JPH04339539A - 鋳造用中子の製造方法 - Google Patents

鋳造用中子の製造方法

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JPH04339539A
JPH04339539A JP11176491A JP11176491A JPH04339539A JP H04339539 A JPH04339539 A JP H04339539A JP 11176491 A JP11176491 A JP 11176491A JP 11176491 A JP11176491 A JP 11176491A JP H04339539 A JPH04339539 A JP H04339539A
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JP
Japan
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core
casting
zircon
chromite
mullite
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Withdrawn
Application number
JP11176491A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Watanabe
潔 渡辺
Shigeaki Yamamuro
山室 繁昭
Shigemitsu Matai
馬躰 重満
Toshiaki Tanaka
田中 俊彰
Hirofumi Furukawa
洋文 古河
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04339539A publication Critical patent/JPH04339539A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,鋳造用中子の製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来,鋳造用中子は,珪砂,ジルコン,
クロマイト等を骨材とし,フラン,フェノール等の有機
系バインダー,或いは水硝子等の無機系バインダーを使
用して造形していた。この鋳造用中子の製造方法では,
後述するように中子から発生するガスを除去するために
ガス抜きを行い,また中子の強度不足を補うために芯金
を中子内に設置するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の鋳造用中子
の製造方法には,次の問題があった。 (1)フラン,フェノール等の有機系結合材は,溶湯を
鋳込むと,結合材がガス化して,中子からガスが発生し
て,これが鋳物のガス欠陥の主因になるので,このガス
欠陥を低減するために,中子内にガス抜きを設置して,
造形している。そのため,高度な技術が必要な上に,造
形工数が増大する。またガス抜きを設置しても,ガス欠
陥を完全に防止することができない。 (2)水硝子等の無機系結合材を使用しても,結合水が
分離し,ガス化して,ガス欠陥になる。また鋳込後に中
子の焼結が進み,中子の崩壊性が悪くなって,鋳造用中
子の除去(型バラシ)に多くの時間を要するという問題
があった。
【0004】本発明は前記の問題点に鑑み提案するもの
であり,その目的とする処は,ガス欠陥の発生を防止で
きる。容易に製造できる上に,造形工数を低減できる。 さらに型バラシを迅速に,容易に行うことができる鋳造
用中子の製造方法を提供しようとする点にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに,本発明の鋳造用中子の製造方法は,ジルコン,ク
ロマイト,ムライト等を骨材とし,フラン,フェノール
等の有機系バインダーを結合材として所定形状の鋳造用
中子を造形した後,粒度が200メッシュ以下のアルミ
ナ,ジルコン,クロマイト,ムライト等のセラミック単
体若しくはこれらの混合体100部に対して次の結合材
,即ち,水酸化カリウム,水酸化ナトリウム等のアルカ
リ水溶液が5〜30重量%で残部がコロイダルシリカか
らなる結合材30〜70部を混合して得たスラリーを上
記鋳造用中子の表面に層状に付着,形成した後,乾燥,
焼成することを特徴としている。
【0006】
【作用】本発明の鋳造用中子の製造方法は前記のように
ジルコン,クロマイト,ムライト等を骨材とし,フラン
,フェノール等の有機系バインダーを結合材として所定
形状の鋳造用中子を造形した後,粒度が200メッシュ
以下のアルミナ,ジルコン,クロマイト,ムライト等の
セラミック単体若しくはこれらの混合体100部に対し
て次の結合材,即ち,水酸化カリウム,水酸化ナトリウ
ム等のアルカリ水溶液が5〜30重量%で残部がコロイ
ダルシリカからなる結合材30〜70部を混合して得た
スラリーを上記鋳造用中子の表面に層状に付着,形成し
た後,乾燥,焼成して,鋳造用中子を製造する。
【0007】
【実施例】次に本発明の鋳造用中子の製造方法を単純形
状中子の製造に適用した一実施例により説明する。通常
のジルコン砂を骨材とし,フラン樹脂をバインダーとし
て,図1に示す40×80×150mmの直方体の単純
形状中子1を造形する。
【0008】次いでこの単純形状中子1の幾つかを後記
表1に示す組成のスラリー中に大気圧下で所定時間浸漬
する。また残りの幾つかの単純形状中子1の表面に同ス
ラリーを刷毛により所定回数塗布する。次いでこの含浸
中子1を100°Cの大気雰囲気中で1時間乾燥し,さ
らに大気中で1000°Cに加熱し,この温度を1時間
保持し,その後,炉外へ取り出して,冷却した。
【0009】この中子1を切断して,断面の含浸層及び
硬化層の厚さを調査したところ,図2,3の結果を得た
。図2は,浸漬した場合の硬化層の厚さと浸漬時間との
関係を示している。また図3は,塗布した場合の硬化層
の厚さと塗布回数との関係を示している。また図4は,
60秒間浸漬した場合の焼成後の中子の断面の状態を示
している。3が含浸部(硬化層),4がフリーサンド化
部である。この場合,含浸部(硬化層)3の内部のフリ
ーサンド化部4では,バインダー(フラン樹脂)が気化
或いは燃焼して,骨材のジルコンが流動性を有している
(フリーサンド化している)。
【0010】またコロイダルシリカをバインダーとした
ジクコンスラリーを含浸させる前の中子及び上記スラリ
ーを含浸後,1000°Cで一時間焼成した含浸中子の
硬化層及びフリーサンド部の1部を1300°Cまで熱
分析,即ち,熱重量測定したところ,図5の結果を得た
。図5に示すように含浸・焼成しない中子では,凡そ配
合したバインダー量に見合う量の重量減少が見られたが
,含浸・焼成した中子では,重量減少が殆ど見られなか
った。即ち,含浸・焼成した中子は,溶湯鋳込後のガス
発生が殆ど認められなかった。図5の5は従来のフラン
中子(乾燥後)の特性を示している。
【0011】従来のようにフラン樹脂をバインダーとす
るフラン中子を使用して,製作した鋳物(鋳込重量50
kg,材質SCS13のポンプ用インペラ)と,本発明
のようにフラン樹脂をバインダとするジルコン中子を上
記ジルコンスラリー中に60秒間浸漬した後,乾燥,焼
成して得た含浸中子を使用して,製作した上記鋳物とを
比較したところ,従来のフラン中子を使用して製作した
鋳物のうち,中子に接触する鋳物の表面に多数のガス状
欠陥が発生したが,本発明の中子を使用して製作した鋳
物のうち,中子に接触する鋳物の表面に僅か2個の比較
的小さなガス欠陥が認められたものの,大きなガス欠陥
は認められなかった。
【0012】なお本実施例では,中子造形用骨材(砂)
及び含浸用スラリーの骨材としてジルコンを使用してい
るが,800〜1200°Cに加熱,冷却しても,著し
い膨張,収縮がないセラミックであれば,ジルコンに限
定されず,ジルコン以外のクロツイト,ムライト,アル
ミナ等を使用しても差し支えない。但し含浸用スラリー
中のセラミック粒度は,分散性及び中子への含浸性(浸
透性)の観点から細粒である必要があり,望ましくは2
00メッシュ以下の細粒にする。
【0013】中子の強度(曲げ強度)は,含浸層の厚さ
に依存するため,中子の形状が例えば溶湯の浮力により
中子に大きなモーメントが作用する形状の場合には,含
浸層の厚さを厚くする必要がある。含浸層の厚さは,含
浸させるスラリーの粘度とよび図2に示す浸漬時間,図
3に示す塗布回数により調整する。
【0014】
【表1】
【0015】
【発明の効果】本発明の鋳造用中子の製造方法は前記の
ようにジルコン,クロマイト,ムライト等を骨材とし,
フラン,フェノール等の有機系バインダーを結合材とし
て所定形状の鋳造用中子を造形した後,粒度が200メ
ッシュ以下のアルミナ,ジルコン,クロマイト,ムライ
ト等のセラミック単体若しくはこれらの混合体100部
に対して次の結合材,即ち,水酸化カリウム,水酸化ナ
トリウム等のアルカリ水溶液が5〜30重量%で残部が
コロイダルシリカからなる結合材30〜70部を混合し
て得たスラリーを上記鋳造用中子の表面に層状に付着,
形成した後,乾燥,焼成して,鋳造用中子を製造するの
で,鋳込時,中子からのガス発生量が極めて少なくて,
ガス欠陥の発生を防止できる。
【0016】また鋳造用中子内にガス抜きを設置する必
要がなくて,鋳造用中子を容易に製造できる上に,造形
工数を低減できる。また鋳造用中子内がフリーサンド化
しており,中子の崩壊性が良好で,型バラシを迅速に,
容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の鋳造用中子の製造方法で製作する中子
の一例の初期状態を示す斜視図である。
【図2】本発明の鋳造用中子の製造時のスラリー含浸深
さと浸漬時間との関係を示す説明図である。
【図3】本発明の鋳造用中子の製造時のスラリー含浸深
さと塗布回数との関係を示す説明図である。
【図4】本発明の鋳造用中子の製造後の中子の断面状態
を示す斜視図である。
【図5】本発明の鋳造用中子の製造後の中子の熱重量測
定結果を示す説明図である。
【符号の説明】
1  鋳造用中子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ジルコン,クロマイト,ムライト等を
    骨材とし,フラン,フェノール等の有機系バインダーを
    結合材として所定形状の鋳造用中子を造形した後,粒度
    が200メッシュ以下のアルミナ,ジルコン,クロマイ
    ト,ムライト等のセラミック単体若しくはこれらの混合
    体100部に対して次の結合材,即ち,水酸化カリウム
    ,水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液が5〜30重量
    %で残部がコロイダルシリカからなる結合材30〜70
    部を混合して得たスラリーを上記鋳造用中子の表面に層
    状に付着,形成した後,乾燥,焼成することを特徴とし
    た鋳造用中子の製造方法。
JP11176491A 1991-05-16 1991-05-16 鋳造用中子の製造方法 Withdrawn JPH04339539A (ja)

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JP11176491A JPH04339539A (ja) 1991-05-16 1991-05-16 鋳造用中子の製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1049817B1 (en) * 1998-01-20 2006-11-02 MOLTECH Invent S.A. Slurry for coating non-carbon metal-based anodes for aluminium production cells

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1049817B1 (en) * 1998-01-20 2006-11-02 MOLTECH Invent S.A. Slurry for coating non-carbon metal-based anodes for aluminium production cells

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