JPH04302832A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH04302832A JPH04302832A JP3089091A JP8909191A JPH04302832A JP H04302832 A JPH04302832 A JP H04302832A JP 3089091 A JP3089091 A JP 3089091A JP 8909191 A JP8909191 A JP 8909191A JP H04302832 A JPH04302832 A JP H04302832A
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- JP
- Japan
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- metal layer
- layer
- optical disc
- corrosion
- high reflectance
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- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光を利用した情報記憶媒
体に関し、特に光ディスクに関するものである。
体に関し、特に光ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、大量の情報を記録し、取り扱うこ
とができる媒体として、コンパクトディスク、レーザー
ディスク、ＣＤ−ＲＯＭあるいは光磁気ディスク等が利
用されるようになってきた。
とができる媒体として、コンパクトディスク、レーザー
ディスク、ＣＤ−ＲＯＭあるいは光磁気ディスク等が利
用されるようになってきた。
【０００３】図３は従来の光ディスクの一例を示す模式
図である。同図に示す様に、光ディスクは、基板１上に
高反射率を有する金属層からなる反射層５を設け、その
上に保護層を設けて反射層５を保護してなるものが一般
的である。
図である。同図に示す様に、光ディスクは、基板１上に
高反射率を有する金属層からなる反射層５を設け、その
上に保護層を設けて反射層５を保護してなるものが一般
的である。
【０００４】これらのディスクは、その駆動装置に搭載
されているレーザー光を反射させ、その反射光に情報に
対応した強度変化を起こさせることにより、情報の読み
出しを行なっている。そのため、安定にかつ光強度変化
を大きくするために、高い反射率を有する金属層がコー
トされている。金属層には、例えば、Ａｌ，Ａｇ，Ａｕ
，，Ｃｕ等が用いられているが、コスト、生産性の点か
ら優れているＡｌが一般に使用されている。そして、金
属層はスパッタ法や蒸着法により形成されている。
されているレーザー光を反射させ、その反射光に情報に
対応した強度変化を起こさせることにより、情報の読み
出しを行なっている。そのため、安定にかつ光強度変化
を大きくするために、高い反射率を有する金属層がコー
トされている。金属層には、例えば、Ａｌ，Ａｇ，Ａｕ
，，Ｃｕ等が用いられているが、コスト、生産性の点か
ら優れているＡｌが一般に使用されている。そして、金
属層はスパッタ法や蒸着法により形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ａｌは
薄膜の状態では特に活性であり、酸化されやすいという
性質を有している。また、Ａｌは軟らかい金属であるた
め、傷が付きやすいという欠点がある。そのため、光デ
ィスクでは、Ａｌの金属層を保護するために、紫外線硬
化樹脂等がコートされている。
薄膜の状態では特に活性であり、酸化されやすいという
性質を有している。また、Ａｌは軟らかい金属であるた
め、傷が付きやすいという欠点がある。そのため、光デ
ィスクでは、Ａｌの金属層を保護するために、紫外線硬
化樹脂等がコートされている。
【０００６】このような保護コートが設けられている光
ディスクでも、高温高湿の耐久テストにおいて、徐々に
酸化され、エラーレートが悪くなるという問題点があっ
た。極端な場合には、透明化してしまうこともある。そ
のために、ＡｌにＣｒ， Ｔｉ等を添加して、耐食性を
向上させる方法（特開昭６２−１３７７４３号公報）が
提案されているが、それでも不充分であった。
ディスクでも、高温高湿の耐久テストにおいて、徐々に
酸化され、エラーレートが悪くなるという問題点があっ
た。極端な場合には、透明化してしまうこともある。そ
のために、ＡｌにＣｒ， Ｔｉ等を添加して、耐食性を
向上させる方法（特開昭６２−１３７７４３号公報）が
提案されているが、それでも不充分であった。
【０００７】本発明は、この様な従来技術の欠点を改善
するためになされたものであり、Ａｌ等の金属層を耐食
性を有する金属層で保護することにより、光ディスクと
しての性能を左右する高反射率を低下させることなく、
耐久性を向上させた光ディスクを提供することを目的と
するものである。
するためになされたものであり、Ａｌ等の金属層を耐食
性を有する金属層で保護することにより、光ディスクと
しての性能を左右する高反射率を低下させることなく、
耐久性を向上させた光ディスクを提供することを目的と
するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、レーザ
ー光を反射させる反射層を有する光ディスクにおいて、
反射層が高反射率を有する金属層の少なくとも一方の側
に前記金属層より電気化学的に貴で、かつ非磁性である
耐食性金属層を設けてなることを特徴とする光ディスク
である。
ー光を反射させる反射層を有する光ディスクにおいて、
反射層が高反射率を有する金属層の少なくとも一方の側
に前記金属層より電気化学的に貴で、かつ非磁性である
耐食性金属層を設けてなることを特徴とする光ディスク
である。
【０００９】以下に、本発明について詳細に説明する。
【００１０】図１は、本発明の光ディスクの一例を示す
模式断面図である。同図において、本発明の光ディスク
は、ガラスまたはポリカーボネート（ＰＣ）等の有機樹
脂基板１の上に、高反射率を有する金属層（以下、高反
射率金属層と記す）２を形成し、その高反射率金属層２
の上に耐食性を有する耐食性金属層４を形成し、さらに
その上に有機樹脂層からなる保護層３をコートしてなる
ものである。
模式断面図である。同図において、本発明の光ディスク
は、ガラスまたはポリカーボネート（ＰＣ）等の有機樹
脂基板１の上に、高反射率を有する金属層（以下、高反
射率金属層と記す）２を形成し、その高反射率金属層２
の上に耐食性を有する耐食性金属層４を形成し、さらに
その上に有機樹脂層からなる保護層３をコートしてなる
ものである。
【００１１】高反射率金属層２の材料としては、Ａｌ，
Ａｇ，Ａｕ，ＰｔまたはＣｕの単体もしくはそれらの合
金等の近赤外で高反射率を有する金属が用いられる。金
属層の厚さとしては、４００Å以上、好ましくは４００
〜２０００Åが望ましく、４００Å未満では反射率が十
分に得られない。また、厚さはピンホール等、欠陥の少
なくなる２０００Å以下で十分である。
Ａｇ，Ａｕ，ＰｔまたはＣｕの単体もしくはそれらの合
金等の近赤外で高反射率を有する金属が用いられる。金
属層の厚さとしては、４００Å以上、好ましくは４００
〜２０００Åが望ましく、４００Å未満では反射率が十
分に得られない。また、厚さはピンホール等、欠陥の少
なくなる２０００Å以下で十分である。
【００１２】耐食性金属層４は、高反射率金属層より電
気化学的に貴で、かつ非磁性である材料が用いられ、例
えばＣｒ，Ｍｏ，Ｔｉ，ＮｂまたはＺｒの単体もしくは
それらの合金が用いられる。厚さは、連続膜となる１０
０Å以上であれば耐食性の効果があるが、１００〜５０
０Åが好ましい。
気化学的に貴で、かつ非磁性である材料が用いられ、例
えばＣｒ，Ｍｏ，Ｔｉ，ＮｂまたはＺｒの単体もしくは
それらの合金が用いられる。厚さは、連続膜となる１０
０Å以上であれば耐食性の効果があるが、１００〜５０
０Åが好ましい。
【００１３】本発明において、反射層は高反射率金属層
の片側もしくは両側に前記金属層より電気化学的に貴で
、かつ非磁性である耐食性金属層を設けた積層金属層か
らなるが、図１に示した光ディスクは、耐食性金属層を
高反射率金属層の片側に設けた場合であるが、図２に示
すように、レーザー光の入射側にも耐食性金属層４ａを
用いてもよい。但し、この場合、耐食性金属層４ａの厚
さとしては、高反射率をあまり低くさせない程度の薄さ
が望ましく、〜２００Å以下が好ましい。
の片側もしくは両側に前記金属層より電気化学的に貴で
、かつ非磁性である耐食性金属層を設けた積層金属層か
らなるが、図１に示した光ディスクは、耐食性金属層を
高反射率金属層の片側に設けた場合であるが、図２に示
すように、レーザー光の入射側にも耐食性金属層４ａを
用いてもよい。但し、この場合、耐食性金属層４ａの厚
さとしては、高反射率をあまり低くさせない程度の薄さ
が望ましく、〜２００Å以下が好ましい。
【００１４】
【作用】本発明の光ディスクは、レーザー光を反射させ
る反射層を有する光ディスクにおいて、高反射率金属層
とその金属層の片側もしくは両側に前記金属層より電気
化学的に貴で、かつ非磁性である耐食性金属層を設けた
積層金属層からなる反射層を用いることにより、高反射
率金属層を耐食性金属層で保護し、高反射率金属層の高
反射率を低下させることなく、かつ耐久性を向上させる
ことができる。
る反射層を有する光ディスクにおいて、高反射率金属層
とその金属層の片側もしくは両側に前記金属層より電気
化学的に貴で、かつ非磁性である耐食性金属層を設けた
積層金属層からなる反射層を用いることにより、高反射
率金属層を耐食性金属層で保護し、高反射率金属層の高
反射率を低下させることなく、かつ耐久性を向上させる
ことができる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例により本発明について詳しく説
明する。 実施例１ 直径８６ｍｍのＰＣ−ＲＯＭディスクに、高反射率金属
層としてＡｌをスパッタ法により１０００Åの厚さに形
成し、その後、真空を破らないで、連続でＣｒを２００
Åの厚さにスパッタ法にて形成した。その後、保護コー
ト層として、紫外線硬化樹脂層を１０μｍの厚さにコー
トし、本発明の光ディスクを得た。
明する。 実施例１ 直径８６ｍｍのＰＣ−ＲＯＭディスクに、高反射率金属
層としてＡｌをスパッタ法により１０００Åの厚さに形
成し、その後、真空を破らないで、連続でＣｒを２００
Åの厚さにスパッタ法にて形成した。その後、保護コー
ト層として、紫外線硬化樹脂層を１０μｍの厚さにコー
トし、本発明の光ディスクを得た。
【００１６】比較例として、Ｃｒを形成しない以外は上
記の方法と同様にして従来の光ディスクを作成した。
記の方法と同様にして従来の光ディスクを作成した。
【００１７】両者を８０℃／９０％の環境下に１０００
時間放置し耐環境試験を行なった。本発明の光ディスク
は、外観上、変化は認められず、ピンホールの数（１０
μｍ角を１個として）も耐環境試験前と後では５０と５
０の値が得られ変化していなかった。
時間放置し耐環境試験を行なった。本発明の光ディスク
は、外観上、変化は認められず、ピンホールの数（１０
μｍ角を１個として）も耐環境試験前と後では５０と５
０の値が得られ変化していなかった。
【００１８】これに対して、従来例のものは、外観上ピ
ンホールが発生しており、ピンホールの数（１０μｍ角
を１個として）も耐環境試験前と後では５０と２５０で
５倍になっていた。
ンホールが発生しており、ピンホールの数（１０μｍ角
を１個として）も耐環境試験前と後では５０と２５０で
５倍になっていた。
【００１９】実施例２
実施例１において、高反射率のＡｌ膜を形成する前にＺ
ｒの膜を１００Åの厚さに形成した後、実施例１と同様
の構成（Ａｌ＋Ｃｒ膜）の本発明に係る光ディスクを作
成した。８０℃／９０％の高温高湿下に、２０００時間
放置し耐環境試験を行なった。外観及びピンホールの数
（１０μｍ角を１個として）を調べたが、耐環境試験前
と後では２０と２０の値が得られ初期と同じであった。
ｒの膜を１００Åの厚さに形成した後、実施例１と同様
の構成（Ａｌ＋Ｃｒ膜）の本発明に係る光ディスクを作
成した。８０℃／９０％の高温高湿下に、２０００時間
放置し耐環境試験を行なった。外観及びピンホールの数
（１０μｍ角を１個として）を調べたが、耐環境試験前
と後では２０と２０の値が得られ初期と同じであった。
【００２０】実施例３
直径８６ｍｍのＰＣ基板に、下地層としてＳｉＮ、読み
出し層としてＧｄＦｅＣｏＣｒ、記録層としてＴｂＦｅ
ＣｏＣｒ、干渉層としてＳｉＮ、反射層として厚さ４５
０ÅのＡｌ＋Ｃｒの合金膜、耐食性金属層として厚さ２
００ÅのＣｒを順次積層し、保護コートとして紫外線硬
化樹脂をコートし、本発明に係る光磁気ディスクを作成
した。
出し層としてＧｄＦｅＣｏＣｒ、記録層としてＴｂＦｅ
ＣｏＣｒ、干渉層としてＳｉＮ、反射層として厚さ４５
０ÅのＡｌ＋Ｃｒの合金膜、耐食性金属層として厚さ２
００ÅのＣｒを順次積層し、保護コートとして紫外線硬
化樹脂をコートし、本発明に係る光磁気ディスクを作成
した。
【００２１】これを８０℃／９０％の環境下に２０００
時間放置したが、外観及びＢＥＲに変化は見られなかっ
た。
時間放置したが、外観及びＢＥＲに変化は見られなかっ
た。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ディスクとしての性能を左右する高反射率を低下させ
ることなく、耐久性を向上させた光ディスクを得ること
ができる。
光ディスクとしての性能を左右する高反射率を低下させ
ることなく、耐久性を向上させた光ディスクを得ること
ができる。
【図１】本発明の光ディスクの一例を示す模式断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の光ディスクの他の例を示す模式断面図
である。
である。
【図３】従来の光ディスクの一例を示す模式断面図であ
る。
る。
１ 基板
２ 高反射率金属層
３ 保護層
４，４ａ 耐食性金属層
５ 反射層
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザー光を反射させる反射層を有す
る光ディスクにおいて、反射層が高反射率を有する金属
層の少なくとも一方の側に前記金属層より電気化学的に
貴で、かつ非磁性である耐食性金属層を設けてなること
を特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 前記高反射率を有する金属層が、Ａｌ
，Ａｇ，Ａｕ，ＰｔまたはＣｕの単体もしくはそれらの
合金からなる請求項１記載の光ディスク。 - 【請求項３】 耐食性金属層が、Ｃｒ，Ｍｏ，Ｔｉ，
ＮｂまたはＺｒの単体もしくはそれらの合金からなる請
求項１記載の光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3089091A JPH04302832A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3089091A JPH04302832A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04302832A true JPH04302832A (ja) | 1992-10-26 |
Family
ID=13961214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3089091A Pending JPH04302832A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04302832A (ja) |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP3089091A patent/JPH04302832A/ja active Pending
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