JPH04336476A - 微小駆動機構およびその製造方法 - Google Patents

微小駆動機構およびその製造方法

Info

Publication number
JPH04336476A
JPH04336476A JP3107708A JP10770891A JPH04336476A JP H04336476 A JPH04336476 A JP H04336476A JP 3107708 A JP3107708 A JP 3107708A JP 10770891 A JP10770891 A JP 10770891A JP H04336476 A JPH04336476 A JP H04336476A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
substrate
conductive
photoconductive layer
photoconductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP3107708A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Shimizu
敦 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP3107708A priority Critical patent/JPH04336476A/ja
Publication of JPH04336476A publication Critical patent/JPH04336476A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Micromachines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、静電力を利用して駆
動させられる微小駆動機構およびその製造方法に関する
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】集積
回路製作のための技術を利用して、基板上に微小な機械
システムを形成するマイクロマシニング技術が注目され
ている。このような技術は、たとえば、電学誌、110
巻75、平成2年、p571〜574に紹介されている
。微小な機械システムすなわち微小駆動機構は、たとえ
ばシリコン結晶を材料として数ミクロンから1mm程度
の大きさのものが研究されており、その駆動には、圧電
、熱膨張および静電力等が用いられる。圧電を利用した
ものの中には、走査型トンネル顕微鏡のピエゾ薄膜によ
る圧電を用いた針のように実用化されているものも存在
する。
【0003】一方、静電力により駆動される機構は、た
とえば、基板に誘電層を介して導電性の駆動層が形成さ
れた構造を有している。基板と駆動層の間に十分大きな
静電力を発生させるためには、100〜300V程度の
電圧が必要とされる。しかし、このような高電圧を基板
と駆動層に直接印加することは困難であるため、従来、
電圧の印加は、たとえば、高耐圧FETによるスイッチ
ング機構を介して行なわれていた。このため、静電力を
利用して駆動される従来の微小駆動機構は、電圧の印加
に必要な機構が複雑となっていた。
【0004】この発明の目的は、電圧の印加に必要な機
構を単純なものにして、より簡単な構造で駆動が可能な
微小駆動機構およびその製造方法を提供することにある
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明に従う微小駆動
機構は、導電性の基板上に複数の層状体が堆積された構
造を有するものであって、層状体の1つとして、少なく
とも端部が基板に対して略垂直方向に駆動可能に設けら
れる導電性の駆動層と、層状体のもう1つとして、基板
と駆動層との間の電位差を光電導効果により変化させる
ための光電導層と、光電導層に光を照射するための光源
とを備えている。
【0006】この発明に従う微小駆動機構に必要な光源
は、たとえば発光ダイオードまたは半導体レーザとする
ことができる。
【0007】この発明に従う微小駆動機構の製造方法は
、導電性の基板上に光電導性を有する光電導層を形成す
る工程と、光電導層上に導電層を形成する工程と、導電
層の形成後、光電導層の一部で導電層が支持され、かつ
導電層が光電導層から張出した構造を形成するため、光
電導層の一部を選択的にエッチングする工程とを備えて
いる。
【0008】
【作用】この発明に従う微小駆動機構は、基板上に複数
の層状体が堆積された構造を有し、層状体には駆動層お
よび光電導層が含まれている。また、駆動層の端部は、
基板に対して略垂直方向に駆動可能に設けられている。 したがって、基板と駆動層の間にたとえば直流電源から
電圧が印加されると、静電力のため駆動層は基板に対し
て位置を変える。次に、層状体の1つとして設けられる
光電導層に光源から光が照射されると、光電導効果によ
って基板と駆動層との間の電位差は変化する。電位差が
変化すれば、駆動層に働く静電力が変化するので、駆動
層は再び移動する。次に光の照射をやめると、光導電効
果が消失し、基板と駆動層の間の電位差がもとの大きさ
となるので、駆動層に働く静電力はもとの大きさとなる
。そこで、再び駆動層は静電力と釣り合うよう移動する
。このようにして、光源の点滅によって駆動層を移動さ
せることができる駆動機構が実現される。
【0009】また、この発明に従う駆動機構の製造方法
では、まず、導電性の基板上に光電導性を有する光電導
層を形成し、さらに光電導層の上に導電層を形成する。 次に、光電導層の一部で導電層が支持され、かつ導電層
が光電導層から張出した構造が形成されるように光電導
層の一部を選択的にエッチングする。その結果、光電導
層により導電層が基板上に支持された構造を形成するこ
とができる。導電層は光電導層から張出しているので、
張出した端部は運動が可能である。
【0010】この方法により形成された機構において、
基板と導電層の間に電圧を印加すると、光電導層に光を
照射しないならば、光電導層は高い抵抗値を有するので
、基板と導電層の間に大きな静電力が働く。このため、
導電層の張出した部分は、基板に引寄せられる。一方、
光電導層に光が照射されると、その抵抗は減少し、基板
と導電層の間に働く静電力が弱まる。その結果、基板に
近づいていた導電層はもとに戻るようになる。このよう
にして、上記製造方法により製造された機構は、光の点
滅による駆動機構を備えるようになる。
【0011】
【実施例】図1は、この発明に従う微小駆動機構の一具
体例を示す断面図である。図1を参照して、微小駆動機
構10において、裏面に電極6が形成された基板4上に
は、光電導層3が形成され、光電導層3上には導電性の
駆動層1が形成されている。図に示すように、駆動層1
は光電導層3から基板4に対して平行に張出している。 また、駆動層1上には、電極7が設けられ、電極7には
抵抗2を介して直流電源が接続されている。一方、基板
4の裏に形成された電極6は接地されている。さらに、
駆動層1の上方には発光ダイオードを備える光源5が設
けられ、光電導層の方向に向けられている。
【0012】このように構成される微小駆動機構は、光
源5が点灯していない場合、光電導層3が高い抵抗を有
するので、基板4と駆動層1の間に強い静電力が発生し
、駆動層1は基板4の方向に引寄せられる。一方、光源
5が点灯すると、光電導効果により光電導層3の抵抗が
小さくなり、基板4と駆動層1の間の静電力は弱まる。 したがって、基板4の方向に引寄せられていた駆動層1
はもとに戻るようになる。このように光源を点滅させる
と、駆動層1が引寄せられたりもとに戻ったりする。
【0013】また、この発明に従う微小駆動機構は図2
に示すような構成とすることもできる。この微小駆動機
構20では、裏面に電極6が形成された基板4上に絶縁
層9が形成され、絶縁層9上に導電性の駆動層1が形成
されている。駆動層1は図1に示す機構と同様に絶縁層
9から基板4に対して平行に張出している。駆動層1の
上には、光電導層3が形成され、光電導層3は電極7を
介して直流電源に接続されている。一方、基板4の裏に
設けられた電極6は接地されている。また、駆動層1と
基板4は抵抗12を介して電気的に接続されている。さ
らに、光電導層3の上方には発光ダイオードを備える光
源5が設けられ、光電導層3に向けられている。
【0014】このように構成される微小駆動機構20は
、光源5が点灯していない場合、静電力により基板と駆
動層が反発する一方、光源5を点灯すると光電導層3の
抵抗が小さくなって、駆動層1は基板4に引寄せられる
ようになる。このようにして、図1に示す装置とは逆の
方向に駆動層が駆動する機構が実現される。
【0015】次に、この発明に従う微小駆動機構の製造
方法について一具体例を以下に示す。まず、図3(a)
に示すように、Zn添加p型GaAs基板30上に、2
μmの厚さのp型AlGaAs層31、4μmの厚さの
Cr添加GaAs層32および3μmの厚さのZn添加
P型AlGaAs層33を順次LPE法により堆積し、
さらにその上に10μm角のAu合金を蒸着して電極3
4を形成した。また、基板30の裏面にもAu合金を蒸
着して電極(図示せず)を形成した。次に、図3(b)
に示すように、電極34付近と、そこから突出する幅1
0μm、長さ80μmの長方形の部分にフォトリソグラ
フィ技術を用いて保護膜35を形成した。その後、塩素
系エッチングを行ない、Zn添加p型AlGaAs層3
3のうち保護膜35に覆われていない部分を除去した。 図3(c)に除去後の構造を示す。次に、アンモニア水
−過酸化水素系のエッチングによって、Cr添加GaA
s層32のうち電極34付近以外の部分を除去すると、
図3(d)に示すようなZn添加p型AlGaAsから
なる幅10μm、厚さ3μm、長さ80μmの駆動層3
6が形成された。保護膜を除去した後、電極34に1M
Ωの固定抵抗を介して電極を接続し、裏面の電極を接地
して図1に示す機構と同様の微小駆動機構を製作した。
【0016】この機構に電源より100Vの電圧を印加
したところ、駆動層36の端部は基板の方向に撓んだ。 レーザ反射を用いて駆動層36の変位角を測定すると約
0.15度であった。次に、発光ダイオードを点灯して
Cr添加GaAs層32に照射すると、駆動層36はも
との位置に戻った。高速で発光ダイオードを点滅させた
ところ、10kHz以上の繰り返しにも十分に応答する
機構であることが確認された。
【0017】
【発明の効果】以上示してきたように、この発明に従う
微小駆動機構は、電圧の印加のために特に複雑な機構を
必要とせず、しかも光源の点滅という非常に簡単なスイ
ッチングによって駆動されるものである。そして、上述
してきたようにこの発明に従う微小駆動機構は、その構
造が非常にシンプルである。この機構は直流電圧を印加
したまま光源の点滅によって高速の動作が可能であるた
め、光学系の光路の切換えおよび磁気ヘッドの駆動など
、数ミクロンからそれ以下の微小な運動が必要な機構に
有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に従う微小駆動機構の一具体例を示す
断面図である。
【図2】この発明に従う微小駆動機構のもう1つの具体
例を示す断面図である。
【図3】この発明に従う微小駆動機構の製造工程につい
て、一具体例を示す斜視図である。
【符号の説明】
1  駆動層 3  光電導層 4  基板 5  光源

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  導電性の基板上に複数の層状体が堆積
    された構造を有する微小駆動機構であって、前記層状体
    の1つとして、少なくとも端部が前記基板に対して略垂
    直方向に駆動可能に設けられる導電性の駆動層と、前記
    層状体の1つとして、前記基板と前記駆動層との間の電
    位差を光電導効果により変化させるための光電導層と、
    前記光電導層に光を照射するための光源とを備える微小
    駆動機構。
  2. 【請求項2】  前記光源が、発光ダイオードおよび半
    導体レーザの少なくともいずれかを備える請求項1の微
    小駆動機構。
  3. 【請求項3】  導電性の基板上に光電導性を有する光
    電導層を形成する工程と、前記光電導層上に導電層を形
    成する工程と、前記導電層の形成後、前記光電導層の一
    部で前記導電層が支持され、かつ前記導電層が前記光電
    導層から張出した構造を形成するため、前記光電導層の
    一部を選択的にエッチングする工程とを備える微小駆動
    機構の製造方法。
JP3107708A 1991-05-14 1991-05-14 微小駆動機構およびその製造方法 Withdrawn JPH04336476A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3107708A JPH04336476A (ja) 1991-05-14 1991-05-14 微小駆動機構およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3107708A JPH04336476A (ja) 1991-05-14 1991-05-14 微小駆動機構およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04336476A true JPH04336476A (ja) 1992-11-24

Family

ID=14465937

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3107708A Withdrawn JPH04336476A (ja) 1991-05-14 1991-05-14 微小駆動機構およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04336476A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113579823A (zh) * 2021-08-13 2021-11-02 珠海格力电器股份有限公司 机床进给系统和数控机床

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113579823A (zh) * 2021-08-13 2021-11-02 珠海格力电器股份有限公司 机床进给系统和数控机床

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7130099B2 (en) Micromirror unit with torsion connector having nonconstant width
US6180428B1 (en) Monolithic scanning light emitting devices using micromachining
US6116756A (en) Monolithic scanning light emitting devices
JP4732876B2 (ja) アクチュエータ、アクチュエータモジュールおよびアクチュエータモジュール製造方法
JP2744877B2 (ja) マイクロ・ミニチュア構造の組立方法
US6781279B2 (en) Micro-actuator with interdigitated combs perpendicular to a base
TWI238553B (en) A piezoelectric device and a method making the same, and a memory device having the same
US5357108A (en) Cantilever type displacement element, and scanning tunneling microscope or information processing apparatus using same
JPH0690005B2 (ja) 走査型トンネル効果顕微鏡
WO2003096388A9 (en) Micro-mechanical system employing electrostatic actuator and fabrication methods of same
KR20010060300A (ko) 내부에 팝업 거울들을 가지는 집적 광전 소자와 그 형성및 동작 방법
JP2003270558A (ja) 光偏向器及び電磁型アクチュエータ
JPH05253870A (ja) マイクログリッパー
JPH0721968A (ja) カンチレバー型変位素子、及びこれを用いたカンチレバー型プローブ、及びこれを用いた走査型探針顕微鏡並びに情報処理装置
JP2003526903A (ja) 差動型pztアクチベータの電極パターンの形成
JP2001042233A (ja) 光スイッチ
JPH04336476A (ja) 微小駆動機構およびその製造方法
US5717132A (en) Cantilever and process for fabricating it
JP2002189176A (ja) ミラー駆動装置
JPH04325882A (ja) アクチュエータ
JPH10313008A (ja) 微細パターンの形成方法及び該微細パターンを有する電気素子
JPH11346482A (ja) 静電アクチュエータとその製造方法
KR20020025592A (ko) 광 스위칭을 위한 마이크로 액추에이터 및 그 제조방법
US20230241637A1 (en) Pattern forming apparatus
KR100857313B1 (ko) 정전기력을 이용하여 구동되는 나노 트위저 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19980806