕込み、撹拌しながら50°C迄昇温した後、
メチルエチルケトオキシム95部を1時間かけて仕込み
、更に50℃1時間反応させ樹脂(A−3)を得た。
揮発分50%、N00%9%)を500部とトルエン5
00部を仕込み、撹拌しながら50°C迄昇温した後、
メチルエチルケトオキシム95部を1時間かけて仕込み
、更に50℃1時間反応させ樹脂(A−3)を得た。
製造例4
ヒ A−の人
反応容器に窒素ガスを吹き込みながらプラクセル308
を800部とトルエン500部を仕込み、攪拌しながら
80°C迄昇温した後トリレンジイソシアネ−)152
2部を1時間かけて滴下し、更に80°C2時間反応さ
せた。更にε−カプロラクタム339部を加え80°C
2時間反応させ樹脂(A−4)を得た。
を800部とトルエン500部を仕込み、攪拌しながら
80°C迄昇温した後トリレンジイソシアネ−)152
2部を1時間かけて滴下し、更に80°C2時間反応さ
せた。更にε−カプロラクタム339部を加え80°C
2時間反応させ樹脂(A−4)を得た。
製造例5
A−のA
反応容器に窒素ガスを吹き込みながら、トリメチロール
プロパン134部とトルエン300部、イソホロンジイ
ソシアネー) 1666部を仕込み攪拌しながら8時間
反応させた。次に50℃迄冷却した後、メチルエチルケ
トオキシム147部を1時間かけて5分割で仕込み、更
に1時間、50’Cで反応させ、樹脂(A−5)を得た
。
プロパン134部とトルエン300部、イソホロンジイ
ソシアネー) 1666部を仕込み攪拌しながら8時間
反応させた。次に50℃迄冷却した後、メチルエチルケ
トオキシム147部を1時間かけて5分割で仕込み、更
に1時間、50’Cで反応させ、樹脂(A−5)を得た
。
製造例6
A−のム
反応容器に窒素ガスを吹き込みながら、プラクセル30
8(ダイセル化学■製)を800部とトルエン500部
を仕込み攪拌しながら80°C迄昇温しBCHI(2,
5−異性体が約60%と2.6−異性体が約40%のジ
イソシアナトメチルビシクロ[2,1〕ヘプタンの混合
物、以下同じ、 ) 1802部を1時間かけて仕込ん
だ、更に80℃で4時間反応させた後、ε−カプロラク
タムを339部加え80℃で2時間反応させ樹脂(A−
6)を得た。
8(ダイセル化学■製)を800部とトルエン500部
を仕込み攪拌しながら80°C迄昇温しBCHI(2,
5−異性体が約60%と2.6−異性体が約40%のジ
イソシアナトメチルビシクロ[2,1〕ヘプタンの混合
物、以下同じ、 ) 1802部を1時間かけて仕込ん
だ、更に80℃で4時間反応させた後、ε−カプロラク
タムを339部加え80℃で2時間反応させ樹脂(A−
6)を得た。
製造例7
A−7の4
反応容器に窒素ガスを吹き込みながら、トリメチロール
プロパン134部とトルエン300部ヲ仕込み撹拌しな
がら80℃迄昇温させた後、BCH11546部を1時
間かけて仕込んだ後、4時間80℃で反応させた。50
℃まで冷却し、メチルエチルケトオキシム147部を1
時間かけて5分割で仕込み、更に1時間、50°Cで反
応さセ樹脂(A−7)を得た。
プロパン134部とトルエン300部ヲ仕込み撹拌しな
がら80℃迄昇温させた後、BCH11546部を1時
間かけて仕込んだ後、4時間80℃で反応させた。50
℃まで冷却し、メチルエチルケトオキシム147部を1
時間かけて5分割で仕込み、更に1時間、50°Cで反
応さセ樹脂(A−7)を得た。
製造例8
A−8のム
通常方法で合成されたBCHIイソシアヌレート(不揮
発分50%、NC0%8.8%)を500部とトルエン
500部を仕込み、攪拌しながら50°C迄昇温した後
、メチルエチルケトオキシム93部を1時間かけて仕込
み、更に50°C1時間反応させ樹脂(A−8)を得た
。
発分50%、NC0%8.8%)を500部とトルエン
500部を仕込み、攪拌しながら50°C迄昇温した後
、メチルエチルケトオキシム93部を1時間かけて仕込
み、更に50°C1時間反応させ樹脂(A−8)を得た
。
製造例9
A−9のム
反応容器に窒素ガスを吹き込みながらプラクセル308
を800部とトルエン500部を仕込み、攪拌しながら
80°C迄昇温した後トリレンジイソシアネーH522
部を1時間かけて滴下し、更に80”C2時間反応させ
た。更にε−カプロラクタム312部を加え80°C2
時間反応させ樹脂(A−9)を得た。
を800部とトルエン500部を仕込み、攪拌しながら
80°C迄昇温した後トリレンジイソシアネーH522
部を1時間かけて滴下し、更に80”C2時間反応させ
た。更にε−カプロラクタム312部を加え80°C2
時間反応させ樹脂(A−9)を得た。
製造例10
A−10のム
反応容器に窒素ガスを吹き込みながら、トリメチロール
プロパン134部とトルエン300部、イソホロンジイ
ソシアネート1666部を仕込み撹拌しながら8時間反
応させた。次に50°C迄冷却した後、メチルエチルケ
トオキシム147部を1時間かけて5分割で仕込み、更
に1時間、50℃で反応させ、樹脂(A−10)を得た
。
プロパン134部とトルエン300部、イソホロンジイ
ソシアネート1666部を仕込み撹拌しながら8時間反
応させた。次に50°C迄冷却した後、メチルエチルケ
トオキシム147部を1時間かけて5分割で仕込み、更
に1時間、50℃で反応させ、樹脂(A−10)を得た
。
3 アミノ び 4 八 B の人製造例1
1 B−のム 反応容器にブチルセロソルブ402部、エポキシ当量9
40のビスフェノールF型エポキシ樹脂940部を仕込
み、加温溶解させた。80℃に冷却してジェタノールア
ミン105部を投入し、4時間反応させて樹脂(B−1
)を得た。
1 B−のム 反応容器にブチルセロソルブ402部、エポキシ当量9
40のビスフェノールF型エポキシ樹脂940部を仕込
み、加温溶解させた。80℃に冷却してジェタノールア
ミン105部を投入し、4時間反応させて樹脂(B−1
)を得た。
製造例12
ヒ B−のA
反応容器に分子量1800、エポキシ当量250のポリ
ブタジェン型エポキシ樹脂1800部を仕込み、150
°Cに昇温して、ジェタノールアミン735部を投入し
5時間反応させた後、ブチルセロソルブ700部を仕込
み樹脂(B−2)を得た。
ブタジェン型エポキシ樹脂1800部を仕込み、150
°Cに昇温して、ジェタノールアミン735部を投入し
5時間反応させた後、ブチルセロソルブ700部を仕込
み樹脂(B−2)を得た。
製造例13
一人
反応容器にトルエン330部を仕込み還流攪拌下、スチ
レン200部、ブチルメタクリレート300部、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート100部、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート50部、アゾビスイソブチロニ
トリル20部を混合して、5時間かけて滴下重合させ、
更に100℃でアゾビスイソブチロニトリル20部を5
分割し1時間毎に仕込んだ後、更に2時間反応させて樹
D (B−3)を得た。
レン200部、ブチルメタクリレート300部、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート100部、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート50部、アゾビスイソブチロニ
トリル20部を混合して、5時間かけて滴下重合させ、
更に100℃でアゾビスイソブチロニトリル20部を5
分割し1時間毎に仕込んだ後、更に2時間反応させて樹
D (B−3)を得た。
実施例1〜10および比較例1〜9
第1表に記載した配合処方でカチオン電着組成物を調製
し、実施例および比較例について下記の様に鋼板に塗装
して焼付試験を行った。
し、実施例および比較例について下記の様に鋼板に塗装
して焼付試験を行った。
製造例で示した上記の樹脂(A)、樹脂(B)と硬化触
媒、顔料、エチルセロソルブを混合し、サンドグライン
ドミルで1時間分散した。
媒、顔料、エチルセロソルブを混合し、サンドグライン
ドミルで1時間分散した。
次に酢酸を加え十分に混合した後、脱イオン水を少しず
づ加えながらデイスパーを用いて乳化させ、塗料化を行
った。この様にして得られたカチオン電着塗料は常法に
従い、リン酸亜鉛処理した鋼板に塗装して、160℃、
180℃、200℃で20分間焼付た。塗装膜厚は20
±5μmである。
づ加えながらデイスパーを用いて乳化させ、塗料化を行
った。この様にして得られたカチオン電着塗料は常法に
従い、リン酸亜鉛処理した鋼板に塗装して、160℃、
180℃、200℃で20分間焼付た。塗装膜厚は20
±5μmである。
従来耐候性を重視すれば、180°C以上の焼付は温度
が必要になり、150°C焼付は温度まで低下させれば
耐候性が劣る欠点があったが、本発明によれば、150
°C焼付は温度条件下に於いても耐候性に優れるカチオ
ン電着塗料が得られる事が表−1及び表−2より明らか
である。
が必要になり、150°C焼付は温度まで低下させれば
耐候性が劣る欠点があったが、本発明によれば、150
°C焼付は温度条件下に於いても耐候性に優れるカチオ
ン電着塗料が得られる事が表−1及び表−2より明らか
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、α−(3−イソシアナトフェニル)−エチルイソシ
アネート或いは2,5−及び/又は2,6−ジイソシア
ナトメチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプタンまたはこれ
らイソシアネートの変成体より合成されるブロックイソ
シアネート(A)と3級アミノ基及び活性水素含有化合
物(B)とを、焼付け温度において、Aのブロックイソ
シアネートが外れ、解離するイソシアネート基(NCO
基)に対し、Bの活性水素(H)の当量比(H/NCO
基)が0.8〜1.3の割合で配合してなるカチオン電
着塗料組成物。 2、イソシアネートの変成体が、α−(3−イソシアナ
トフェニル)−エチルイソシアネートと水またはグリコ
ール、ポリオールとの反応により得られる活性イソシア
ネート基を有するプレポリマー、或いはα−(3−イソ
シアナトフェニル)−エチルイソシアネートの環状三量
化によって得られるイソシアヌレート結合を有するポリ
イソシアネートである請求項第1記載のカチオン電着塗
料組成物。 3、イソシアネートの変成体が、2,5−及び/又は2
,6−ジイソシアナトメチルビシクロ〔2,2,1〕ヘ
プタンと水またはグリコール、ポリオールとの反応によ
り得られる活性イソシアネート基を有するプレポリマー
、あるいは2,5−及び/又は2,6−ジイソシアナト
メチルビシクロ〔2,2,1〕ヘプタンの環状三量化に
よって得られるイソシアヌレート結合を有するポリイソ
シアネートである請求項第1記載のカチオン電着塗料組
成物。 4、3級アミノ基及び活性水素含有化合物が、ビスフェ
ノールA型エポキシ、ビスフェノールF型エポキシ、ポ
リブタジエン型エポキシ、ポリウレタン、アクリル、ポ
リエステル及び又はポリアミドから誘導される3級アミ
ノ基含有活性水素含有化合物である請求項第1記載のカ
チオン電着塗料組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2137028A JP2951691B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | カチオン電着組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2137028A JP2951691B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | カチオン電着組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0433969A true JPH0433969A (ja) | 1992-02-05 |
JP2951691B2 JP2951691B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=15189160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2137028A Expired - Lifetime JP2951691B2 (ja) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | カチオン電着組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2951691B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012153509A1 (ja) * | 2011-05-09 | 2012-11-15 | 三井化学株式会社 | アルデヒド化合物の製造方法 |
US11426762B2 (en) | 2015-12-31 | 2022-08-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Low bake autodeposition coatings |
-
1990
- 1990-05-29 JP JP2137028A patent/JP2951691B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012153509A1 (ja) * | 2011-05-09 | 2012-11-15 | 三井化学株式会社 | アルデヒド化合物の製造方法 |
JP5719021B2 (ja) * | 2011-05-09 | 2015-05-13 | 三井化学株式会社 | アルデヒド化合物の製造方法 |
US9227925B2 (en) | 2011-05-09 | 2016-01-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing aldehyde compounds |
US11426762B2 (en) | 2015-12-31 | 2022-08-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Low bake autodeposition coatings |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2951691B2 (ja) | 1999-09-20 |
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