JPH04297532A - ＮｉＴｉ合金の製造法 - Google Patents
ＮｉＴｉ合金の製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＮｉＴｉ合金の製造法
、特に偏析がなく健全な組織をもったＮｉＴｉ合金を歩
留りよく製造する方法に関する。
、特に偏析がなく健全な組織をもったＮｉＴｉ合金を歩
留りよく製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＮｉＴｉ合金はいわゆる形状記憶合金と
してあるいは超弾性合金として近年に至り多量に製造さ
れるようになってきた。ＮｉＴｉ合金はその優れた物性
が注目されているが、一般的普及には材料コストがネッ
クとなって未だ十分とは言えない。ところで、これまで
のＮｉＴｉ合金の溶製法としては、ＮｉおよびＴｉから
電極を構成し、これを真空中のような不活性雰囲気下で
アーク溶解する消耗電極式アーク法（以下、ＶＡＣ法と
称す）と、ＮｉおよびＴｉを同じく真空雰囲気内のよう
な不活性雰囲気内において高周波誘導加熱して溶解する
高周波溶解法 （以下、ＶＩＦ法と称す） の二法があ
る。ＴｉおよびＮｉのいずれも活性な金属であるため、
真空下などの不活性雰囲気下で加熱溶解し、そのまま不
活性雰囲気下でインゴットに造塊するのである。
してあるいは超弾性合金として近年に至り多量に製造さ
れるようになってきた。ＮｉＴｉ合金はその優れた物性
が注目されているが、一般的普及には材料コストがネッ
クとなって未だ十分とは言えない。ところで、これまで
のＮｉＴｉ合金の溶製法としては、ＮｉおよびＴｉから
電極を構成し、これを真空中のような不活性雰囲気下で
アーク溶解する消耗電極式アーク法（以下、ＶＡＣ法と
称す）と、ＮｉおよびＴｉを同じく真空雰囲気内のよう
な不活性雰囲気内において高周波誘導加熱して溶解する
高周波溶解法 （以下、ＶＩＦ法と称す） の二法があ
る。ＴｉおよびＮｉのいずれも活性な金属であるため、
真空下などの不活性雰囲気下で加熱溶解し、そのまま不
活性雰囲気下でインゴットに造塊するのである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｔｉと
Ｎｉとは比重差が大きいなど物性が大きく異なり、それ
らを合金化して溶製する際には偏析がしばしば見られ健
全な組織を得るにはそれなりの工夫を要した。特に、Ｎ
ｉ： ５０〜６０重量％、Ｔｉ： ５０〜４０重量％の
割合でＮｉおよびＴｉを含む溶解原料の場合には、いず
れか一方が過大、過少の場合と違って、均質組成を得る
のは困難であり、これまでも多くの試みがなされてきた
が未だ完全に満足すべき方法は開発されていない。例え
ば、ＶＡＣ法では真空アーク下での１次溶製にあっては
鋳塊に成分元素の偏析が生ずるため、溶製に際しての電
極組立時にＮｉ、Ｔｉその他の原料の配置を交互に積層
してその均質化を図ってきたが、そのような原料配置を
いかに工夫しても、偏析を無にすることは不可能である
。したがって、鋳塊の上下を逆にしてから、真空アーク
溶製を繰り返すことが行われているが、この二回目の溶
製でも十分な偏析防止は実現されず、最低３回の溶製が
必要となり、製造コストの上昇は避けられなかった。
Ｎｉとは比重差が大きいなど物性が大きく異なり、それ
らを合金化して溶製する際には偏析がしばしば見られ健
全な組織を得るにはそれなりの工夫を要した。特に、Ｎ
ｉ： ５０〜６０重量％、Ｔｉ： ５０〜４０重量％の
割合でＮｉおよびＴｉを含む溶解原料の場合には、いず
れか一方が過大、過少の場合と違って、均質組成を得る
のは困難であり、これまでも多くの試みがなされてきた
が未だ完全に満足すべき方法は開発されていない。例え
ば、ＶＡＣ法では真空アーク下での１次溶製にあっては
鋳塊に成分元素の偏析が生ずるため、溶製に際しての電
極組立時にＮｉ、Ｔｉその他の原料の配置を交互に積層
してその均質化を図ってきたが、そのような原料配置を
いかに工夫しても、偏析を無にすることは不可能である
。したがって、鋳塊の上下を逆にしてから、真空アーク
溶製を繰り返すことが行われているが、この二回目の溶
製でも十分な偏析防止は実現されず、最低３回の溶製が
必要となり、製造コストの上昇は避けられなかった。
【０００４】一方、ＶＩＦ法では高周波による電磁攪拌
を伴うため、１次鋳塊に成分元素の偏析は生じないが、
鋳塊押湯部は引巣、ボイド等を含むため、この部分は製
品として使用できず、材料の歩留り低下は免れないため
、保温材等を用いた引巣、ボイド防止策などの手段を講
じることもあるが、歩留り改善の点からは十分とはいえ
ない。さらに、ＮｉＴｉ合金も上述のように多量に製造
されるようになると、この歩留りの改善は重要となって
きており、製造コストを可及的に低くするには歩留りの
改善も求められてきている。しかし、これらの点の改善
は従来技術によっては十分ではなく、例えばＶＡＣ法は
比較的歩留りが高いと言われているが、三回も同じ操作
を行えばコスト上昇は避けられない。ここに、本発明の
目的は、偏析がなく健全な組織をもったＮｉＴｉ合金を
歩留りよく製造する安価で効率的方法を提供することで
ある。
を伴うため、１次鋳塊に成分元素の偏析は生じないが、
鋳塊押湯部は引巣、ボイド等を含むため、この部分は製
品として使用できず、材料の歩留り低下は免れないため
、保温材等を用いた引巣、ボイド防止策などの手段を講
じることもあるが、歩留り改善の点からは十分とはいえ
ない。さらに、ＮｉＴｉ合金も上述のように多量に製造
されるようになると、この歩留りの改善は重要となって
きており、製造コストを可及的に低くするには歩留りの
改善も求められてきている。しかし、これらの点の改善
は従来技術によっては十分ではなく、例えばＶＡＣ法は
比較的歩留りが高いと言われているが、三回も同じ操作
を行えばコスト上昇は避けられない。ここに、本発明の
目的は、偏析がなく健全な組織をもったＮｉＴｉ合金を
歩留りよく製造する安価で効率的方法を提供することで
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＶＡＣ法
では従来のように多数回繰り返すために歩留りの低下が
見られるが、一回だけでは歩留りが高いことに着目し、
一方ＶＩＦ法では１次鋳塊においても成分元素の偏析が
みられないことに着目し、ＶＡＣ法やＶＩＦ法は互いの
短所をそれぞれ長所として有することに着目し、それら
の組合わせについて種々検討を重ねたところ、ＶＡＣ法
→ＶＩＦ法の組み合わせでは十分でなく、反対のＶＩＦ
法→ＶＡＣ法の組合わせのみが優れた相乗効果を発揮す
ることを知り、本発明を完成した。なお、従来にあって
もインコネル ７１８などの超耐熱合金および超強力鋼
の溶製に上述のようなＶＩＦ法→ＶＡＣ法の組合わせが
提案されているが、その目的はガス成分の低減であって
いわゆる清浄金属を製造することである。プロセス全体
としての歩留りの改善、偏析の改善、そしてＮｉＴｉ合
金溶製時の特有の問題についての解決策について何一つ
示唆することがない。
では従来のように多数回繰り返すために歩留りの低下が
見られるが、一回だけでは歩留りが高いことに着目し、
一方ＶＩＦ法では１次鋳塊においても成分元素の偏析が
みられないことに着目し、ＶＡＣ法やＶＩＦ法は互いの
短所をそれぞれ長所として有することに着目し、それら
の組合わせについて種々検討を重ねたところ、ＶＡＣ法
→ＶＩＦ法の組み合わせでは十分でなく、反対のＶＩＦ
法→ＶＡＣ法の組合わせのみが優れた相乗効果を発揮す
ることを知り、本発明を完成した。なお、従来にあって
もインコネル ７１８などの超耐熱合金および超強力鋼
の溶製に上述のようなＶＩＦ法→ＶＡＣ法の組合わせが
提案されているが、その目的はガス成分の低減であって
いわゆる清浄金属を製造することである。プロセス全体
としての歩留りの改善、偏析の改善、そしてＮｉＴｉ合
金溶製時の特有の問題についての解決策について何一つ
示唆することがない。
【０００６】ここに、本発明の要旨とするところは、Ｎ
ｉ： ５０〜６０重量％、Ｔｉ： ５０〜４０重量％の
割合でＮｉおよびＴｉを含む溶解原料を不活性雰囲気下
で高周波誘導加熱して溶解し、同じく不活性雰囲気下で
鋳塊とし、次いで、このようにして得られたＮｉＴｉ鋳
塊を消耗性電極として使用して不活性雰囲気下でアーク
溶解し、滴下した溶融金属を水冷鋳型内で積層凝固させ
て金属組織的に健全度の高い鋳塊とし、そのまま熱間加
工を行いＮｉＴｉ合金材とすることを特徴とするＮｉＴ
ｉ合金の製造方法である。なお、上記にいう不活性雰囲
気は例えば真空雰囲気あるいは低真空アルゴン雰囲気で
あって、また「溶解原料を不活性雰囲気下で高周波誘導
加熱して溶解し、同じく不活性雰囲気下で鋳塊と」する
方法は、いわゆるＶＩＦ法に同じであって、本発明にあ
っても慣用のそれを使用すればよい。また、上記にいう
消耗性電極を「不活性雰囲気下でアーク溶解し、滴下し
た溶融金属を水冷鋳型内で積層凝固させ」る方法も、い
わゆるＶＡＣ法に同じであって、本発明にあっても慣用
のそれを使用すればよい。
ｉ： ５０〜６０重量％、Ｔｉ： ５０〜４０重量％の
割合でＮｉおよびＴｉを含む溶解原料を不活性雰囲気下
で高周波誘導加熱して溶解し、同じく不活性雰囲気下で
鋳塊とし、次いで、このようにして得られたＮｉＴｉ鋳
塊を消耗性電極として使用して不活性雰囲気下でアーク
溶解し、滴下した溶融金属を水冷鋳型内で積層凝固させ
て金属組織的に健全度の高い鋳塊とし、そのまま熱間加
工を行いＮｉＴｉ合金材とすることを特徴とするＮｉＴ
ｉ合金の製造方法である。なお、上記にいう不活性雰囲
気は例えば真空雰囲気あるいは低真空アルゴン雰囲気で
あって、また「溶解原料を不活性雰囲気下で高周波誘導
加熱して溶解し、同じく不活性雰囲気下で鋳塊と」する
方法は、いわゆるＶＩＦ法に同じであって、本発明にあ
っても慣用のそれを使用すればよい。また、上記にいう
消耗性電極を「不活性雰囲気下でアーク溶解し、滴下し
た溶融金属を水冷鋳型内で積層凝固させ」る方法も、い
わゆるＶＡＣ法に同じであって、本発明にあっても慣用
のそれを使用すればよい。
【０００７】しかし、本発明にあっては、好適態様とし
て大気圧より低い条件下でアルゴンガスなどの不活性ガ
スを含む真空高周波誘導溶解および真空アーク溶解を行
う。このように本発明によれば、ＶＩＦ法とＶＡＣ法と
をこの順序で組合わせて行うことにより安価で健全なＮ
ｉＴｉ合金鋳塊を得る工業規模の製造法が確立される。
て大気圧より低い条件下でアルゴンガスなどの不活性ガ
スを含む真空高周波誘導溶解および真空アーク溶解を行
う。このように本発明によれば、ＶＩＦ法とＶＡＣ法と
をこの順序で組合わせて行うことにより安価で健全なＮ
ｉＴｉ合金鋳塊を得る工業規模の製造法が確立される。
【０００８】
【作用】次に、本発明の作用について具体的にさらに詳
述する。本発明において対象とする合金組成は、Ｎｉ：
５０〜６０重量％、Ｔｉ： ５０〜４０重量％に制限
されるが、これはいわゆる形状記憶合金としての特性が
発揮される範囲として規定されるのであって、特に好ま
しくは、Ｎｉ： ５５％、Ｔｉ： ４５％である。かか
る組成の合金は特に均質な組成とすることが要求され、
いわゆる偏析度として各成分のバラツキ度を０．０１％
以内に抑制することが必要となる。
述する。本発明において対象とする合金組成は、Ｎｉ：
５０〜６０重量％、Ｔｉ： ５０〜４０重量％に制限
されるが、これはいわゆる形状記憶合金としての特性が
発揮される範囲として規定されるのであって、特に好ま
しくは、Ｎｉ： ５５％、Ｔｉ： ４５％である。かか
る組成の合金は特に均質な組成とすることが要求され、
いわゆる偏析度として各成分のバラツキ度を０．０１％
以内に抑制することが必要となる。
【０００９】溶解原料としては、電解ニッケル、純チタ
ン板が用いられるが、本発明の場合最初にＶＩＦ法によ
り溶解されるため従来のＶＡＣ法のようにその配置が問
題となることはない。このＶＩＦ法により得られた鋳塊
は押湯部を含む上部にボイド （引巣） が見られるた
め通常はこの部分を除いてから、複数の鋳塊を溶接で接
合して次に行うＶＡＣ法の消耗性電極として用いる。Ｖ
ＩＦ法による溶解に要する時間は、通常６０分程度であ
るため、後述するＶＡＣ法に要する時間と比較してかな
り短い。
ン板が用いられるが、本発明の場合最初にＶＩＦ法によ
り溶解されるため従来のＶＡＣ法のようにその配置が問
題となることはない。このＶＩＦ法により得られた鋳塊
は押湯部を含む上部にボイド （引巣） が見られるた
め通常はこの部分を除いてから、複数の鋳塊を溶接で接
合して次に行うＶＡＣ法の消耗性電極として用いる。Ｖ
ＩＦ法による溶解に要する時間は、通常６０分程度であ
るため、後述するＶＡＣ法に要する時間と比較してかな
り短い。
【００１０】このようにして得られたＮｉＴｉ鋳塊を消
耗性電極として、次いで、ＶＡＣ法により真空アーク溶
解し、滴下した溶融金属を水冷鋳型内で積層凝固させる
。 このようなＶＡＣ法自体特に制限されないが、消耗性電
極はＶＩＦ法で調製されているため、ＶＡＣ法は一回行
うだけでよく、従来のように少なくとも三回行う場合に
見られるコスト上昇は避けられる。具体的には１５％以
上の歩留り改善が見られる。このように本発明によれば
ＶＡＣ法は一回行えばよいから、ＶＩＦ法で多数の電極
を作成できる場合には、それらを順次接合してゆくこと
によってアーク溶解はほぼ連続的に行うことができるの
であって、それによる製造コストの低減は特に著しい。
耗性電極として、次いで、ＶＡＣ法により真空アーク溶
解し、滴下した溶融金属を水冷鋳型内で積層凝固させる
。 このようなＶＡＣ法自体特に制限されないが、消耗性電
極はＶＩＦ法で調製されているため、ＶＡＣ法は一回行
うだけでよく、従来のように少なくとも三回行う場合に
見られるコスト上昇は避けられる。具体的には１５％以
上の歩留り改善が見られる。このように本発明によれば
ＶＡＣ法は一回行えばよいから、ＶＩＦ法で多数の電極
を作成できる場合には、それらを順次接合してゆくこと
によってアーク溶解はほぼ連続的に行うことができるの
であって、それによる製造コストの低減は特に著しい。
【００１１】すでに述べたように上述のＶＩＦ法および
ＶＡＣ法の装置および操業条件は特に制限されず、慣用
のそれでよいが、操業条件の場合、一般的には、次のよ
うな操業条件が例示される。なお、本発明によれば、合
金成分の偏析および歩留りは大幅に改善されることから
、そのためコスト低下となるなど、この点からの利益も
大きい。
ＶＡＣ法の装置および操業条件は特に制限されず、慣用
のそれでよいが、操業条件の場合、一般的には、次のよ
うな操業条件が例示される。なお、本発明によれば、合
金成分の偏析および歩留りは大幅に改善されることから
、そのためコスト低下となるなど、この点からの利益も
大きい。
【００１２】
ＶＩＦ
法操業条件 ＶＡＣ法操業条件
雰囲気 低真空アルゴン
低真空アルゴン 炉床／モー
ルド ＣａＯ
銅 溶解電力／電流 ５００
ＫＷ ｍａｘ ６ ＫＡ ｍａ
ｘ 鋳込方式 直鋳込
直鋳込
モールド径 φ１９０ ｍｍ
φ２５５ ｍｍ 次に、実施例によって本発明をさらに具体的に説明する
。
法操業条件 ＶＡＣ法操業条件
雰囲気 低真空アルゴン
低真空アルゴン 炉床／モー
ルド ＣａＯ
銅 溶解電力／電流 ５００
ＫＷ ｍａｘ ６ ＫＡ ｍａ
ｘ 鋳込方式 直鋳込
直鋳込
モールド径 φ１９０ ｍｍ
φ２５５ ｍｍ 次に、実施例によって本発明をさらに具体的に説明する
。
【００１３】
【実施例】実施例１
電融ＣａＯ レンガから成る炉床を備えた容量２トンの
慣用のＶＩＦ炉に、それぞれ、工業的に入手可能な電解
ＮｉおよびＴｉ板の原料を装入し、低真空アルゴン雰囲
気の条件下で溶解し、重さ１５０ ｋｇのＶＡＣ電極用
丸型鋳塊４本を得た。この内１本により、鋳塊各部に成
分元素の偏析のないことを確認した。他の３本の鋳塊の
Ｘ線撮影を実施し、押湯部を含む上部不健全部は２０％
で８０％の歩留りであることを確認した。残りの３本の
鋳塊の中の２本を皮剥ぎ後、鋳塊下部同士をたがいに溶
接により継ぎ、ＶＡＣ溶解を行って、２次鋳塊を得た。 この鋳塊もＸ線撮影により健全度を調べたが、１００
％であり、中間皮剥ぎ歩留りを含めて９７％の総歩留り
であった。この後、本鋳塊の成分元素の偏析を調べたが
、ＶＩＦ鋳塊同様、偏析は認められなかった。これらの
結果を表１に示す。
慣用のＶＩＦ炉に、それぞれ、工業的に入手可能な電解
ＮｉおよびＴｉ板の原料を装入し、低真空アルゴン雰囲
気の条件下で溶解し、重さ１５０ ｋｇのＶＡＣ電極用
丸型鋳塊４本を得た。この内１本により、鋳塊各部に成
分元素の偏析のないことを確認した。他の３本の鋳塊の
Ｘ線撮影を実施し、押湯部を含む上部不健全部は２０％
で８０％の歩留りであることを確認した。残りの３本の
鋳塊の中の２本を皮剥ぎ後、鋳塊下部同士をたがいに溶
接により継ぎ、ＶＡＣ溶解を行って、２次鋳塊を得た。 この鋳塊もＸ線撮影により健全度を調べたが、１００
％であり、中間皮剥ぎ歩留りを含めて９７％の総歩留り
であった。この後、本鋳塊の成分元素の偏析を調べたが
、ＶＩＦ鋳塊同様、偏析は認められなかった。これらの
結果を表１に示す。
【００１４】実施例２
実施例１と同様ＶＩＦ法により、３本の２５０ ｋｇＶ
ＡＣ電極用丸型鋳塊を得た。これらのＸ線撮影による健
全度は８３％であった。１本の鋳塊により成分元素の偏
析を調査した結果、偏析は認められなかった。残り２本
を同様にＶＡＣ溶解し、鋳塊の健全度をＸ線撮影により
調べた。 その結果１００ ％の健全な鋳塊であった。中間の皮剥
ぎ歩留りを含めて９８％の総歩留りであった。次に、熱
間鍛造、圧延により、板および棒板として試験片に加工
した後、９００℃×１ｈｒの熱処理を施し機械的性質を
、ＶＡＣ法のみで溶製したもの、およびＶＩＦ法のみで
溶製したものの、同工程、同熱処理材と比較した。結果
を表２にまとめて示す。表２に見られるように、機械的
性質は同等であった。
ＡＣ電極用丸型鋳塊を得た。これらのＸ線撮影による健
全度は８３％であった。１本の鋳塊により成分元素の偏
析を調査した結果、偏析は認められなかった。残り２本
を同様にＶＡＣ溶解し、鋳塊の健全度をＸ線撮影により
調べた。 その結果１００ ％の健全な鋳塊であった。中間の皮剥
ぎ歩留りを含めて９８％の総歩留りであった。次に、熱
間鍛造、圧延により、板および棒板として試験片に加工
した後、９００℃×１ｈｒの熱処理を施し機械的性質を
、ＶＡＣ法のみで溶製したもの、およびＶＩＦ法のみで
溶製したものの、同工程、同熱処理材と比較した。結果
を表２にまとめて示す。表２に見られるように、機械的
性質は同等であった。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【表２】
【００１７】
【発明の効果】本発明法によりＮｉＴｉ合金を製造する
ことにより下記のように高歩留りで安価なＮｉＴｉ合金
鋳塊を得ることが可能となる。 （１） 従来少なくとも三回必要としたＶＡＣ溶解が、
先にＶＩＦ溶解を行うことにより一回で済むようになっ
た。 （２） 従来ＶＩＦ法では歩留りが約３０％であったが
、引き続いてＶＡＣ法溶解を行うとなるとＶＡＣ法では
ほぼ１００ ％の歩留りが実現できることから、全体と
しての歩留り低下はほとんどない。なお、従来のＶＡＣ
法では少なくとも三回の溶製を行い必要上全体の歩留り
は９５％程度であった。 （３） ＶＩＦ法の溶解時間は通常６０分間かかり、一
回の操業に９０〜１２０ 分間を要するＶＡＣ法に比較
して短い。
ことにより下記のように高歩留りで安価なＮｉＴｉ合金
鋳塊を得ることが可能となる。 （１） 従来少なくとも三回必要としたＶＡＣ溶解が、
先にＶＩＦ溶解を行うことにより一回で済むようになっ
た。 （２） 従来ＶＩＦ法では歩留りが約３０％であったが
、引き続いてＶＡＣ法溶解を行うとなるとＶＡＣ法では
ほぼ１００ ％の歩留りが実現できることから、全体と
しての歩留り低下はほとんどない。なお、従来のＶＡＣ
法では少なくとも三回の溶製を行い必要上全体の歩留り
は９５％程度であった。 （３） ＶＩＦ法の溶解時間は通常６０分間かかり、一
回の操業に９０〜１２０ 分間を要するＶＡＣ法に比較
して短い。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｎｉ： ５０〜６０重量％、Ｔｉ：
５０〜４０重量％の割合でＮｉおよびＴｉを含む溶解原
料を不活性雰囲気下で高周波誘導加熱して溶解し、同じ
く不活性雰囲気下で鋳塊とし、次いで、このようにして
得られたＮｉＴｉ鋳塊を消耗性電極として使用して不活
性雰囲気下でアーク溶解し、滴下した溶融金属を水冷鋳
型内で積層凝固させて金属組織的に健全度の高い鋳塊と
し、そのまま熱間加工を行いＮｉＴｉ合金材とすること
を特徴とするＮｉＴｉ合金の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3063421A JPH04297532A (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | ＮｉＴｉ合金の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3063421A JPH04297532A (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | ＮｉＴｉ合金の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04297532A true JPH04297532A (ja) | 1992-10-21 |
Family
ID=13228809
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3063421A Withdrawn JPH04297532A (ja) | 1991-03-27 | 1991-03-27 | ＮｉＴｉ合金の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04297532A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013155436A (ja) * | 2009-11-02 | 2013-08-15 | Saes Smart Materials | Ｎｉ−Ｔｉ半製品及びその製造方法 |
| CN107574322A (zh) * | 2017-08-29 | 2018-01-12 | 大连理工大学 | 一种电子束熔炼技术高纯化制备镍基高温合金的方法 |
-
1991
- 1991-03-27 JP JP3063421A patent/JPH04297532A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013155436A (ja) * | 2009-11-02 | 2013-08-15 | Saes Smart Materials | Ｎｉ−Ｔｉ半製品及びその製造方法 |
| JP2014029022A (ja) * | 2009-11-02 | 2014-02-13 | Saes Smart Materials | Ｎｉ−Ｔｉ半製品及びその製造方法 |
| CN107574322A (zh) * | 2017-08-29 | 2018-01-12 | 大连理工大学 | 一种电子束熔炼技术高纯化制备镍基高温合金的方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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