JPH04308045A - 熱処理炉の温度制御方法 - Google Patents
熱処理炉の温度制御方法Info
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- JPH04308045A JPH04308045A JP3098032A JP9803291A JPH04308045A JP H04308045 A JPH04308045 A JP H04308045A JP 3098032 A JP3098032 A JP 3098032A JP 9803291 A JP9803291 A JP 9803291A JP H04308045 A JPH04308045 A JP H04308045A
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- JP
- Japan
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- temperature
- heat
- heated
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- heat treatment
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- Pending
Links
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 15
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
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Landscapes
- Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は金属製部品等の被熱物に
焼入れ，焼戻，焼結等の熱処理をする熱処理炉の温度制
御方法に関するものである。
焼入れ，焼戻，焼結等の熱処理をする熱処理炉の温度制
御方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】金属製部品の熱処理に要求される温度管
理は近時の品質向上の観点から一層厳密なものが必要と
されるものようになって来ている。ところで従来一般に
は熱処理炉の温度制御は炉内雰囲気の温度を測定するこ
とにより行なわれていた。
理は近時の品質向上の観点から一層厳密なものが必要と
されるものようになって来ている。ところで従来一般に
は熱処理炉の温度制御は炉内雰囲気の温度を測定するこ
とにより行なわれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、被熱物であ
る金属製部品が肉厚或いは塊状形態の物である場合、被
熱物表面と内部との温度差が大きくなり、特に被熱物を
急冷する過程での表面と内部との温度差は顕著となり易
くその場合には表層と内部とのマルテンサイト化のタイ
ミングが遅れるため歪が出て所期の熱処理効果が達成さ
れないという問題があった。
る金属製部品が肉厚或いは塊状形態の物である場合、被
熱物表面と内部との温度差が大きくなり、特に被熱物を
急冷する過程での表面と内部との温度差は顕著となり易
くその場合には表層と内部とのマルテンサイト化のタイ
ミングが遅れるため歪が出て所期の熱処理効果が達成さ
れないという問題があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
しようとするもので、熱処理室内に被熱物と伴に該被熱
物と同一または近似材質，形状のダミー材を配設し、該
ダミー材には内部に温度センサを埋設し、昇温完了後ま
たは冷却中は該温度センサにより測定された温度測定信
号により冷却条件を制御するようにしたものである。
しようとするもので、熱処理室内に被熱物と伴に該被熱
物と同一または近似材質，形状のダミー材を配設し、該
ダミー材には内部に温度センサを埋設し、昇温完了後ま
たは冷却中は該温度センサにより測定された温度測定信
号により冷却条件を制御するようにしたものである。
【０００５】
【作用】ダミー材内部に埋設された温度センサによつて
被熱物の実体温度が測定できその温度測定信号により冷
却ガスの温度，風量，時間等の冷却条件を制御すること
で被熱物を所要のヒートパターンに従い正確に温度コン
トロールでき高品質の熱処理を可能とする。
被熱物の実体温度が測定できその温度測定信号により冷
却ガスの温度，風量，時間等の冷却条件を制御すること
で被熱物を所要のヒートパターンに従い正確に温度コン
トロールでき高品質の熱処理を可能とする。
【０００６】
【実施例】次に図面と共に本発明の一実施例を説明する
。図１にこの実施例の真空熱処理炉における制御系統図
を示し、図中１は真空容器２内に形成された熱処理室で
ある。熱処理室１内中央にはバケット３が配置され該バ
ケット３に複数個の被熱物４が容れられている。５は該
被熱物４を加熱するため熱処理室１の内壁に沿って設け
られたヒータで該ヒータ５はサイリスタ１６を通して供
給される電力により発熱量がコントロールされる。熱処
理室１の相対する壁面には夫々蓋板６，７によって開閉
し得る開口８，９が設けられる。１０は該開口８に相対
するように真空容器２内に設けられたガス循環用ファン
、１１は真空容器２内の循環ガスを冷却するクーラであ
る。
。図１にこの実施例の真空熱処理炉における制御系統図
を示し、図中１は真空容器２内に形成された熱処理室で
ある。熱処理室１内中央にはバケット３が配置され該バ
ケット３に複数個の被熱物４が容れられている。５は該
被熱物４を加熱するため熱処理室１の内壁に沿って設け
られたヒータで該ヒータ５はサイリスタ１６を通して供
給される電力により発熱量がコントロールされる。熱処
理室１の相対する壁面には夫々蓋板６，７によって開閉
し得る開口８，９が設けられる。１０は該開口８に相対
するように真空容器２内に設けられたガス循環用ファン
、１１は真空容器２内の循環ガスを冷却するクーラであ
る。
【０００７】１２は被熱物４と伴に熱処理室１内に配設
された該被熱物４と同一材質，同一形状のダミー材で、
該ダミー材１２には図２に示したように穴１３を穿設し
該穴１３中に熱電対式の温度センサ１４を埋設する。ま
た、１５は熱処理室１内のガス温度を測るためにその室
壁に設けられた温度センサである。
された該被熱物４と同一材質，同一形状のダミー材で、
該ダミー材１２には図２に示したように穴１３を穿設し
該穴１３中に熱電対式の温度センサ１４を埋設する。ま
た、１５は熱処理室１内のガス温度を測るためにその室
壁に設けられた温度センサである。
【０００８】しかして、１７は温度制御装置（プログラ
ムコントローラ）、１８は温度記録計で、該温度制御装
置１７と記録計１８の入力端子には切換スイッチ１９の
切換によつて前記温度センサ１４かまたは温度センサ１
５の温度測定信号が択一的に入力し得るように配線され
ている。温度制御装置１７は前記サイリスタ１６に指令
を出してヒータ５の発熱量をコントロールするほか、バ
ルブ２０の開度を指令しクーラ１１への給水量を調整す
ることにより該クーラ１１の強度コントロールをし、さ
らにはインバータ制御によってモータ２１の回転数を調
整し循環ファン１０の回転数をコントロールすることに
より真空容器２中の冷却ガスの温度および循環風量等の
冷却条件をコントロールできるようにしている。
ムコントローラ）、１８は温度記録計で、該温度制御装
置１７と記録計１８の入力端子には切換スイッチ１９の
切換によつて前記温度センサ１４かまたは温度センサ１
５の温度測定信号が択一的に入力し得るように配線され
ている。温度制御装置１７は前記サイリスタ１６に指令
を出してヒータ５の発熱量をコントロールするほか、バ
ルブ２０の開度を指令しクーラ１１への給水量を調整す
ることにより該クーラ１１の強度コントロールをし、さ
らにはインバータ制御によってモータ２１の回転数を調
整し循環ファン１０の回転数をコントロールすることに
より真空容器２中の冷却ガスの温度および循環風量等の
冷却条件をコントロールできるようにしている。
【０００９】この熱処理炉では、図示したようにバケッ
ト３中に被熱物４と伴にダミー材１２を入れて熱処理室
１内に配置し熱処理を行う。そして加熱中は切換スイッ
チ１９が温度制御装置１７の指令により温度センサ１５
側に切換えられていて熱処理室１内の温度を検知するこ
とにより温度制御装置１７に予め記憶された温度曲線に
従い昇温するようにサイリスタ１６に指令を出してヒー
タ５の発熱量をコントロールする。図３にそのような温
度曲線の一例を示し、この場合熱処理室１内温度を１０
５０〜１１５０℃に昇温後一定時間保持することで、被
熱物４およびダミー材１２が均熱する。
ト３中に被熱物４と伴にダミー材１２を入れて熱処理室
１内に配置し熱処理を行う。そして加熱中は切換スイッ
チ１９が温度制御装置１７の指令により温度センサ１５
側に切換えられていて熱処理室１内の温度を検知するこ
とにより温度制御装置１７に予め記憶された温度曲線に
従い昇温するようにサイリスタ１６に指令を出してヒー
タ５の発熱量をコントロールする。図３にそのような温
度曲線の一例を示し、この場合熱処理室１内温度を１０
５０〜１１５０℃に昇温後一定時間保持することで、被
熱物４およびダミー材１２が均熱する。
【００１０】こうして加熱、均熱が達成されたところで
切換スイッチ１９は温度制御装置１７からの指令で温度
センサ１４側に切換えられ、温度センサ１４にて測定さ
れるダミー材１２内部の温度に従い温度制御装置１７が
バルブ２０の開度，モータ２１の回転数を制御すること
により真空容器２内のガスを矢印で示したように循環さ
せ所要の冷却条件にて被熱物４およびダミー材１２を冷
却する。この場合温度センサ１４にて測定されるダミー
材１２内部の温度は図３中に破断線で例示したようにゆ
っくり降温するのでその測定温度がその材料のマルテン
サイト変態温度より少し高い温度にて均熱するのを待っ
てからさらに冷却温度を下げることで内外温度差の拡大
を防ぎ歪を防止し得る。
切換スイッチ１９は温度制御装置１７からの指令で温度
センサ１４側に切換えられ、温度センサ１４にて測定さ
れるダミー材１２内部の温度に従い温度制御装置１７が
バルブ２０の開度，モータ２１の回転数を制御すること
により真空容器２内のガスを矢印で示したように循環さ
せ所要の冷却条件にて被熱物４およびダミー材１２を冷
却する。この場合温度センサ１４にて測定されるダミー
材１２内部の温度は図３中に破断線で例示したようにゆ
っくり降温するのでその測定温度がその材料のマルテン
サイト変態温度より少し高い温度にて均熱するのを待っ
てからさらに冷却温度を下げることで内外温度差の拡大
を防ぎ歪を防止し得る。
【００１１】なお、昇温時においてはダミー材内部の昇
温が遅れるので、ダミー材内の温度センサ１４にて制御
すると炉がオーバーヒートすることとなる。従って昇温
中は温度センサ１５にて制御することが必要である。
温が遅れるので、ダミー材内の温度センサ１４にて制御
すると炉がオーバーヒートすることとなる。従って昇温
中は温度センサ１５にて制御することが必要である。
【００１２】
【発明の効果】このように本発明の熱処理炉の温度制御
装置は、ダミー材内部に温度センサを埋設し、昇温完了
後、または冷却中は該温度センサにより測定された被熱
物の実体温度により冷却ガスの温度，風量，時間等の冷
却条件を制御するものであるので、被熱物を所要のヒー
トパターンに従い正確に温度コントロールできる。この
ため比較的肉厚，或いは塊状形態の被熱物でも歪のない
高品質な熱処理を可能ならしめる有益な効果がある。
装置は、ダミー材内部に温度センサを埋設し、昇温完了
後、または冷却中は該温度センサにより測定された被熱
物の実体温度により冷却ガスの温度，風量，時間等の冷
却条件を制御するものであるので、被熱物を所要のヒー
トパターンに従い正確に温度コントロールできる。この
ため比較的肉厚，或いは塊状形態の被熱物でも歪のない
高品質な熱処理を可能ならしめる有益な効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す真空熱処理炉の制御系
統図。
統図。
【図２】ダミー材の断面図。
【図３】温度曲線図。
１ 熱処理室
４ 被熱物
５ ヒータ
１０ 循環用ファン
１１ クーラ
１２ ダミー材
１３ 穴
１４ 温度センサ
１７ 温度制御装置
Claims (1)
- 【請求項１】 熱処理室内に被熱物と伴に該被熱物と
同一または近似材質，形状のダミー材を配設し、該ダミ
ー材には内部に温度センサを埋設し、昇温完了後または
冷却中は該温度センサにより測定された温度測定信号に
より冷却条件を制御するようにしたことを特徴とする熱
処理炉の温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3098032A JPH04308045A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 熱処理炉の温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3098032A JPH04308045A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 熱処理炉の温度制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04308045A true JPH04308045A (ja) | 1992-10-30 |
Family
ID=14208675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3098032A Pending JPH04308045A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 熱処理炉の温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04308045A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100404739B1 (ko) * | 2001-07-18 | 2003-11-12 | 주식회사 신명 | 세라믹 전자부품 제조용 박스형 로 |
| KR20190106428A (ko) * | 2018-03-09 | 2019-09-18 | 김명진 | 금속제품 열처리 장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63165546U (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 |
-
1991
- 1991-04-03 JP JP3098032A patent/JPH04308045A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63165546U (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100404739B1 (ko) * | 2001-07-18 | 2003-11-12 | 주식회사 신명 | 세라믹 전자부품 제조용 박스형 로 |
| KR20190106428A (ko) * | 2018-03-09 | 2019-09-18 | 김명진 | 금속제품 열처리 장치 |
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