JPH04318005A - エチレン性不飽和単量体を基剤とするニトリル基を含有する共重合体の製造方法 - Google Patents
エチレン性不飽和単量体を基剤とするニトリル基を含有する共重合体の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/30—Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
-
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- C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
- C08F2800/10—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as molar percentages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、エチレン性不飽和単量体を基剤
とする、ニトリル基を含有する共重合体の製造方法に関
するものである。
とする、ニトリル基を含有する共重合体の製造方法に関
するものである。
【0002】EP O 381 973 は、圧倒的な
比率のエチレンと僅かな比率の α,β−不飽和カルボ
ン酸エステルとを含有する、相当する共重合体をアンモ
ニアと、120ないし280℃の温度、150ないし2
500バールの圧力で反応させることを特徴とする、エ
チレンを基剤とし、ニトリル基を含有する共重合体の製
造方法を開示している。
比率のエチレンと僅かな比率の α,β−不飽和カルボ
ン酸エステルとを含有する、相当する共重合体をアンモ
ニアと、120ないし280℃の温度、150ないし2
500バールの圧力で反応させることを特徴とする、エ
チレンを基剤とし、ニトリル基を含有する共重合体の製
造方法を開示している。
【0003】しかし、この方法は、工業的に許容し得る
相当するニトリルへの転化率を得るためには長い反応時
間と高い圧力とを必要とするという欠点を有している。 たとえば、このヨーロッパ特許明細書の実施例では15
00バールの圧力を使用している。
相当するニトリルへの転化率を得るためには長い反応時
間と高い圧力とを必要とするという欠点を有している。 たとえば、このヨーロッパ特許明細書の実施例では15
00バールの圧力を使用している。
【0004】基剤として使用する、圧倒的な比率のエチ
レン性不飽和単量体、僅かな比率の以下の一般式
レン性不飽和単量体、僅かな比率の以下の一般式
【00
05】
05】
【化3】
式中、R1は C1−C8−アルキル基を表すに相当す
る α,β−不飽和カルボン酸エステルおよび、所望な
らば他の共重合単量体をアンモニアと、150ないし2
70℃の温度および30ないし350バールの圧力で、
脂肪族ニトリルおよび/またはジニトリルと存在下に反
応させて得られる共重合体を基剤として使用することを
特徴とする、 a) 圧倒的な比率のエチレン性不飽和単量体の構造
単位、 b) 以下の一般式
る α,β−不飽和カルボン酸エステルおよび、所望な
らば他の共重合単量体をアンモニアと、150ないし2
70℃の温度および30ないし350バールの圧力で、
脂肪族ニトリルおよび/またはジニトリルと存在下に反
応させて得られる共重合体を基剤として使用することを
特徴とする、 a) 圧倒的な比率のエチレン性不飽和単量体の構造
単位、 b) 以下の一般式
【0006】
【化4】
式中、Rは水素または C1−C4−アルキル基を表す
に相当する僅かな比率の構造単位、および c) 所望ならば、他の共重合単量体から誘導された
構造単位 により構成された、エチレン性不飽和単量体を基剤とす
る、ニトリル基含有共重合体の製造方法がここに見いだ
された。
に相当する僅かな比率の構造単位、および c) 所望ならば、他の共重合単量体から誘導された
構造単位 により構成された、エチレン性不飽和単量体を基剤とす
る、ニトリル基含有共重合体の製造方法がここに見いだ
された。
【0007】本件反応は好ましくは180ないし250
℃の温度、50ないし150バールの圧力で実施する。
℃の温度、50ないし150バールの圧力で実施する。
【0008】本発明記載の共重合体中のエチレン性不飽
和単量体の比率は好ましくは55ないし95モル%であ
り、単位(I)のそれは好ましくは5ないし40モル%
であり、他の共重合単量体の単位のそれは好ましくは4
0モル%以内、特に20モル%以内である。70ないし
85モル%のエチレン性不飽和単量体と10ないし25
モル%の単位(I)との共重合体が特に好ましい。本発
明記載の方法は、これらのモル%に相当する同様な組成
の基本的共重合体を用いて実施する。
和単量体の比率は好ましくは55ないし95モル%であ
り、単位(I)のそれは好ましくは5ないし40モル%
であり、他の共重合単量体の単位のそれは好ましくは4
0モル%以内、特に20モル%以内である。70ないし
85モル%のエチレン性不飽和単量体と10ないし25
モル%の単位(I)との共重合体が特に好ましい。本発
明記載の方法は、これらのモル%に相当する同様な組成
の基本的共重合体を用いて実施する。
【0009】エチレン性不飽和単量体は好ましくはエチ
レンおよびスチレンである。
レンおよびスチレンである。
【0010】使用する共重合体は公知物質であるか、ま
たは、遊離基重合の公知の方法により、実質的にいかな
る所望の重合度にでも製造することができる。20,0
00ないし250,000の平均分子量に相当する重合
度が好ましい。
たは、遊離基重合の公知の方法により、実質的にいかな
る所望の重合度にでも製造することができる。20,0
00ないし250,000の平均分子量に相当する重合
度が好ましい。
【0011】一般式(II)に相当する不飽和カルボン
酸エステルには、たとえばアクリル酸およびメタクリル
酸のエステル、特にメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステルおよびブチルエステルが可能である。
酸エステルには、たとえばアクリル酸およびメタクリル
酸のエステル、特にメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステルおよびブチルエステルが可能である。
【0012】本発明記載の共重合体を合成し得る他の共
重合単量体には、たとえばより高級のオレフィン、たと
えばブテン、ペンテンおよびヘキセン、不飽和アルコー
ル、たとえばアリルアルコール、および二官能性単量体
、たとえばブタジエンおよびイソプレンが含まれる。
重合単量体には、たとえばより高級のオレフィン、たと
えばブテン、ペンテンおよびヘキセン、不飽和アルコー
ル、たとえばアリルアルコール、および二官能性単量体
、たとえばブタジエンおよびイソプレンが含まれる。
【0013】本発明記載の方法はまた、反応を完了まで
実施しない手法で制御することもできる。ここで得られ
る共重合体は、なおアミド官能基または初期のエステル
基を含有している。
実施しない手法で制御することもできる。ここで得られ
る共重合体は、なおアミド官能基または初期のエステル
基を含有している。
【0014】本発明記載の方法に使用するアンモニアの
量は、エステルの所望の転化の度合いに応じて変化する
が、少なくとも反応する基の数に対して等モルである。 一般には完全な転化が望まれるので、50倍までの過剰
のアンモニアを使用して反応を加速することが推奨され
る。反応させるエステルを基準にして2倍ないし10の
過剰のアンモニアが好適に使用される。
量は、エステルの所望の転化の度合いに応じて変化する
が、少なくとも反応する基の数に対して等モルである。 一般には完全な転化が望まれるので、50倍までの過剰
のアンモニアを使用して反応を加速することが推奨され
る。反応させるエステルを基準にして2倍ないし10の
過剰のアンモニアが好適に使用される。
【0015】本発明記載の工程に添加するニトリルは、
特に低分子量の脂肪族のニトリルおよび/またはジニト
リル、たとえばアセトニトリル、プロピオニトリル、バ
レロニトリル、酪酸ニトリルおよび/またはコハク酸ジ
ニトリル、好ましくはアセトニトリルである。
特に低分子量の脂肪族のニトリルおよび/またはジニト
リル、たとえばアセトニトリル、プロピオニトリル、バ
レロニトリル、酪酸ニトリルおよび/またはコハク酸ジ
ニトリル、好ましくはアセトニトリルである。
【0016】使用するニトリルの量は少なくともエステ
ル基の数に対して等モルであるべきであるが、ニトリル
が同時に重合体用の溶媒としても機能し、これが反応の
過程を簡単化するので、一般には5ないし50倍の過剰
を使用する。この過剰は反応後に容易に回収することが
できる。
ル基の数に対して等モルであるべきであるが、ニトリル
が同時に重合体用の溶媒としても機能し、これが反応の
過程を簡単化するので、一般には5ないし50倍の過剰
を使用する。この過剰は反応後に容易に回収することが
できる。
【0017】不活性溶媒、たとえばトルエン、テトラヒ
ドロフランおよび/またはジオキサンを添加して反応混
合物の粘性をさらに低下させることもできる。
ドロフランおよび/またはジオキサンを添加して反応混
合物の粘性をさらに低下させることもできる。
【0018】エステル基を含有する重合体の対応するニ
トリルへの転化が不十分であるならば、水を奪う反応剤
を添加して完了させることができる。この目的には、重
合体の反応溶液を無圧力で、水解放剤を用いて、任意に
溶媒の存在下に、過剰のアンモニアを放出したのちに反
応させる。
トリルへの転化が不十分であるならば、水を奪う反応剤
を添加して完了させることができる。この目的には、重
合体の反応溶液を無圧力で、水解放剤を用いて、任意に
溶媒の存在下に、過剰のアンモニアを放出したのちに反
応させる。
【0019】塩化チオニル、ホスゲン、塩化オキザリル
および/または三塩化リンが水解放剤の例であり、ホス
ゲンが好ましい。
および/または三塩化リンが水解放剤の例であり、ホス
ゲンが好ましい。
【0020】この水解放剤は一般には、なお存在するカ
ルボナミド基を基準にして2ないし10倍のモル過剰で
使用する。3ないし5倍の過剰が好適に使用される。反
応の終了後に蒸留により反応剤を回収し、その後の反応
に使用する。
ルボナミド基を基準にして2ないし10倍のモル過剰で
使用する。3ないし5倍の過剰が好適に使用される。反
応の終了後に蒸留により反応剤を回収し、その後の反応
に使用する。
【0021】本件反応は一般に、重合体の溶液または懸
濁液を水解放剤と高温で、任意に触媒の存在下に反応さ
せることにより実施する。
濁液を水解放剤と高温で、任意に触媒の存在下に反応さ
せることにより実施する。
【0022】使用する触媒にはジメチルホルムアミド、
ジメチルアセタミドおよび/または(酸化)トリフェニ
ルホスフィンが可能である。触媒の濃度は通常は、水解
放剤を基準にして0.01ないし5重量%である。
ジメチルアセタミドおよび/または(酸化)トリフェニ
ルホスフィンが可能である。触媒の濃度は通常は、水解
放剤を基準にして0.01ないし5重量%である。
【0023】水解放反応に使用する適当な溶媒は、使用
する重合体に対して十分な溶解能を有し、同時に、選択
した反応条件下で水解放剤と反応しないものである。ア
セトニトリル、クロロベンゼン、ニトロベンゼンおよび
/またはベンゾニトリルが例である。
する重合体に対して十分な溶解能を有し、同時に、選択
した反応条件下で水解放剤と反応しないものである。ア
セトニトリル、クロロベンゼン、ニトロベンゼンおよび
/またはベンゾニトリルが例である。
【0024】後反応においては、使用する溶媒の量を基
準にした重合体の濃度は一般に3ないし25重量%、好
ましくは5ないし20重量%である。この反応はまた、
未溶解重合体を用いて、たとえば混練機中で実施するこ
ともできる。
準にした重合体の濃度は一般に3ないし25重量%、好
ましくは5ないし20重量%である。この反応はまた、
未溶解重合体を用いて、たとえば混練機中で実施するこ
ともできる。
【0025】後反応の反応時間は約2ないし16時間で
あり、反応温度は20ないし180℃、好ましくは40
ないし120℃である。
あり、反応温度は20ないし180℃、好ましくは40
ないし120℃である。
【0026】本発明記載のニトリル基含有共重合体は、
成形品およびフィルムの製造に使用することができる。
成形品およびフィルムの製造に使用することができる。
【0027】
【実施例】240,000の平均分子量を有する不規則
な構造のエチレンとアクリル酸メチルとの共重合体(モ
ル比2.5:1)3gを15mlのTHF/アセトニト
リル(1:2)の混合物に溶解させ、1.3gのアンモ
ニアとオートクレーブ中、140バール、240℃で1
8時間反応させた。生成物のIR分析は、2236cm
−1 のニトリル吸収帯に加えて、エステルの完全転化
を示した。元素分析により測定した重合体の窒素値およ
び酸素値は、50 %のニトリル基と50%のアミド基
とが重合体中に形成されていることを示した。
な構造のエチレンとアクリル酸メチルとの共重合体(モ
ル比2.5:1)3gを15mlのTHF/アセトニト
リル(1:2)の混合物に溶解させ、1.3gのアンモ
ニアとオートクレーブ中、140バール、240℃で1
8時間反応させた。生成物のIR分析は、2236cm
−1 のニトリル吸収帯に加えて、エステルの完全転化
を示した。元素分析により測定した重合体の窒素値およ
び酸素値は、50 %のニトリル基と50%のアミド基
とが重合体中に形成されていることを示した。
【0028】なお存在するアミドのニトリルへの完全転
化は、反応溶液とホスゲンとの反応により達成すること
ができた。
化は、反応溶液とホスゲンとの反応により達成すること
ができた。
【0029】この目的のために、得られた共重合体の溶
液を2gのホスゲンと、30mlのクロロベンゼンを添
加して、0.1gの(酸化)トリフェニルホスフィンの
存在下に70℃で4時間反応させた。得られた反応生成
物は、たとえば反応溶液をメタノール中に撹拌混入して
沈澱させることができた。対応するニトリルへの完全転
化は既に述べたようにして達成された。
液を2gのホスゲンと、30mlのクロロベンゼンを添
加して、0.1gの(酸化)トリフェニルホスフィンの
存在下に70℃で4時間反応させた。得られた反応生成
物は、たとえば反応溶液をメタノール中に撹拌混入して
沈澱させることができた。対応するニトリルへの完全転
化は既に述べたようにして達成された。
【0030】
(ニトリル[アセトニトリル]の添加なし)上記の実施
例で使用した共重合体を15mlの THF に溶解さ
せ、1.3gのアンモニアとオートクレーブ中、140
バール、240℃で18時間反応させた。生成物のIR
分析はニトリルの吸収領域(2230ないし2240c
m−1)に吸収帯を示さなかった。
例で使用した共重合体を15mlの THF に溶解さ
せ、1.3gのアンモニアとオートクレーブ中、140
バール、240℃で18時間反応させた。生成物のIR
分析はニトリルの吸収領域(2230ないし2240c
m−1)に吸収帯を示さなかった。
【0031】
【0032】
【実施態様項1】 圧倒的な比率のエチレン性不飽和
単量体、以下の一般式
単量体、以下の一般式
【0033】
【化5】
式中、R1は C1−C8−アルキル基を表すに相当す
る僅かな比率の α,β−不飽和カルボン酸エステル、
および所望ならば他の共重合単量体をアンモニアと、1
50ないし270℃の温度および30ないし350バー
ルの圧力で、脂肪族ニトリルおよび/またはジニトリル
の存在下に反応させて得られる共重合体を基剤として使
用することを特徴とする、 a) 圧倒的な比率のエチレン性不飽和単量体の構造
単位、 b) 以下の一般式
る僅かな比率の α,β−不飽和カルボン酸エステル、
および所望ならば他の共重合単量体をアンモニアと、1
50ないし270℃の温度および30ないし350バー
ルの圧力で、脂肪族ニトリルおよび/またはジニトリル
の存在下に反応させて得られる共重合体を基剤として使
用することを特徴とする、 a) 圧倒的な比率のエチレン性不飽和単量体の構造
単位、 b) 以下の一般式
【0034】
【化6】
式中、Rは水素または C1−C4−アルキル基を表す
に相当する僅かな比率の構造単位、および c) 所望ならば、他の共重合単量体から誘導された
構造単位により構成された、エチレン性不飽和単量体を
基剤とする、ニトリル基を含有する共重合体の製造方法
。
に相当する僅かな比率の構造単位、および c) 所望ならば、他の共重合単量体から誘導された
構造単位により構成された、エチレン性不飽和単量体を
基剤とする、ニトリル基を含有する共重合体の製造方法
。
【0035】
【実施態様項2】 反応を完了(エステル基のニトリ
ル基への完全転化)させ、最初に得られる共重合体を水
解放剤を用いて、任意に触媒の存在下に、かつ溶媒の存
在下に処理することを特徴とする実施態様項1記載の方
法。
ル基への完全転化)させ、最初に得られる共重合体を水
解放剤を用いて、任意に触媒の存在下に、かつ溶媒の存
在下に処理することを特徴とする実施態様項1記載の方
法。
【0036】
【実施態様項3】 上記の後処理を無加圧で、20な
いし180℃で実施することを特徴とする実施態様項1
および2記載の方法。
いし180℃で実施することを特徴とする実施態様項1
および2記載の方法。
Claims (2)
- 【請求項1】 圧倒的な比率のエチレン性不飽和単量
体、以下の一般式 【化1】 式中、R1は C1−C8−アルキル基を表すに相当す
る僅かな比率の α,β−不飽和カルボン酸エステル、
および所望ならば他の共重合単量体をアンモニアと、1
50ないし270℃の温度および30ないし350バー
ルの圧力で、脂肪族ニトリルおよび/またはジニトリル
の存在下に反応させて得られる共重合体を基剤として使
用することを特徴とする、 a) 圧倒的な比率のエチレン性不飽和単量体の構造
単位、 b) 以下の一般式 【化2】 式中、Rは水素または C1−C4−アルキル基を表す
に相当する僅かな比率の構造単位、および c) 所望ならば、他の共重合単量体から誘導された
構造単位 により構成された、エチレン性不飽和単量体を基剤とす
る、ニトリル基を含有する共重合体の製造方法。 - 【請求項2】 反応を完了(エステル基のニトリル基
への完全転化)させ、最初に得られる共重合体を水解放
剤を用いて、任意に触媒の存在下に、かつ溶媒の存在下
に処理することを特徴とする請求項1記載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4102998.4 | 1991-02-01 | ||
DE4102998A DE4102998A1 (de) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | Verfahren zur herstellung von nitrilgruppen enthaltenden copolymerisaten auf basis von ethylenisch ungesaettigten monomeren |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04318005A true JPH04318005A (ja) | 1992-11-09 |
JP3224259B2 JP3224259B2 (ja) | 2001-10-29 |
Family
ID=6424150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03836792A Expired - Fee Related JP3224259B2 (ja) | 1991-02-01 | 1992-01-30 | エチレン性不飽和単量体を基剤とするニトリル基を含有する共重合体の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5221718A (ja) |
EP (1) | EP0497173B1 (ja) |
JP (1) | JP3224259B2 (ja) |
CA (1) | CA2060293C (ja) |
DE (2) | DE4102998A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000059959A1 (fr) * | 1999-03-31 | 2000-10-12 | Daikin Industries, Ltd. | Élastomère fluoré comportant un groupe nitrile et procédé de production dudit élastomère |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3902389A1 (de) * | 1989-01-27 | 1990-08-16 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von nitrilgruppen enthaltenden copolymerisaten auf basis von ethylen |
-
1991
- 1991-02-01 DE DE4102998A patent/DE4102998A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-01-20 EP EP92100824A patent/EP0497173B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-01-20 DE DE59203060T patent/DE59203060D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-21 US US07/822,870 patent/US5221718A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-01-29 CA CA002060293A patent/CA2060293C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-30 JP JP03836792A patent/JP3224259B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0497173A1 (de) | 1992-08-05 |
CA2060293A1 (en) | 1992-08-02 |
JP3224259B2 (ja) | 2001-10-29 |
DE59203060D1 (de) | 1995-09-07 |
DE4102998A1 (de) | 1992-08-13 |
CA2060293C (en) | 2003-06-10 |
US5221718A (en) | 1993-06-22 |
EP0497173B1 (de) | 1995-08-02 |
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