JPH04333203A - Soft magnetic alloy film - Google Patents

Soft magnetic alloy film

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JPH04333203A
JPH04333203A JP13197791A JP13197791A JPH04333203A JP H04333203 A JPH04333203 A JP H04333203A JP 13197791 A JP13197791 A JP 13197791A JP 13197791 A JP13197791 A JP 13197791A JP H04333203 A JPH04333203 A JP H04333203A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
soft magnetic
alloy film
magnetic alloy
heat treatment
atomic
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP13197791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaji Saito
正路 斎藤
Naoya Hasegawa
直也 長谷川
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH04333203A publication Critical patent/JPH04333203A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a magnetically soft alloy film having excellent soft magnetic characteristics and thermal stability. CONSTITUTION:The alloy of the title alloy film has the composition of FeaMcBdCe or (Fe1-bTb)aMcBdCe, where M indicates the elements of Zr and the like, and T indicates the elements of Co, Ni and the like, and 70<=a<=90, b<=0.05, 5<=c<=15, 0.5<=d<=15, 0.5<=e<=15, 1<=d+e<=20 (atomic %).The soft magnetic alloy film obtained as above has both excellent soft magnetic characteristics and thermal stability, and it is suitable for a magnetic head.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド等に用いられ
る軟磁性合金膜に関するものであり、特に熱安定性に優
れ、高飽和磁束密度、高透磁率を有するFe系軟磁性合
金膜に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a soft magnetic alloy film used in magnetic heads and the like, and particularly to a Fe-based soft magnetic alloy film having excellent thermal stability, high saturation magnetic flux density, and high magnetic permeability.

【0002】0002

【従来の技術】磁気ヘッド用軟磁性薄膜において、一般
的に要求される諸特性は次の通りである。 1.飽和磁束密度(以下Bsとする)が高いこと。 2.透磁率(μ)が高いこと。 3.保磁力(Hc)が低いこと。 4.磁歪定数(λs)が小さいこと。 また、磁気ヘッドにおいては、ギャップ形成等をガラス
溶着で行う必要のあるものもあり、ガラス溶着工程での
高温に耐え得る以下の特性が要求される。5.軟磁気特
性が熱的に安定であること。
2. Description of the Related Art The following characteristics are generally required for soft magnetic thin films for magnetic heads. 1. High saturation magnetic flux density (hereinafter referred to as Bs). 2. High magnetic permeability (μ). 3. Low coercive force (Hc). 4. The magnetostriction constant (λs) is small. Furthermore, some magnetic heads require glass welding to form gaps, etc., and are required to have the following characteristics that can withstand high temperatures during the glass welding process. 5. Soft magnetic properties should be thermally stable.

【0003】従って、軟磁性合金膜、あるいは磁気ヘッ
ド等を製造する場合、以上の観点から従来より研究がな
されている。従来の軟磁性薄膜として、センダスト、パ
ーマロイ等の軟磁性材や、最近ではCo基あるいはFe
基非晶質合金等も使用されるようになっている。
[0003] Therefore, when manufacturing soft magnetic alloy films, magnetic heads, etc., research has been conventionally conducted from the above viewpoints. Conventional soft magnetic thin films include soft magnetic materials such as sendust and permalloy, and more recently Co-based or Fe-based materials.
Base amorphous alloys are also being used.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高記録
密度化に伴い、磁気ヘッドに用いられる軟磁性薄膜材料
として高飽和磁束密度のものが要求されている。また、
ギャップ形成等をガラス溶着で行う必要があるものもあ
り、ガラス溶着工程での高温に耐え得る熱安定性も合わ
せて要求されてきている。
However, as recording density increases, soft magnetic thin film materials used in magnetic heads are required to have a high saturation magnetic flux density. Also,
Some products require glass welding to form gaps, etc., and thermal stability that can withstand high temperatures during the glass welding process is also required.

【0005】ところが、前記のセンダストは、軟磁気特
性には優れているもののBsが11kG程度と低い欠点
がある。また、パーマロイもBsが10kGと低く、ガ
ラス溶着工程等で、高温処理を行うと軟磁気特性が劣化
する欠点や、電気抵抗が低いために高周波帯域での透磁
率が低くなる欠点などがある。
[0005] However, although Sendust has excellent soft magnetic properties, it has the drawback of having a low Bs of about 11 kG. Permalloy also has a low Bs of 10 kG, and has the disadvantage that its soft magnetic properties deteriorate when subjected to high-temperature treatment in glass welding processes, etc., and that its magnetic permeability in high frequency bands is low due to its low electrical resistance.

【0006】さらに、Fe基あるいはCo基非晶質合金
ではBsを9kG以下に抑えれば低融点ガラスによる溶
着は可能であるが、600度以上での溶着は困難であり
、耐環境性に優れた中〜高融点ガラスを使用することが
できない。
Furthermore, Fe-based or Co-based amorphous alloys can be welded with low melting point glass if the Bs is kept below 9 kG, but welding at temperatures above 600 degrees is difficult, and they have excellent environmental resistance. medium to high melting point glasses cannot be used.

【0007】本発明の目的は、上述したような欠点を克
服するために、従来の軟磁性合金膜と同等もしくはそれ
以上の軟磁気特性を備え、特に良好な飽和磁束密度と熱
的安定性とを有する軟磁性合金膜を提供することである
[0007] In order to overcome the above-mentioned drawbacks, an object of the present invention is to provide a film with soft magnetic properties equivalent to or better than conventional soft magnetic alloy films, and particularly with good saturation magnetic flux density and thermal stability. An object of the present invention is to provide a soft magnetic alloy film having the following properties.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明は
前述した課題を解決するために、次式で示される組成か
らなる軟磁性合金膜としたものである。 Fea Mc Bd Ce  但し、MはZr,Nb,Hf,Taのうち1種または2
種以上の元素であり、 70≦a≦90、5≦c≦15、0.5≦d≦15、0
.5≦e≦15、1≦d+e≦20(原子%)である。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the invention as set forth in claim 1 provides a soft magnetic alloy film having a composition represented by the following formula. Fea Mc Bd Ce However, M is one or two of Zr, Nb, Hf, Ta
It is an element more than a species, 70≦a≦90, 5≦c≦15, 0.5≦d≦15, 0
.. 5≦e≦15, 1≦d+e≦20 (atomic %).

【0009】請求項2に記載の発明は前述した課題を解
決するために、次式で示される組成からなる軟磁性合金
膜としたものである。 (Fe1−b Tb ) a Mc Bd Ce 但し
、TはCo,Niのうち、少なくとも1種または2種の
元素、MはZr,Nb,Hf,Taのうち、少なくとも
1種または2種以上の元素であり、70≦a≦90、b
≦0.05、5≦c≦15、0.5≦d≦15、0.5
≦d≦15、0.5≦e≦15、1≦d+e≦20(原
子%)である。
[0009] In order to solve the above-mentioned problem, the invention as set forth in claim 2 provides a soft magnetic alloy film having a composition represented by the following formula. (Fe1-b Tb) a Mc Bd Ce However, T is at least one or two elements among Co and Ni, and M is at least one or two or more elements among Zr, Nb, Hf, and Ta. and 70≦a≦90, b
≦0.05, 5≦c≦15, 0.5≦d≦15, 0.5
≦d≦15, 0.5≦e≦15, 1≦d+e≦20 (atomic %).

【0010】請求項3に記載の発明は、前記課題を解決
するために請求項1または2の軟磁性合金膜に熱処理を
施し、その金属組織が実質的に平均粒径0.08μm 
以下の結晶粒からなるようにしたものである。
[0010] In order to solve the above problem, the invention according to claim 3 heat-treats the soft magnetic alloy film according to claim 1 or 2, so that the metal structure thereof substantially has an average grain size of 0.08 μm.
It consists of the following crystal grains.

【0011】請求項4に記載の発明は前記課題を解決す
るために請求項1または2の軟磁性合金膜に熱処理を施
し、その金属組織が実質的に平均粒径0.08μm 以
下の結晶粒と非晶質相からなるようにしたものである。
[0011] In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 4 heat-treats the soft magnetic alloy film according to claim 1 or 2, so that the metal structure thereof substantially has crystal grains with an average grain size of 0.08 μm or less. and an amorphous phase.

【0012】以下に本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

【0013】本発明の軟磁性合金膜は、スパッタ法ある
いは蒸着法等の気相急冷法により、前記組成の非晶質合
金あるいは非晶質相を含む結晶質合金を得る過程と、こ
れらの過程で得られた合金に熱処理を施し、微細な結晶
粒を析出させる熱処理工程とによって得られる。ここで
合金に熱処理を施す理由は、気相急冷法で作製されたま
まの合金(asdepo)は非晶質相をかなり含んでお
り、Bsが低く軟磁気特性も不十分なためである。スパ
ッタ装置としては、RF2極スパッタ、マグネトロンス
パッタ、3極スパッタ、イオンビームスパッタ、対向タ
ーゲット型スパッタ等の既存のものが使用できる。
The soft magnetic alloy film of the present invention is produced by a process of obtaining an amorphous alloy having the above composition or a crystalline alloy containing an amorphous phase by a vapor phase quenching method such as a sputtering method or a vapor deposition method, and a process of obtaining an amorphous alloy having the above composition or a crystalline alloy containing an amorphous phase. It is obtained through a heat treatment step in which the alloy obtained in step 1 is subjected to heat treatment to precipitate fine crystal grains. The reason why the alloy is heat treated here is that the as-deposited alloy produced by the vapor phase quenching method contains a considerable amount of amorphous phase, has a low Bs, and has insufficient soft magnetic properties. As the sputtering apparatus, existing ones such as RF two-pole sputtering, magnetron sputtering, three-pole sputtering, ion beam sputtering, and facing target sputtering can be used.

【0014】以下、前記のように成分を限定した理由及
びその添加理由について述べる。
[0014] The reason for limiting the components as described above and the reason for their addition will be described below.

【0015】Feは主成分であり磁性を担う元素である
。従って、軟磁気特性を得るためには90原子%以下で
あることが必要であり、10kG以上のBsを得るため
には70原子%以上である必要がある。
[0015] Fe is the main component and is an element responsible for magnetism. Therefore, in order to obtain soft magnetic properties, the Bs content must be 90 atomic % or less, and in order to obtain Bs of 10 kG or more, the Bs content must be 70 atomic % or more.

【0016】元素T(=Co,Ni)は磁歪を調整する
ためにFe置換で添加する元素である。後述するように
、Tの添加がない膜では熱処理温度が高い場合あるいは
、BとCの総和量が比較的少ない場合磁歪定数は負の値
になる。この場合、Tを添加することにより磁歪定数を
正にすることができ、添加量を調整することにより10
−5〜10−7台の値にすることができる。また、Tも
磁性を担う元素であるのでBsの減少は低く抑えられる
。 しかし、多く添加しすぎると磁歪が正に大きくなりすぎ
て軟磁気特性が得にくくなるので、5原子%以下である
必要がある。ただし、熱処理温度が比較的低い場合ある
いはBとCの総和量が比較的多い場合はTを添加する必
要はない。
Element T (=Co, Ni) is an element added by replacing Fe in order to adjust magnetostriction. As will be described later, in a film without addition of T, the magnetostriction constant becomes a negative value when the heat treatment temperature is high or when the total amount of B and C is relatively small. In this case, the magnetostriction constant can be made positive by adding T, and by adjusting the amount added, 10
It can be set to a value in the range of -5 to 10-7. Further, since T is also an element responsible for magnetism, the decrease in Bs can be suppressed to a low level. However, if too much is added, the magnetostriction becomes too positive and it becomes difficult to obtain soft magnetic properties, so the content needs to be 5 at % or less. However, when the heat treatment temperature is relatively low or when the total amount of B and C is relatively large, it is not necessary to add T.

【0017】元素M(=Zr,Nb,Hf,Ta)は軟
磁気特性を良好にし、気相急冷法で作成した状態(熱処
理を施す前の状態)で非晶質相を得やすくするために必
要であり、軟磁気特性を維持するために5原子%以上1
5原子%以下にする必要がある。15原子%以上加える
と非晶質相は得られるものの、熱処理をしても良好な軟
磁気特性が得られなくなる。
Element M (=Zr, Nb, Hf, Ta) is used to improve the soft magnetic properties and to make it easier to obtain an amorphous phase in the state created by the vapor phase quenching method (before heat treatment). 5 atomic % or more1 to maintain soft magnetic properties.
It is necessary to keep it below 5 atomic %. If 15 at % or more is added, an amorphous phase can be obtained, but good soft magnetic properties cannot be obtained even after heat treatment.

【0018】ホウ素Bは、軟磁気特性を良好にするため
に、非晶質相を得やすくする効果、熱処理を施したとき
に軟磁気特性に悪影響を及ぼす化合物相の生成を抑制す
る効果、及びFeを主成分とするb.c.c相の粒成長
を抑制する効果があると考えられる。良好な軟磁気特性
を得るためには0.5原子%以上15原子%以下にする
必要がある。
[0018] In order to improve the soft magnetic properties, boron B has the effect of making it easier to obtain an amorphous phase, the effect of suppressing the formation of a compound phase that adversely affects the soft magnetic properties when subjected to heat treatment, and b. mainly composed of Fe; c. It is thought that this has the effect of suppressing the grain growth of the c-phase. In order to obtain good soft magnetic properties, the content needs to be 0.5 atomic % or more and 15 atomic % or less.

【0019】炭素Cは軟磁気特性を良好にするために、
非晶質相を得やすくする効果と共に、熱処理を施したと
きにb.c.c相の析出を均一にする効果がある。良好
な軟磁気特性を得るためには0.5原子%以上、15原
子%以下にする必要がある。
Carbon C is used to improve soft magnetic properties.
In addition to the effect of making it easier to obtain an amorphous phase, b. c. This has the effect of making the precipitation of the c phase uniform. In order to obtain good soft magnetic properties, it is necessary to keep the content between 0.5 atomic % and 15 atomic %.

【0020】[0020]

【実施例1】以下の実施例の薄膜はRF2極スパッタ装
置を用いてFeターゲット上にCo,Ni,Zr,Nb
,Hf,Ta,B,C(グラファイト)のペレットを適
宜選択し配置した複合ターゲットをArガスを用いてス
パッタすることにより膜厚5〜6μm の膜を作成した
。基板は4mm×24mmの結晶化ガラス基板を用いた
[Example 1] The thin films of the following examples were prepared by depositing Co, Ni, Zr, and Nb on Fe targets using an RF two-pole sputtering system.
, Hf, Ta, B, and C (graphite) pellets were appropriately selected and arranged on a composite target using Ar gas to form a film with a thickness of 5 to 6 μm. A 4 mm x 24 mm crystallized glass substrate was used as the substrate.

【0021】得られた各合金膜に種々の熱処理を施して
、合金膜の組成がμ,Hc,λs,Bsに及ぼす影響を
調べた。熱処理はすべて無磁場中で行い、設定温度まで
の昇温を40分、設定温度から室温までの降温を1.5
℃/分で行った。また、その時の膜構造をCo−Kα線
を使ったX線回折装置を用いて調べた。
Each of the obtained alloy films was subjected to various heat treatments, and the influence of the composition of the alloy film on μ, Hc, λs, and Bs was investigated. All heat treatments were performed in a non-magnetic field, with heating up to the set temperature taking 40 minutes and cooling from the set temperature to room temperature taking 1.5 minutes.
It was performed at °C/min. Further, the film structure at that time was investigated using an X-ray diffraction apparatus using Co-Kα rays.

【0022】透磁率は8の字コイルを用いて測定し、保
磁力は直流B−Hループトレイサーにより測定し、飽和
磁束密度はVSM、磁歪定数は光てこ法で測定した。以
上のように作成、測定された軟磁性合金膜の結果を表1
乃至表3及び図1乃至図4に示す。
Magnetic permeability was measured using a figure 8 coil, coercive force was measured using a DC B-H loop tracer, saturation magnetic flux density was measured using VSM, and magnetostriction constant was measured using an optical lever method. Table 1 shows the results of the soft magnetic alloy film prepared and measured as described above.
They are shown in Tables 3 to 3 and FIGS. 1 to 4.

【0023】[0023]

【表1】[Table 1]

【0024】表1はFe−Ta−B−Cにおいて、55
0℃及び650℃の熱処理を施した後の1MHzの透磁
率μ、保磁力Hc、磁歪定数λs、飽和磁束密度Bsと
膜組成の関係を示したものである。表1から明らかに、
本発明における軟磁性薄膜が特にサンプルNo.3にお
いては3000以上のμ(1MHz)、0.1Oe以下
のHc、10−6〜10−7台のλs、15kG以上の
Bsを示している。なお、ビデオの映像ヘッドの場合、
μは少なくとも1000(1MHz)あれば十分であり
、本発明の軟磁性薄膜が極めて優秀な軟磁気特性を備え
ていることがわかる。
Table 1 shows that in Fe-Ta-B-C, 55
The relationship between the magnetic permeability μ, coercive force Hc, magnetostriction constant λs, saturation magnetic flux density Bs, and film composition at 1 MHz after heat treatment at 0° C. and 650° C. is shown. It is clear from Table 1 that
The soft magnetic thin film in the present invention is particularly suitable for sample No. 3 shows μ (1 MHz) of 3000 or more, Hc of 0.1 Oe or less, λs of 10 −6 to 10 −7 range, and Bs of 15 kG or more. In addition, in the case of a video head,
It is sufficient that μ is at least 1000 (1 MHz), and it can be seen that the soft magnetic thin film of the present invention has extremely excellent soft magnetic properties.

【0025】図1は、表1のサンプルNo.1のFe8
0.8Ta7.0 B7.5 C4.7 膜のX線回折
パターンである。スパッタ直後のパターンではb. c
. c−Feの{110}面と{220}面の反射が現
れている。Sherrerの式から求めた結晶粒径は約
8nmであり、微細なb.c.c相を示していることが
わかる。なお、サンプルNo.1には、b.c.c相以
外の結晶相は析出していない。
FIG. 1 shows sample No. 1 in Table 1. 1 Fe8
This is an X-ray diffraction pattern of a 0.8Ta7.0 B7.5 C4.7 film. In the pattern immediately after sputtering, b. c.
.. Reflections from the {110} and {220} planes of c-Fe appear. The crystal grain size determined from Sherrer's equation is approximately 8 nm, with fine b. c. It can be seen that it shows the c phase. In addition, sample No. 1 includes b. c. No crystal phases other than c-phase were precipitated.

【0026】図2は表1のサンプルNo.1(黒丸)と
No.3の(白丸)のμ(1MHz)と熱処理温度の関
係を示したグラフである。図2から明らかに、サンプル
No.1は500℃から650℃の温度範囲において透
磁率μが2000以上の値を示し、サンプルNo.3は
室温から450℃の範囲でμが1000以上、550℃
から650℃の温度範囲でμが2000以上の値を示し
ている。
FIG. 2 shows sample No. 1 in Table 1. 1 (black circle) and No. It is a graph showing the relationship between μ (1 MHz) of No. 3 (white circles) and heat treatment temperature. It is clear from FIG. 2 that sample No. Sample No. 1 exhibits a magnetic permeability μ of 2000 or more in the temperature range of 500° C. to 650° C. 3: μ is 1000 or more in the range from room temperature to 450℃, 550℃
μ shows a value of 2000 or more in the temperature range from 650°C to 650°C.

【0027】図3は表1のサンプルNo.1(黒丸)と
No.3(白丸)の磁歪λsと熱処理温度の関係を示し
たグラフである。図3よりサンプルNo.1,3ともに
600℃以上の熱処理を施した場合、λsが10−7台
と小さな値を示すことがわかる。
FIG. 3 shows sample No. 1 in Table 1. 1 (black circle) and No. 3 (white circles) is a graph showing the relationship between magnetostriction λs and heat treatment temperature. From FIG. 3, sample No. It can be seen that when both Nos. 1 and 3 are subjected to heat treatment at 600° C. or higher, λs shows a small value of 10 −7 range.

【0028】図4は表1のサンプルNo.1のBsと熱
処理温度の関係を示したものである。スパッタ直後の非
晶質状態での値は7kGであるが、550℃以上の熱処
理を施しb.c.c相を析出させることにより15.6
kGの値を示すことがわかる。これは非晶質状態ではF
eのモーメントがTa,B,Cによって減少されていた
が熱処理を施しFeを多く含むb.c.c相を析出させ
ることによりTa,B,Cによるモーメントの減少が少
なくなりBsが上昇したものと考えられる。
FIG. 4 shows sample No. 1 in Table 1. 1 shows the relationship between Bs of No. 1 and heat treatment temperature. The value in the amorphous state immediately after sputtering is 7 kG, but after heat treatment at 550° C. or higher, b. c. 15.6 by precipitating the c phase
It can be seen that it shows the value of kG. This is F in the amorphous state.
Although the moment of e was reduced by Ta, B, and C, b. c. It is thought that by precipitating the c phase, the decrease in moment due to Ta, B, and C was reduced, and Bs increased.

【0029】[0029]

【表2】[Table 2]

【0030】表2は、他の実施例として、Fe−Ta−
B−CにおけるTaをZr,Hf,Nbで全置換したと
きの1MHzのμ,Hc,λs,Bsと膜組成の関係を
示したものである。表1と同様、高飽和磁束密度(Bs
)、高透磁率(μ)、低磁歪定数(λs)の軟磁気特性
を示していることがわかる。
Table 2 shows Fe-Ta-
This figure shows the relationship between μ, Hc, λs, and Bs at 1 MHz and film composition when Ta in B-C is completely replaced with Zr, Hf, and Nb. Similar to Table 1, high saturation magnetic flux density (Bs
), high magnetic permeability (μ), and low magnetostriction constant (λs).

【0031】[0031]

【表3】[Table 3]

【0032】表3はFe−Ta−B−CにCo,Niを
添加したときの同様な関係を示したものである。Coま
たはNiの添加がλsを正にシフトする効果があること
がわかる。軟磁気特性も良好でBsの低下も低く抑えら
れている。また、高温の熱処理ではλsは負になるが、
Co,Niを少量添加することによりλsを正にシフト
させ、ほぼゼロにすることが可能である。
Table 3 shows a similar relationship when Co and Ni are added to Fe-Ta-B-C. It can be seen that the addition of Co or Ni has the effect of shifting λs positively. The soft magnetic properties are also good, and the decrease in Bs is suppressed to a low level. In addition, in high-temperature heat treatment, λs becomes negative, but
By adding a small amount of Co or Ni, it is possible to shift λs positively and make it almost zero.

【0033】本実施例では熱処理はすべて無磁界中で行
っているが、静磁界中で熱処理を行い磁化困難軸を磁路
として用いることにより、あるいは、回転磁界中で熱処
理を行い巨視的な異方性分散を抑制することにより軟磁
気特性をさらに向上させことも可能である。
In this example, all heat treatments were performed in a non-magnetic field, but macroscopic differences could be obtained by performing heat treatment in a static magnetic field and using the hard-to-magnetize axis as a magnetic path, or by performing heat treatment in a rotating magnetic field. It is also possible to further improve the soft magnetic properties by suppressing directional dispersion.

【0034】[0034]

【表4】[Table 4]

【0035】表4は、本発明との比較例であり、本発明
の組成範囲を越える部分のサンプルである。表中、Hc
,λsの値がないのは±100Oeの印加磁界でサンプ
ルが未飽和で測定不可能であったためである。また、B
sもこれらの試料では測定不能であった。表4より明ら
かなように本発明の組成範囲を越えるとμ(1MHz)
が10未満と小さくなり磁気ヘッドのコア材として不適
である。
Table 4 is a comparative example with the present invention, and is a sample of a portion exceeding the composition range of the present invention. In the table, Hc
, λs are not available because the sample was not saturated with the applied magnetic field of ±100 Oe and could not be measured. Also, B
s was also unmeasurable in these samples. As is clear from Table 4, when the composition range of the present invention is exceeded, μ (1 MHz)
is less than 10, making it unsuitable as a core material for a magnetic head.

【0036】[0036]

【効果】以上説明したように、本発明では従来の軟磁性
合金膜と同等もしくはそれ以上の透磁率と保磁力を備え
、かつ従来の軟磁性合金膜よりも優れた飽和磁束密度を
有し、さらに磁歪定数も±10−6〜10−7と良好な
軟磁性合金膜を提供できる。しかも高温で熱処理されて
いるため、熱的安定性にも優れている。
[Effect] As explained above, the present invention has magnetic permeability and coercive force equal to or greater than conventional soft magnetic alloy films, and has a saturation magnetic flux density superior to conventional soft magnetic alloy films. Furthermore, a soft magnetic alloy film having a magnetostriction constant of ±10 −6 to 10 −7 can be provided. Furthermore, since it is heat treated at high temperatures, it also has excellent thermal stability.

【0037】従って本発明による軟磁性合金膜は、磁気
ヘッド等に好適であり、ガラス溶着工程等高温処理を必
要とする磁気ヘッドにも適用できる。またBとCを複合
添加することによりFeを主成分とするb.c.c相の
析出が均一な微細結晶粒細織となり、結晶磁気異方性に
よる軟磁性への悪影響が軽減されるため良好な軟磁気特
性が得られる。さらに元素T(=Co,Ni)を少量添
加し、磁歪定数を調整することによって、上記の効果を
さらに高めることができる。
Therefore, the soft magnetic alloy film according to the present invention is suitable for magnetic heads and the like, and can also be applied to magnetic heads that require high temperature processing such as glass welding processes. Also, by adding B and C in combination, b. c. The c-phase precipitates into a uniform fine crystal grain structure, and the adverse effect of magnetocrystalline anisotropy on soft magnetism is reduced, resulting in good soft magnetic properties. Furthermore, the above effect can be further enhanced by adding a small amount of element T (=Co, Ni) and adjusting the magnetostriction constant.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明軟磁性合金膜の一例のX線回折パターン
を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing an X-ray diffraction pattern of an example of a soft magnetic alloy film of the present invention.

【図2】本発明軟磁性合金膜の一例の透磁率μと熱処理
温度の関係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the magnetic permeability μ and the heat treatment temperature of an example of the soft magnetic alloy film of the present invention.

【図3】本発明軟磁性合金膜の一例の磁歪定数λsと熱
処理温度の関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the magnetostriction constant λs and the heat treatment temperature of an example of the soft magnetic alloy film of the present invention.

【図4】本発明軟磁性合金膜の一例の飽和磁束密度Bs
と熱処理温度の関係を示すグラフである。
FIG. 4: Saturation magnetic flux density Bs of an example of the soft magnetic alloy film of the present invention
It is a graph showing the relationship between heat treatment temperature and heat treatment temperature.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  次式で示される組成からなることを特
徴とする軟磁性合金膜。 Fea Mc Bd Ce  但し、MはZr,Nb,Hf,Taのうち、1種または
2種以上の元素であり、 70≦a≦90、5≦c≦15、0.5≦d≦15、0
.5≦e≦15、1≦d+e≦20(原子%)である。
1. A soft magnetic alloy film characterized by having a composition represented by the following formula. Fea Mc Bd Ce However, M is one or more elements among Zr, Nb, Hf, and Ta, and 70≦a≦90, 5≦c≦15, 0.5≦d≦15, 0
.. 5≦e≦15, 1≦d+e≦20 (atomic %).
【請求項2】  次式で示される組成からなることを特
徴とする軟磁性合金膜。 (Fe1−b Tb ) a Mc Bd Ce 但し
、TはCo,Niのうち、少なくとも1種または2種の
元素、MはZr,Nb,Hf,Taのうち、少なくとも
1種または2種以上の元素であり、70≦a≦90、b
≦0.05、5≦c≦15、0.5≦d≦15、0.5
≦d≦15、0.5≦e≦15、1≦d+e≦20(原
子%)である。
2. A soft magnetic alloy film having a composition represented by the following formula. (Fe1-b Tb) a Mc Bd Ce However, T is at least one or two elements among Co and Ni, and M is at least one or two or more elements among Zr, Nb, Hf, and Ta. and 70≦a≦90, b
≦0.05, 5≦c≦15, 0.5≦d≦15, 0.5
≦d≦15, 0.5≦e≦15, 1≦d+e≦20 (atomic %).
【請求項3】  上記軟磁性合金膜は熱処理が施され、
その金属組織が実質的に平均粒径0.08μm 以下の
結晶粒からなる請求項1または2に記載の軟磁性合金膜
3. The soft magnetic alloy film is subjected to heat treatment,
3. The soft magnetic alloy film according to claim 1, wherein the metal structure substantially consists of crystal grains having an average grain size of 0.08 μm or less.
【請求項4】  上記軟磁性合金膜は熱処理が施され、
その金属組織が実質的に平均粒径0.08μm 以下の
結晶粒と非晶質相からなる請求項1または2に記載の軟
磁性合金膜。
4. The soft magnetic alloy film is subjected to heat treatment,
3. The soft magnetic alloy film according to claim 1, wherein the metal structure substantially consists of crystal grains with an average grain size of 0.08 μm or less and an amorphous phase.
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