JPH04331074A - 微粒子の噴射加工装置 - Google Patents

微粒子の噴射加工装置

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JPH04331074A
JPH04331074A JP12514491A JP12514491A JPH04331074A JP H04331074 A JPH04331074 A JP H04331074A JP 12514491 A JP12514491 A JP 12514491A JP 12514491 A JP12514491 A JP 12514491A JP H04331074 A JPH04331074 A JP H04331074A
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JP
Japan
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gas
solid
phase
supply pipe
workpiece
Prior art date
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Pending
Application number
JP12514491A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Kuroda
正幸 黒田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH04331074A publication Critical patent/JPH04331074A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は微粒子の噴射加工装置に
係り、とくに微粒子を含む固気2相流を被加工物に噴射
して加工を行なうようにした微粒子の噴射加工装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】遊離砥粒を用いた従来の噴射加工装置の
1例は図5に示されている。この装置はサンドブラスト
装置であって、遊離砥粒供給管31によって遊離砥粒を
供給するとともに、圧縮空気供給管32によって圧縮空
気を供給し、これらを噴射口34を通して噴射するよう
にしている。
【0003】微粒子供給管31から粉体を供給し、圧縮
空気供給管32から圧縮空気を供給すると、圧縮空気供
給管32の先端側の外周囲33に負圧が生じ、粒体供給
管31から供給される粉体が吸引され、撹拌されて噴射
口34から加速噴射され、被加工物を切削したり切断し
たりあるいは穿孔したりすることが可能になり、例えば
装飾を施すために利用されることになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のこのようなサン
ドブラスト装置は、粉体として25〜50μm程度の粒
径のものを使用するようにしている。このような装置に
よれば、噴射口34からの噴射流は噴射ムラが多く、粉
体を均一に分散させて加工面に噴射させることが難しい
【0005】粉体粒子が1μm程度の粒径になると、安
定した供給が難しく、噴射口が詰ることがあり、あるい
はまた圧縮空気のみが噴射口34から噴射されることに
なり、噴射加工面に均一分散化して噴射することが困難
になる。
【0006】また噴射される粉体が微粒子である場合に
は、帯電や凝集付着等によって微粒子が固化する場合が
多く、わずかな微粒子量を圧縮空気に混合して均一分散
化することが難しい等の問題がある。従って現在のとこ
ろは、粉体、とくに微粒子を均一に分散して供給する装
置がない。
【0007】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たものであって、微粒子を均一に撹拌分散させ、固気2
相流として噴射することによって、研削、切削、被着(
デポジション)等を行なうことが可能で、さらには微細
加工も可能な微粒子による噴射加工装置を提供すること
を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、微粒子を含む
固気2相流を被加工物に噴射して加工を行なうようにし
た装置において、固気2相供給管の先端部に断面が4辺
形の固気混合拡散管を前記固気2相供給管と軸線が互い
に交差するように接続し、しかも前記固気混合拡散管の
稜線部分に噴射口を形成し、該噴射口から微粒子を含む
固気2相流を高速で噴射するようにしたものである。
【0009】前記固気2相供給管はその断面が正方形ま
たは長方形であることが望ましい。また前記固気混合拡
散管は、その噴射口の長辺側の長さが固気2相供給管の
長辺の断面長と等しくすることが好ましい。
【0010】
【作用】固気2相供給管によって供給される固気2相流
中の微粒子は固気混合拡散管内で分散され、その噴射口
から均一に分散化された状態で高速噴射されることにな
り、被加工物の表面の加工を行なうことになる。これに
よって良質の表面構造および表面性状を得る加工が可能
になる。
【0011】
【実施例】以下図面を参照して本発明の実施例に係る遊
離砥粒による高速噴射加工装置を説明する。図1および
図2は第1の実施例の噴射加工装置を示しており、図1
はその正面図を、図2は側断面図をそれぞれ示している
【0012】この装置は図1および図2に示すように、
その上側の部分が固気2相供給管2から構成されており
、被加工物17の被加工面18を加工するための微粒子
を含む固気2相流を噴射するようにしている。被加工物
17のエッチングを行なう場合には、1〜15μmの粒
径のAl2 O3 、SiC等の微粒子を3〜5kg/
cm2 の圧縮空気あるいはドライ窒素とともに、固気
2相流7として供給する。なおこの固気2相供給管2は
例えばステンレス鋼から構成され、長方形断面をなして
おり、その内側の長辺の部分が10mmであって短辺の
部分が1mmの寸法になっている。
【0013】被加工物17の被加工面18にデポジショ
ンを行なうときには、0.01〜1μmのAl2 O3
 、SiC、SiO3 、Si3 N4 等の遊離砥粒
を1〜3kg/cm2 の圧縮空気、ドライ窒素と固気
2相流7として固気2相供給管2から供給する。このよ
うに本実施例に係る加工装置の固気2相供給管2は微粒
子の粒径やガス圧を加工条件に応じて変えて供給できる
ようになっている。
【0014】固気2相供給管2の下端側には固気2相拡
散管21が接続されている。拡散管21は図1および図
2に示すように、断面がL字状の一対の半管3と、左側
側板10と右側側板11の4個の部材から構成されてお
り、一対の半管3は図1における接合部12、13で左
右側板10、11に溶接されて一体化されている。なお
ここで半管3および左右側板10、11はステンレス鋼
が用いられている。またこの正方形断面からなる拡散管
21の対角線の長さは5〜10mmの値になっている。
【0015】つぎに固気2相混合拡散管21と固気2相
供給管2とがそれぞれの対向面4において完全に溶接を
行ない、固気2相流7が漏れないようになっている。な
おここで固気2相供給管2と固気2相拡散管21の軸線
は互いに直交するようになっており、これによって対向
面4の接合精度が良好になっている。
【0016】固気2相供給管2と固気2相拡散管21の
内側の長辺14と短辺15は溶接によって一体化された
場合に、両者の接続口19の部分においても同一の断面
となるようになっており、接続口19の内側における長
辺が10mmであって短辺が1mmとなっている。また
溶接時に固気2相供給管2の内表面と接続口19の内表
面との間に段差が生じないように仕上げ加工が行なわれ
ている。
【0017】固気2相拡散管21の下端側であってその
稜線5の部分には長方形断面の噴射口6が形成されてい
る。長方形断面の噴射口6の長辺14は10mmであっ
て、短辺16は0.5〜1mmの値になっている。
【0018】つぎにこのような構成に係る噴射加工装置
による噴射加工の動作を説明する。遊離砥粒から成る微
粒子を含む固気2相流7を固気2相供給管2に供給する
。供給条件は前述の通りである。供給管2から供給され
た固気2相流7は固気2相拡散管21に供給される。
【0019】高圧で流動する固気2相流7は拡散管21
内において図2に示す如く急激に圧力を減ずる。従って
矢印8で示すような渦流となり、この渦流8によって固
気2相流7に含まれる遊離微粒子の付着や凝集の力を緩
和し、遊離微粒子を分散化させるようになる。
【0020】このようにして分散化された遊離微粒子は
つぎに長方形断面の噴射口6の壁面を利用した固気2相
流として、遊離微粒子を分散化および均一化させ、高速
噴射流9として被加工物17の被加工面18を高速噴射
加工することになる。被加工物17の表面をエッチング
する場合には、噴射流9の流速は40〜80m/sとな
る。これに対してデポジション加工を行なう場合の噴射
流9の流速は80〜100m/sとする。
【0021】このようにして高速粒子を分散化させ均一
化して噴射口19から噴射するために、被加工物17の
表面構造、すなわち寸法精度や表面粗度、あるいは被加
工物の表面性状(加工歪)に関して、高品質のエッチン
グあるいはデポジション加工を行なうことができるよう
になっている。
【0022】このように本実施例に係る噴射加工装置に
よれば、とくに固気2相拡散管21の作用によって、遊
離微粒子の均一分散化が図られることになり、噴射口6
から均一に分散された遊離微粒子を高速噴射させて噴射
加工することが可能になり、被加工物17の良質な表面
構造と表面性状とを得ることが可能になる。
【0023】しかも粒径が0.01〜15μmの微粒子
の分散均一化した固気2相流の生成が実現可能になって
いるために、微細加工が可能になり、高品質のエッチン
グやデポジション加工が行ない得るようになった。
【0024】図3および図4は第2の実施例を示してお
り、図3はその正面図を、図4はその側断面図を示して
いる。なおこれらの図において、上記第1の実施例と対
応する部分には同一の符号を付すとともに、同一の構成
についてはその説明を省略する。
【0025】この第2の実施例においては、固気2相混
合拡散管21の形状が第1の実施例と異なっている。。 すなわちここでは一対の半管3の供給管2の軸線に対す
る角度が異なっており、入口側の角度25の方が出口側
の角度26よりも大きな値に設定されている。
【0026】すなわち供給管2から混合拡散管21の半
管3の拡がり角25を有するとともに、拡散管21から
噴射口6に達するまでの狭まり角26を有している。な
おここで入口側の角度25は7.5°〜15°の値に、
また出口側の角度は15°〜20°の角度に設定される
ことが好ましい。
【0027】このように入口側の角度25と出口側の角
度26とをそれぞれ図4のように設定すると、固気2相
流7が混合拡散管21で圧力が急激に変わらないために
、とくに粒径の大きな1〜15μmの微粒子の分散およ
び均一化には、渦流8を少なめにする効果があり、固気
2相流の流れを混合拡散化して噴射口6で均一化した方
がよい。すなわち入口側の角度25と出口側の角度26
とをそれぞれ上述のように設定することによって、エッ
チング加工に好適な噴射加工装置が提供できるようにな
る。
【0028】
【発明の効果】以上のように本発明は、固気2相供給管
の先端部に断面が4辺形の固気混合拡散管を上記固気2
相供給管と軸線が互いに交差するように接続し、しかも
固気2相拡散管の稜線部分に噴射口を形成し、この噴射
口から微粒子を含む固気2相流を高速で噴射するように
したものである。
【0029】従ってこのような構成によれば、とくに固
気混合拡散管によって微粒子の均一分散化を図ることが
可能になり、粒径が非常に小さな微粒子を分散均一化し
て噴射加工を行なうことが可能になり、高品質のエッチ
ングやデポジション加工が達成されるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施例の噴射加工装置の正面図である。
【図2】同側断面図である。
【図3】第2の実施例の噴射加工装置の正面図である。
【図4】同側断面図である。
【図5】従来のサンドブラスト装置の要部縦断面図であ
る。
【符号の説明】
2  固気2相供給管 3  半管 4  対向面 5  稜線 6  噴射口 7  固気2相流 8  矢印(渦流) 9  噴射流 10  側板(左) 11  側板(右) 12、13  接合部 14  長辺(内面) 15  短辺(内面) 16  短辺 17  被加工物 18  被加工面 19  接続口 21  固気2相拡散管 25  角度(入口側) 26  角度(出口側) 31  粒体供給管 32  圧縮空気供給管 33  外周囲 34  噴射口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  微粒子を含む固気2相流を被加工物に
    噴射して加工を行なうようにした装置において、固気2
    相供給管の先端部に断面が4辺形の固気混合拡散管を前
    記固気2相供給管と軸線が互いに交差するように接続し
    、しかも前記固気混合拡散管の稜線部分に噴射口を形成
    し、該噴射口から微粒子を含む固気2相流を高速で噴射
    するようにしたことを特徴とする微粒子の噴射加工装置
JP12514491A 1991-04-26 1991-04-26 微粒子の噴射加工装置 Pending JPH04331074A (ja)

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