JPH04334861A - 電子分光画像測定方式 - Google Patents
電子分光画像測定方式Info
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- JPH04334861A JPH04334861A JP3105341A JP10534191A JPH04334861A JP H04334861 A JPH04334861 A JP H04334861A JP 3105341 A JP3105341 A JP 3105341A JP 10534191 A JP10534191 A JP 10534191A JP H04334861 A JPH04334861 A JP H04334861A
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オージェ電子分光装置
、光電子分光装置等の電子分光装置に係り、特に、試料
面上での特定の電子エネルギー分布画像を得るための電
子分光画像測定方式に関する。
、光電子分光装置等の電子分光装置に係り、特に、試料
面上での特定の電子エネルギー分布画像を得るための電
子分光画像測定方式に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図４に示すように、同心球面型電
子エネルギー分光器（ＨＳＡ）１と、複数段の静電レン
ズ３からなるインプットレンズ２とを備える電子分光装
置が知られている。図４において、試料４から放出され
たオージェ電子あるいは光電子（以下、これらを総称し
て単に電子と称す）はインプットレンズ２により減速さ
れて入射スリット５上に収束される。入射スリット５を
通過した電子の中の、ＨＳＡ１の内側電極６、外側電極
７に印加されている電圧に対応する運動エネルギー（以
下、単にエネルギーと称す）を有する電子は図に示すよ
うに検出スリット８に収束され、検出器９で検出される
。そして、インプットレンズ２の各静電レンズ３に印加
する電圧を掃引することによって、図５に示すようなエ
ネルギースペクトルを得ることができる。なお、図５に
おいてＩＰ はエネルギースペクトルのピーク強度を示
し、ＩＢ はバックグランド強度を示している。
子エネルギー分光器（ＨＳＡ）１と、複数段の静電レン
ズ３からなるインプットレンズ２とを備える電子分光装
置が知られている。図４において、試料４から放出され
たオージェ電子あるいは光電子（以下、これらを総称し
て単に電子と称す）はインプットレンズ２により減速さ
れて入射スリット５上に収束される。入射スリット５を
通過した電子の中の、ＨＳＡ１の内側電極６、外側電極
７に印加されている電圧に対応する運動エネルギー（以
下、単にエネルギーと称す）を有する電子は図に示すよ
うに検出スリット８に収束され、検出器９で検出される
。そして、インプットレンズ２の各静電レンズ３に印加
する電圧を掃引することによって、図５に示すようなエ
ネルギースペクトルを得ることができる。なお、図５に
おいてＩＰ はエネルギースペクトルのピーク強度を示
し、ＩＢ はバックグランド強度を示している。
【０００３】ところで電子分光装置を用いた最も基本的
な分析方法は、上述したように試料表面の所望の領域を
電子線またはＸ線等の励起源で励起し、試料から放出さ
れるオージェ電子または光電子のエネルギースペクトル
を測定することによって、試料の組成あるいは化学状態
に関する情報を得るというものであるが、組成あるいは
化学状態に関する２次元的な情報、即ち試料面における
組成分布あるいは化学状態の分布を得るために、励起源
を走査し、試料面上の各点において着目する電子エネル
ギーのスペクトル強度を求め、２次元画像を得ることも
行われている。例えば光電子分光装置においては、試料
の広い範囲に均一にＸ線を照射し、光電子の取り込み位
置を走査することが行われている。これによって特定の
エネルギーを有する光電子が試料上のどのような領域か
ら放出されているか、その分布を知ることができ、以て
組成分布あるいは化学状態の分布を知ることができる。
な分析方法は、上述したように試料表面の所望の領域を
電子線またはＸ線等の励起源で励起し、試料から放出さ
れるオージェ電子または光電子のエネルギースペクトル
を測定することによって、試料の組成あるいは化学状態
に関する情報を得るというものであるが、組成あるいは
化学状態に関する２次元的な情報、即ち試料面における
組成分布あるいは化学状態の分布を得るために、励起源
を走査し、試料面上の各点において着目する電子エネル
ギーのスペクトル強度を求め、２次元画像を得ることも
行われている。例えば光電子分光装置においては、試料
の広い範囲に均一にＸ線を照射し、光電子の取り込み位
置を走査することが行われている。これによって特定の
エネルギーを有する光電子が試料上のどのような領域か
ら放出されているか、その分布を知ることができ、以て
組成分布あるいは化学状態の分布を知ることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示すような構成においては２次元画像を得る場合には一
つの画素についてピーク強度とバックグランド強度とを
それぞれ測定しなければならないので、一つの画像を得
るために長時間を要していた。即ち２次元画像の一つ一
つの画素に関して有効な情報は図５の（ＩＰ−ＩＢ）の
値であるが、図４に示す構成では一時にはピーク強度Ｉ
Ｐ とバックグランド強度ＩＢ を同時に検出すること
はできないので、例えば、まずピーク強度ＩＰ を測定
し、次にインプットレンズ２に印加する電圧を変更して
バックグランド強度ＩＢ を測定し、更にそれらの差を
得る操作を画素毎に繰り返さなければならないものであ
った。本発明は、上記の課題を解決するものであって、
２次元画像を得るために必要な情報の測定を短時間で行
うことができる電子分光画像測定方式を提供することを
目的とするものである。
示すような構成においては２次元画像を得る場合には一
つの画素についてピーク強度とバックグランド強度とを
それぞれ測定しなければならないので、一つの画像を得
るために長時間を要していた。即ち２次元画像の一つ一
つの画素に関して有効な情報は図５の（ＩＰ−ＩＢ）の
値であるが、図４に示す構成では一時にはピーク強度Ｉ
Ｐ とバックグランド強度ＩＢ を同時に検出すること
はできないので、例えば、まずピーク強度ＩＰ を測定
し、次にインプットレンズ２に印加する電圧を変更して
バックグランド強度ＩＢ を測定し、更にそれらの差を
得る操作を画素毎に繰り返さなければならないものであ
った。本発明は、上記の課題を解決するものであって、
２次元画像を得るために必要な情報の測定を短時間で行
うことができる電子分光画像測定方式を提供することを
目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の電子分光画像測定方式は、インプットレ
ンズと、同心球面型電子エネルギー分光器と、複数の検
出器を備える電子分光装置において、前記インプットレ
ンズに印加する電圧を指定されたパスエネルギーと入射
電子エネルギーに基づいて設定することを特徴とする。
めに、本発明の電子分光画像測定方式は、インプットレ
ンズと、同心球面型電子エネルギー分光器と、複数の検
出器を備える電子分光装置において、前記インプットレ
ンズに印加する電圧を指定されたパスエネルギーと入射
電子エネルギーに基づいて設定することを特徴とする。
【０００６】
【作用】制御装置１０は入力装置１２から電子エネルギ
ー及びパスエネルギーが指示されると、指示されたパス
エネルギーからＨＳＡ１に印加する電圧を求めると共に
、レンズ電圧設定テーブル１１を参照して、レンズ電圧
ＶＬ１，ＶＬ２を求める。これによって、ＨＳＡ１の内
側電極６、外側電極７には指示されたパスエネルギーに
対応する＋ＶＡ ，−ＶＡ が印加され、また静電レン
ズ３２，３３ には、それぞれ、指示された電子エネル
ギー及びパスエネルギーに最適なレンズ電圧ＶＬ１，Ｖ
Ｌ２が印加される。
ー及びパスエネルギーが指示されると、指示されたパス
エネルギーからＨＳＡ１に印加する電圧を求めると共に
、レンズ電圧設定テーブル１１を参照して、レンズ電圧
ＶＬ１，ＶＬ２を求める。これによって、ＨＳＡ１の内
側電極６、外側電極７には指示されたパスエネルギーに
対応する＋ＶＡ ，−ＶＡ が印加され、また静電レン
ズ３２，３３ には、それぞれ、指示された電子エネル
ギー及びパスエネルギーに最適なレンズ電圧ＶＬ１，Ｖ
Ｌ２が印加される。
【０００７】
【実施例】まず、本発明の原理について説明する。ピー
ク強度ＩＰ とバックグランド強度ＩＢ を同時に検出
するためには、ＨＳＡ１の出射口に複数の検出器９をエ
ネルギースペクトルの分散方向に配置すればよい。図１
Ａはその例を示す図であり、ピーク強度ＩＰ は検出器
９Ａ の出力から得ることができ、またバックグランド
強度ＩＢ は検出器９Ｂ の出力から得ることができる
。しかしこのとき、エネルギースペクトルの分布が広す
ぎたり、あるいは逆に狭すぎたりしないようにする必要
がある。例えば図１Ｂに示すようにピークが狭い場合に
はピーク強度ＩＰ とバックグランド強度ＩＢ とを同
時に測定することはできるが、ピーク強度ＩＰ を検出
するのは一つか二つの検出器であり、その他の殆どの検
出器はバックグランド強度ＩＢ を検出することになる
ので、検出信号が有効に利用されず、感度が低いもので
あり、また、図１Ｃに示すようにピークの幅が広い場合
にはバックグランド強度ＩＢ が同時には得られないの
で上述した問題がある。 従って、図１Ｄに示すようにピーク強度ＩＰ 及びバッ
クグランド強度ＩＢ を同時に測定でき、且つ全ての検
出器の出力を有効に使用できることが望まれる。即ち図
１Ｄに示すスペクトルが達成できれば、中央部の検出器
でピーク強度ＩＰ を測定することができ、両端部の検
出器でバックグランド強度ＩＢ を測定することができ
るので、全ての検出器出力を有効に使用することができ
、感度が良好である。そのためには、着目する全てのパ
スエネルギーに対して検出器位置でのスペクトルが図１
Ｄに示すような分布となるようにするために、スペクト
ルをシフトできること、即ち、図１Ｄ中のＰで示すピー
クを検出する検出器の位置を同図の左右方向に調整可能
なこと、及びエネルギー分散を変化させることができる
こと、即ち図１Ｄ中のＷで示すピークの幅、例えば半値
幅を変化させることができることが必要となる。
ク強度ＩＰ とバックグランド強度ＩＢ を同時に検出
するためには、ＨＳＡ１の出射口に複数の検出器９をエ
ネルギースペクトルの分散方向に配置すればよい。図１
Ａはその例を示す図であり、ピーク強度ＩＰ は検出器
９Ａ の出力から得ることができ、またバックグランド
強度ＩＢ は検出器９Ｂ の出力から得ることができる
。しかしこのとき、エネルギースペクトルの分布が広す
ぎたり、あるいは逆に狭すぎたりしないようにする必要
がある。例えば図１Ｂに示すようにピークが狭い場合に
はピーク強度ＩＰ とバックグランド強度ＩＢ とを同
時に測定することはできるが、ピーク強度ＩＰ を検出
するのは一つか二つの検出器であり、その他の殆どの検
出器はバックグランド強度ＩＢ を検出することになる
ので、検出信号が有効に利用されず、感度が低いもので
あり、また、図１Ｃに示すようにピークの幅が広い場合
にはバックグランド強度ＩＢ が同時には得られないの
で上述した問題がある。 従って、図１Ｄに示すようにピーク強度ＩＰ 及びバッ
クグランド強度ＩＢ を同時に測定でき、且つ全ての検
出器の出力を有効に使用できることが望まれる。即ち図
１Ｄに示すスペクトルが達成できれば、中央部の検出器
でピーク強度ＩＰ を測定することができ、両端部の検
出器でバックグランド強度ＩＢ を測定することができ
るので、全ての検出器出力を有効に使用することができ
、感度が良好である。そのためには、着目する全てのパ
スエネルギーに対して検出器位置でのスペクトルが図１
Ｄに示すような分布となるようにするために、スペクト
ルをシフトできること、即ち、図１Ｄ中のＰで示すピー
クを検出する検出器の位置を同図の左右方向に調整可能
なこと、及びエネルギー分散を変化させることができる
こと、即ち図１Ｄ中のＷで示すピークの幅、例えば半値
幅を変化させることができることが必要となる。
【０００８】ところで、図４の構成において、検出器９
で検出される電子のエネルギーＥｋｉｎ は、インプッ
トレンズ２に印加するリターディング電圧を−ＶＲ ，
パスエネルギーをＥｐａｓ として下記の （１）式で
表されることが知られている。 Ｅｋｉｎ＝ＶＲ＋Ｅｐａｓ
…（１）従って、パスエネルギーＥｐａ
ｓ が一定である場合にはリターディング電圧−ＶＲ
を変化させることによって検出される電子のエネルギー
Ｅｋｉｎ を変えることができることが分かる。これは
即ち、図１に示すように検出器を複数個配置した場合に
は、リターディング電圧−ＶＲを変化させることによっ
て図１ＤのＰで示すピーク位置を変化させることができ
ることを意味する。また、検出器位置におけるエネルギ
ー分散△ＥはパスエネルギーＥｐａｓ に比例すること
が知られている。即ち、ｋを係数として△Ｅ＝ｋ・Ｅｐ
ａｓ
…（２）が成り立つ。従って、分光するエネルギーを
変化させずにエネルギー分散を変化させるためには、ま
ず （２）式に従って所望のエネルギー分散△Ｅを生じ
させるためのパスエネルギーＥｐａｓ を求め、その求
められたＥｐａｓ を （１）式に代入し、更にエネル
ギーＥｋｉｎ を元の値に固定して （１）式を満足す
るリターディング電圧−ＶＲ を求め、その求められた
リターディング電圧をインプットレンズ２に印加すれば
よい。
で検出される電子のエネルギーＥｋｉｎ は、インプッ
トレンズ２に印加するリターディング電圧を−ＶＲ ，
パスエネルギーをＥｐａｓ として下記の （１）式で
表されることが知られている。 Ｅｋｉｎ＝ＶＲ＋Ｅｐａｓ
…（１）従って、パスエネルギーＥｐａ
ｓ が一定である場合にはリターディング電圧−ＶＲ
を変化させることによって検出される電子のエネルギー
Ｅｋｉｎ を変えることができることが分かる。これは
即ち、図１に示すように検出器を複数個配置した場合に
は、リターディング電圧−ＶＲを変化させることによっ
て図１ＤのＰで示すピーク位置を変化させることができ
ることを意味する。また、検出器位置におけるエネルギ
ー分散△ＥはパスエネルギーＥｐａｓ に比例すること
が知られている。即ち、ｋを係数として△Ｅ＝ｋ・Ｅｐ
ａｓ
…（２）が成り立つ。従って、分光するエネルギーを
変化させずにエネルギー分散を変化させるためには、ま
ず （２）式に従って所望のエネルギー分散△Ｅを生じ
させるためのパスエネルギーＥｐａｓ を求め、その求
められたＥｐａｓ を （１）式に代入し、更にエネル
ギーＥｋｉｎ を元の値に固定して （１）式を満足す
るリターディング電圧−ＶＲ を求め、その求められた
リターディング電圧をインプットレンズ２に印加すれば
よい。
【０００９】以上のことから、常に図１Ｄに示すような
スペクトルを得るためには、指示された電子のエネルギ
ーＥｋｉｎ とパスエネルギーＥｐａｓ に対して最適
なインプットレンズ電圧、即ちリターディング電圧を選
択できる手段を備えればよいことが分かる。なお、選択
されたインプットレンズ電圧は、インプットレンズに入
射した電子を入射スリットの位置に収束させることので
きるものである必要があることは当然である。そのため
の手段としては、例えば、電子のエネルギーＥｋｉｎ
とパスエネルギーＥｐａｓの全ての組合せに対して、最
適なインプットレンズ電圧を書き込んだテーブル（以下
、このテーブルをレンズ電圧設定テーブルと称す）を設
け、指示された電子のエネルギーＥｋｉｎ とパスエネ
ルギーＥｐａｓ とから最適なインプットレンズ電圧を
求めるようにすることができる。以上が本発明の主旨と
するところである。
スペクトルを得るためには、指示された電子のエネルギ
ーＥｋｉｎ とパスエネルギーＥｐａｓ に対して最適
なインプットレンズ電圧、即ちリターディング電圧を選
択できる手段を備えればよいことが分かる。なお、選択
されたインプットレンズ電圧は、インプットレンズに入
射した電子を入射スリットの位置に収束させることので
きるものである必要があることは当然である。そのため
の手段としては、例えば、電子のエネルギーＥｋｉｎ
とパスエネルギーＥｐａｓの全ての組合せに対して、最
適なインプットレンズ電圧を書き込んだテーブル（以下
、このテーブルをレンズ電圧設定テーブルと称す）を設
け、指示された電子のエネルギーＥｋｉｎ とパスエネ
ルギーＥｐａｓ とから最適なインプットレンズ電圧を
求めるようにすることができる。以上が本発明の主旨と
するところである。
【００１０】以下、図面を参照しつつ実施例を説明する
。図２は本発明に係る電子分光画像測定方式の一実施例
の構成を示す図であり、図中、１０は制御装置、１１は
レンズ電圧設定テーブル、１２は入力装置、１３、１４
、１５は電圧発生回路、１６はシステムバスを示す。 なお、図４と同じものについては同一の符号を付す。イ
ンプットレンズ２は３段の静電レンズ３１，３２，３３
で構成され、静電レンズ３１ は常に所定の一定電圧
（通常 ０Ｖ）が印加されているが、静電レンズ３２，
３３ には制御装置１０により、入力装置１２から指示
された電子エネルギーＥｋｉｎとパスエネルギーＥｐａ
ｓ に対応した最適のレンズ電圧ＶＬ１，ＶＬ２が供給
される。ＨＳＡ１の内側電極６及び外側電極７にはそれ
ぞれ制御装置１０から、指示されたパスエネルギーに対
応する電圧＋ＶＡ，−ＶＡ が供給される。ＨＳＡ１の
出射口には、エネルギースペクトルの分散方向に複数の
検出器９が配置されており、これらの検出器９の出力で
ある検出信号はシステムバス１６を介して制御装置１０
に取り込まれる。制御装置１０は、入力装置１２から電
子エネルギー及びパスエネルギーが指示されると、ＨＳ
Ａ１の内側電極６及び外側電極７に供給する電圧＋ＶＡ
，−ＶＡ を設定すると共に、レンズ電圧設定テーブル
１１を参照して、静電レンズ３２ に供給するレンズ電
圧ＶＬ１及び静電レンズ３３ に供給するレンズ電圧Ｖ
Ｌ２を設定する。これらの設定された電圧を示すデジタ
ルデータは、電圧発生回路１３、１５、１４に与えられ
る。
。図２は本発明に係る電子分光画像測定方式の一実施例
の構成を示す図であり、図中、１０は制御装置、１１は
レンズ電圧設定テーブル、１２は入力装置、１３、１４
、１５は電圧発生回路、１６はシステムバスを示す。 なお、図４と同じものについては同一の符号を付す。イ
ンプットレンズ２は３段の静電レンズ３１，３２，３３
で構成され、静電レンズ３１ は常に所定の一定電圧
（通常 ０Ｖ）が印加されているが、静電レンズ３２，
３３ には制御装置１０により、入力装置１２から指示
された電子エネルギーＥｋｉｎとパスエネルギーＥｐａ
ｓ に対応した最適のレンズ電圧ＶＬ１，ＶＬ２が供給
される。ＨＳＡ１の内側電極６及び外側電極７にはそれ
ぞれ制御装置１０から、指示されたパスエネルギーに対
応する電圧＋ＶＡ，−ＶＡ が供給される。ＨＳＡ１の
出射口には、エネルギースペクトルの分散方向に複数の
検出器９が配置されており、これらの検出器９の出力で
ある検出信号はシステムバス１６を介して制御装置１０
に取り込まれる。制御装置１０は、入力装置１２から電
子エネルギー及びパスエネルギーが指示されると、ＨＳ
Ａ１の内側電極６及び外側電極７に供給する電圧＋ＶＡ
，−ＶＡ を設定すると共に、レンズ電圧設定テーブル
１１を参照して、静電レンズ３２ に供給するレンズ電
圧ＶＬ１及び静電レンズ３３ に供給するレンズ電圧Ｖ
Ｌ２を設定する。これらの設定された電圧を示すデジタ
ルデータは、電圧発生回路１３、１５、１４に与えられ
る。
【００１１】電圧発生回路１３、１４、１５は、制御装
置１０から与えられたデジタルデータに対応する電圧を
発生する。なお、電圧発生回路１３は、リターディング
電圧−ＶＲ を発生する。電圧発生回路２０、２１はそ
れぞれ＋ＶＡ ，−ＶＡ を発生する。結局、ＨＳＡ１
の内側電極６には−ＶＲ ＋ＶＡ が、外側電極７には
−ＶＲ −ＶＡ が印加されることになる。入力装置１
２は、所望の電子エネルギー及びパスエネルギーを指示
するものであり、キーボードあるいはボリューム等の調
整摘みで構成される。制御装置１０はレンズ電圧設定テ
ーブル１１を備えている。このテーブルは電子エネルギ
ーとパスエネルギーの組合せに対して、最適なインプッ
トレンズ電圧を書き込んだテーブルであり、例えば図３
に示すように構成される。
置１０から与えられたデジタルデータに対応する電圧を
発生する。なお、電圧発生回路１３は、リターディング
電圧−ＶＲ を発生する。電圧発生回路２０、２１はそ
れぞれ＋ＶＡ ，−ＶＡ を発生する。結局、ＨＳＡ１
の内側電極６には−ＶＲ ＋ＶＡ が、外側電極７には
−ＶＲ −ＶＡ が印加されることになる。入力装置１
２は、所望の電子エネルギー及びパスエネルギーを指示
するものであり、キーボードあるいはボリューム等の調
整摘みで構成される。制御装置１０はレンズ電圧設定テ
ーブル１１を備えている。このテーブルは電子エネルギ
ーとパスエネルギーの組合せに対して、最適なインプッ
トレンズ電圧を書き込んだテーブルであり、例えば図３
に示すように構成される。
【００１２】図３Ａは電子エネルギーとパスエネルギー
の組合せに対する静電レンズ３２ の最適なレンズ電圧
ＶＬ１を書き込んだテーブル、図３Ｂは同じく静電レン
ズ３３ の最適なレンズ電圧ＶＬ２を書き込んだテーブ
ルであり、共にＸ軸はパスエネルギー、Ｙ軸は電子エネ
ルギー、Ｚ軸はレンズ電圧を示す。このようなテーブル
は、当該電子分光装置について実験的に、あるいはコン
ピュータシミュレーションにより求めることができるが
、電子エネルギーとパスエネルギーの全ての組合せに対
してレンズ電圧を求めるのは非常に面倒な作業となるの
で、代表的な電子エネルギーと代表的なパスエネルギー
の組合せに対して最適なレンズ電圧を求め、その中間の
値については制御装置１０で適当な手法によりデータの
内挿を行うようにするのがよい。
の組合せに対する静電レンズ３２ の最適なレンズ電圧
ＶＬ１を書き込んだテーブル、図３Ｂは同じく静電レン
ズ３３ の最適なレンズ電圧ＶＬ２を書き込んだテーブ
ルであり、共にＸ軸はパスエネルギー、Ｙ軸は電子エネ
ルギー、Ｚ軸はレンズ電圧を示す。このようなテーブル
は、当該電子分光装置について実験的に、あるいはコン
ピュータシミュレーションにより求めることができるが
、電子エネルギーとパスエネルギーの全ての組合せに対
してレンズ電圧を求めるのは非常に面倒な作業となるの
で、代表的な電子エネルギーと代表的なパスエネルギー
の組合せに対して最適なレンズ電圧を求め、その中間の
値については制御装置１０で適当な手法によりデータの
内挿を行うようにするのがよい。
【００１３】制御装置１０が実行する処理は次のようで
ある。オペレータにより入力装置１２から電子エネルギ
ー及びパスエネルギーが指示されると、制御装置１０は
指示されたパスエネルギーからＨＳＡ１に印加する電圧
を求め、その電圧の発生を電圧発生回路１３に指示する
と共に、レンズ電圧設定テーブル１１を参照して、レン
ズ電圧ＶＬ１，ＶＬ２を求め、その電圧の発生をそれぞ
れ電圧発生回路１５、１４に指示する。これによって、
ＨＳＡ１の内側電極６、外側電極７には指示されたパス
エネルギーに対応する＋ＶＡ ，−ＶＡ が印加され、
また静電レンズ３２，３３には、それぞれ、指示された
電子エネルギー及びパスエネルギーに最適なレンズ電圧
ＶＬ１，ＶＬ２が印加される。制御装置１０はこの状態
で検出器９から出力される検出信号を取り込むが、検出
器９の位置におけるスペクトルは図１Ｄに示すようにな
るので、全ての検出器９の検出出力を有効に利用するこ
とができる。以上のようにして検出信号の取り込みを試
料４の所望の領域を走査しながら行うことによって、２
次元画像を作成するための画像データを得ることができ
る。以上、本発明の実施例について説明したが、本発明
は上記実施例に限定されるものではなく、種々の変形が
可能である。例えば上記実施例では二つの静電レンズの
電圧を制御するようにしたが、一つの静電レンズあるい
は３個以上の静電レンズの電圧を制御するようにしても
よいことは当業者に明らかである。
ある。オペレータにより入力装置１２から電子エネルギ
ー及びパスエネルギーが指示されると、制御装置１０は
指示されたパスエネルギーからＨＳＡ１に印加する電圧
を求め、その電圧の発生を電圧発生回路１３に指示する
と共に、レンズ電圧設定テーブル１１を参照して、レン
ズ電圧ＶＬ１，ＶＬ２を求め、その電圧の発生をそれぞ
れ電圧発生回路１５、１４に指示する。これによって、
ＨＳＡ１の内側電極６、外側電極７には指示されたパス
エネルギーに対応する＋ＶＡ ，−ＶＡ が印加され、
また静電レンズ３２，３３には、それぞれ、指示された
電子エネルギー及びパスエネルギーに最適なレンズ電圧
ＶＬ１，ＶＬ２が印加される。制御装置１０はこの状態
で検出器９から出力される検出信号を取り込むが、検出
器９の位置におけるスペクトルは図１Ｄに示すようにな
るので、全ての検出器９の検出出力を有効に利用するこ
とができる。以上のようにして検出信号の取り込みを試
料４の所望の領域を走査しながら行うことによって、２
次元画像を作成するための画像データを得ることができ
る。以上、本発明の実施例について説明したが、本発明
は上記実施例に限定されるものではなく、種々の変形が
可能である。例えば上記実施例では二つの静電レンズの
電圧を制御するようにしたが、一つの静電レンズあるい
は３個以上の静電レンズの電圧を制御するようにしても
よいことは当業者に明らかである。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ピーク強度とバックグランド強度を同時に測
定することができるので、２次元画像を得るための画像
データの測定時間を従来の１／２に短縮することができ
る。また、その際インプットレンズには、指示された電
子エネルギー及びパスエネルギーに対して最大感度を与
える電圧が印加されるので、全ての検出器の検出出力を
有効に使用することができる。
によれば、ピーク強度とバックグランド強度を同時に測
定することができるので、２次元画像を得るための画像
データの測定時間を従来の１／２に短縮することができ
る。また、その際インプットレンズには、指示された電
子エネルギー及びパスエネルギーに対して最大感度を与
える電圧が印加されるので、全ての検出器の検出出力を
有効に使用することができる。
【図１】 本発明の原理を説明するための図である。
【図２】 本発明の一実施例の構成を示す図である。
【図３】 レンズ電圧設定テーブルの構造例を示す図
である。
である。
【図４】 従来の電子分光装置の構成例を示す図であ
る。
る。
【図５】 電子エネルギースペクトルの例を示す図で
ある。
ある。
１…ＨＳＡ、２…インプットレンズ、３…静電レンズ、
４…試料、５…入射スリット、８…検出スリット、９…
検出器、１０…制御装置、１１…レンズ電圧設定テーブ
ル、１２…入力装置、１３、１４、１５…電圧発生回路
、１６…システムバス。
４…試料、５…入射スリット、８…検出スリット、９…
検出器、１０…制御装置、１１…レンズ電圧設定テーブ
ル、１２…入力装置、１３、１４、１５…電圧発生回路
、１６…システムバス。
Claims (1)
- 【請求項１】 インプットレンズと、同心球面型電子
エネルギー分光器と、複数の検出器を備える電子分光装
置において、前記インプットレンズに印加する電圧を指
定されたパスエネルギーと入射電子エネルギーに基づい
て設定することを特徴とする電子分光画像測定方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3105341A JPH04334861A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 電子分光画像測定方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3105341A JPH04334861A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 電子分光画像測定方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04334861A true JPH04334861A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=14405036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3105341A Withdrawn JPH04334861A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | 電子分光画像測定方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04334861A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005140567A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Jeol Ltd | 表面分析装置 |
| JP2011247870A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-12-08 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線光電子分光装置およびｘ線光電子分光方法 |
| USD903424S1 (en) | 2017-02-07 | 2020-12-01 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD906056S1 (en) | 2018-12-05 | 2020-12-29 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD950318S1 (en) | 2018-05-24 | 2022-05-03 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD953811S1 (en) | 2020-02-14 | 2022-06-07 | Ball Corporation | Tapered cup |
| US11370579B2 (en) | 2017-02-07 | 2022-06-28 | Ball Corporation | Tapered metal cup and method of forming the same |
| USD968893S1 (en) | 2019-06-24 | 2022-11-08 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD974845S1 (en) | 2020-07-15 | 2023-01-10 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD1012617S1 (en) | 2021-02-22 | 2024-01-30 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD1035386S1 (en) | 2021-12-08 | 2024-07-16 | Ball Corporation | Tapered cup |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP3105341A patent/JPH04334861A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005140567A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Jeol Ltd | 表面分析装置 |
| JP2011247870A (ja) * | 2010-04-28 | 2011-12-08 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線光電子分光装置およびｘ線光電子分光方法 |
| USD903424S1 (en) | 2017-02-07 | 2020-12-01 | Ball Corporation | Tapered cup |
| US10875076B2 (en) | 2017-02-07 | 2020-12-29 | Ball Corporation | Tapered metal cup and method of forming the same |
| US11370579B2 (en) | 2017-02-07 | 2022-06-28 | Ball Corporation | Tapered metal cup and method of forming the same |
| USD950318S1 (en) | 2018-05-24 | 2022-05-03 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD962710S1 (en) | 2018-12-05 | 2022-09-06 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD906056S1 (en) | 2018-12-05 | 2020-12-29 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD968893S1 (en) | 2019-06-24 | 2022-11-08 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD953811S1 (en) | 2020-02-14 | 2022-06-07 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD974845S1 (en) | 2020-07-15 | 2023-01-10 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD978618S1 (en) | 2020-07-15 | 2023-02-21 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD1042036S1 (en) | 2020-07-15 | 2024-09-17 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD1012617S1 (en) | 2021-02-22 | 2024-01-30 | Ball Corporation | Tapered cup |
| USD1035386S1 (en) | 2021-12-08 | 2024-07-16 | Ball Corporation | Tapered cup |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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