JPH04328230A - 電子銃 - Google Patents

電子銃

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JPH04328230A
JPH04328230A JP3097767A JP9776791A JPH04328230A JP H04328230 A JPH04328230 A JP H04328230A JP 3097767 A JP3097767 A JP 3097767A JP 9776791 A JP9776791 A JP 9776791A JP H04328230 A JPH04328230 A JP H04328230A
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JP
Japan
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filament
electron gun
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maximum
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JP3097767A
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Noriaki Nakanishi
中西 典顯
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Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子線マイクロアナラ
イザ等の電子線発生装置に関し、特に、電子銃の位置を
精密に調整する必要のある電子線発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子線マイクロアナライザ等、電子ビー
ムを細く絞って試料に照射する電子線発生装置では、電
子線光学系が非常に精密に調整されているため、電子線
の発生位置も同様に正確に所定位置にあることが要求さ
れる。従って、電子銃のフィラメントの交換を行った後
や、さらには、電子線発生装置の電源を一旦切って、装
置が冷却した後に再度電源を入れた時にも、フィラメン
ト位置の調整を行う必要がある。
【0003】従来の電子銃においては、図5に示すよう
に、フィラメントユニットを保持する枠40が試料表面
に平行な平面(図5では紙面と一致)内で移動可能にな
っており、この枠40が4方向からネジ41、42、4
3、44によって電子銃のハウジング45に固定されて
いた。フィラメント位置の調整を行う場合、操作者は電
子線マイクロアナライザ等の装置に付いている試料電流
計を見ながら、試料電流が最大となるように、一方のネ
ジを緩め、反対側のネジを締めて、フィラメントを一方
向(X方向とする)に移動させる。こうしてX方向につ
いてのフィラメントの移動を左右に繰り返し、試料電流
が最大となる点でX方向の位置を決める。次に、それに
直角な方向(Y方向とする)についても同様にフィラメ
ントの往復動を繰り返し、試料電流が最大となる点を求
める。しかし、試料電流が最大となる点はX−Y平面内
で2次元的に求める必要があるため、再びX方向につい
て試料電流が最大である点を探す。このようにして、X
、Y両方向について何度か往復動を繰り返して初めてフ
ィラメントの最適点を見つけだすことができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述の通り、このよう
なフィラメント位置の調整は、フィラメントユニットの
交換を行った後のみならず、安定した分析結果を得るた
めには望ましくは電子線発生装置の電源を入れる毎に行
う必要がある。しかし、これでは調整操作が余りに煩雑
であり、また、時間も取られる。本発明はこのような課
題を解決するために成されたものであり、その目的とす
るところは、フィラメントの位置調整の簡単な電子銃を
提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明では、電子ビームが照射される方向に
対して垂直な平面内でフィラメントの位置を調整する必
要のある電子銃において、(a)上記平面内の少なくと
も2方向においてフィラメントを保持する部材を移動さ
せる移動手段と、(b)フィラメントが移動手段により
移動されている間、試料電流を検出する試料電流検出手
段と、(c)各方向において、試料電流が最大となるフ
ィラメントの位置を決定する位置決定手段とを備えるこ
とを特徴とする。
【0006】
【作用】はじめに、移動手段(a)により1つの方向に
フィラメントを移動させ、その間の試料電流を電流検出
手段(b)により検出する。そして、位置決定手段(c
)により、その方向において試料電流が最大となるフィ
ラメントの位置を決定し、移動手段(a)によりフィラ
メントをその位置まで移動させる。次に、他の1つの方
向で同様の操作を行ない、その方向において試料電流が
最大となる位置にフィラメントを移動させる。この動作
を各方向について繰り返すことにより、フィラメントは
上記平面内で試料電流が最大となる位置に移動される。
【0007】
【実施例】図1に本発明の一実施例である電子銃のフィ
ラメント調整機構の構成を示す。本実施例の電子銃では
、フィラメントユニットを保持する内枠11が電子銃の
ハウジング12に、直交する2方向(X、Y方向とする
)で保持されており、両方向における位置調整機構は全
く同一となっている。また、両方向は互いに独立に調整
することができるようになっている。
【0008】フィラメントユニット10を保持する内枠
11のX方向の位置を調整する機構を、図1及び図2に
より説明する。なお、フィラメントユニット10におい
て電子を放出するフィラメント13は高圧ガイシ14の
下部に固定されており、フィラメントユニット10は高
圧ガイシ14の上部において内枠11に気密に固定され
ている。内枠11はX方向において、一方からはバネ1
5により押され、反対方向からはネジ16により押され
ている。ネジ16はパルスモータ17により回転駆動さ
れるようになっている。
【0009】内枠11のバネ側及びネジ側にはセンサド
グ20、21が固定され、ハウジング12(詳しくは、
下側の真空室と上側のメンテナンス室とを隔てる隔壁部
材19)の方にはセンサドグ20、21が各方向の限界
位置に来たことを検出するリミットセンサ22、23が
固定されている。ここにおける限界位置とは、フィラメ
ント13がフィラメントユニット10に対してどのよう
な位置に関係にあろうとも、フィラメントユニット10
を保持する内枠11がその位置まで来たときにはもはや
フィラメント13が最適位置(試料電流が最大となる位
置)とはなり得ないような位置である。なお、本実施例
においては、センサ22、23はドグ20、21が所定
の限界位置に来たかどうかを検出する機能だけを有する
が、連続的に位置を検出するようなセンサを用いても構
わない。以上説明したのはX方向の位置調整機構である
が、Y方向の位置調整機構も全く同様に構成されている
【0010】X、Y両方向のパルスモータ17は図3に
示す制御装置30に接続され、制御装置30からの指令
により駆動される。また、X方向及びY方向の両側(図
3では+及び−で表わす)のセンサ22、23も制御装
置30に接続され、さらに、試料電流を検出する電流計
31の出力も制御装置30に送られる。
【0011】次に、本実施例の電子銃においてフィラメ
ントの位置調整を行う場合に制御装置30の行う処理を
説明する。まず、いずれか一方の方向(いま、X方向と
する)のパルスモータ17を駆動し、一方のリミットセ
ンサ(いま、図1の左上のリミットセンサ22とする)
により限界位置が検出されるまで、内枠11を移動する
。そして、フィラメント13から電子を放出させながら
、パルスモータ17を反対方向に回転させる。この間、
モータ17に与えたパルスの所定個数毎に、試料電流計
31から入力される電流値を制御装置30内のメモリ(
図示せず)に記憶してゆく。こうして内枠11がX方向
の反対側の限界位置まで来たとき、リミットセンサ23
からの検出信号によりパルスモータ17を停止する。
【0012】これにより、メモリ内には図4に示すよう
なグラフに相当するデータが格納される。このグラフで
は、横軸はモータ17に与えられたパルス数であるが、
これは内枠11のX方向の位置に対応する。縦軸は試料
電流値であり、このグラフにより、試料電流が最大とな
るX方向の位置XM1を確定することができる。従って
、制御装置30はメモリのデータを読み出し、周知の最
大値検出処理を行うことによりXM1の位置を決定し、
パルスモータ17を駆動して内枠11をその位置XM1
まで移動させる。次に、Y方向についても同様の処理を
行い、内枠11を試料電流が最大となる位置YM1に移
動させる。これらの動作を2回又は3回程度繰り返すこ
とにより、内枠11を(すなわち、フィラメント13を
)X−Y平面内で最適の(すなわち、試料電流が最大と
なる)位置に持ってくることができる。
【0013】なお、上記実施例では移動手段はパルスモ
ータ17、ネジ16及びバネ15により構成される。ま
た、実施例では位置調整を行う方向を互いに直交する2
方向(X、Y)としたが、3方向以上で調整するように
してもよい。この場合には、最適位置に到達するまでの
繰り返し数を減らすことができる。また、2方向の場合
でも、両方向は必ずしも直交する必要はない。
【0014】
【発明の効果】本発明に係る電子銃では、試料電流が最
大となるフィラメントの位置を各方向毎に自動的に検出
することができる。従って、各方向についてフィラメン
トを最適の位置に持ってくる操作もすべて自動的に行う
ことができるため、フィラメント位置調整の操作が非常
に簡単となる。また、調整時間も短くすることができる
【図面の簡単な説明】
【図1】  本発明の一実施例である電子銃の平面図。
【図2】  実施例の電子銃の断面図。
【図3】  制御系統を示すブロック図。
【図4】  フィラメント位置と試料電流との関係を示
すグラフ。
【図5】  従来の電子銃の平面図。
【符号の説明】
10…フィラメントユニット          11
…内枠12…電子銃ハウジング           
   13…フィラメント 14…高圧ガイシ                 
   15…バネ16…ネジ            
              17…パルスモータ 19…隔壁部材                  
    20、21…センサドグ 22、23…リミットセンサ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  電子ビームが照射される方向に対して
    垂直な平面内でフィラメントの位置を調整する必要のあ
    る電子銃において、上記平面内の少なくとも2方向にお
    いてフィラメントを保持する部材を移動させる移動手段
    と、フィラメントが移動手段により移動されている間、
    試料電流を検出する試料電流検出手段と、各方向におい
    て、試料電流が最大となるフィラメントの位置を決定す
    る位置決定手段とを備えることを特徴とするフィラメン
    ト位置調整機能付電子銃。
JP3097767A 1991-04-30 1991-04-30 電子銃 Expired - Lifetime JP2650508B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010182466A (ja) * 2009-02-04 2010-08-19 Jeol Ltd 冷陰極電子銃の自動入射軸合わせ方法
CN107452578A (zh) * 2017-09-04 2017-12-08 国家纳米科学中心 一种灯丝定位系统及灯丝定位方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62143351A (ja) * 1985-12-17 1987-06-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 自動光軸調整装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62143351A (ja) * 1985-12-17 1987-06-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 自動光軸調整装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010182466A (ja) * 2009-02-04 2010-08-19 Jeol Ltd 冷陰極電子銃の自動入射軸合わせ方法
CN107452578A (zh) * 2017-09-04 2017-12-08 国家纳米科学中心 一种灯丝定位系统及灯丝定位方法
JP6422561B1 (ja) * 2017-09-04 2018-11-14 国家納米科学中心 フィラメント位置決めシステム及びフィラメント位置決め方法

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