JPH04288069A - 新規なベンゾフラン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体及びその有害生物防除剤としての用途 - Google Patents

新規なベンゾフラン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体及びその有害生物防除剤としての用途

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JPH04288069A
JPH04288069A JP3280336A JP28033691A JPH04288069A JP H04288069 A JPH04288069 A JP H04288069A JP 3280336 A JP3280336 A JP 3280336A JP 28033691 A JP28033691 A JP 28033691A JP H04288069 A JPH04288069 A JP H04288069A
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Marc Benoit
マルク・ブノワ
Jean-Louis Brayer
ジャンルイ・ブレイエ
Jean-Pierre Demoute
ジャンピエール・ドムート
Gilles Mourioux
ジル・ムリウー
Laurent Taliani
ロラン・タリアニ
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Roussel Uclaf SA
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、本発明は、新規なベ
ンゾフラン誘導体、その製造法、得られる新規な中間体
及びその有害生物防除剤（ペスチサイド）としての用途
に関する。
【０００２】
【発明の概要】本発明の主題は、次式（Ｉ）
【化６】 （ここで、Ｒは水素原子、８個までの炭素原子を含有す
る置換されていてもよいアルキル、アルケニル若しくは
アルキニル基、８個までの炭素原子を含有する置換され
ていてもよいシクロアルキル若しくはシクロアルケニル
基、１８個までの炭素原子を含有する置換されていても
よいアリール基、２４個までの炭素原子を含有する置換
されていてもよいアリールアルキル基、置換されていて
もよいベンゾイル基又は置換されていてもよい複素環式
基を表わし、ａｌｃ１　及びａｌｃ２　は同一であって
も異なっていてもよく、８個までの炭素原子を含有する
置換されていてもよいアルキル基を表わし、Ｘは酸素又
は硫黄原子を表わし、Ｒ’　はフェニル核の任意の位置
にあり、水素原子又はハロゲン原子を表わし、二重結合
の配置はＥ又はＺ又はＥとＺの混合物である）の化合物
にある。
【０００３】式（Ｉ）において、Ｒがアルキル基を表わ
すときは、それは、好ましくはメチル、エチル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブ
チル、ペンチル又はヘキシル基である。Ｒがアルケニル
基を表わすときは、それは、好ましくはビニル又は１，
１−ジメチルアリル基である。Ｒがアルキニル基を表わ
すときは、それは、好ましくはエチニル又はプロピニル
基である。Ｒがシクロアルキル基を表わすときは、それ
は、好ましくはシクロヘキシル基を表わす。Ｒがシクロ
アルケニル基を表わすときは、それは、好ましくはシク
ロヘキセニル基を表わす。Ｒが置換されたアルキル、ア
ルケニル、アルキニル、シクロアルキル又はシクロアル
ケニル基を表わすときは、それは、好のましくは、１個
以上のハロゲン原子で置換されたアルキル、アルケニル
又はアルキニル基、例えば−ＣＨ２　Ｆ、ＣＨＦ２　、
ＣＦ３　、ＣＣｌ３　、ＣＢｒ３　基である。Ｒがアリ
ール基を表わすときは、それは、好ましくはフェニル、
ビフェニル又はナフチル基である。Ｒがアリールアルキ
ル基を表わすときは、それは、好ましくは、メチレン基
上にヒドロキシ又はヒドロキシイミノ基が置換していて
もよいベンジル基である。Ｒが複素環式基を表わすとき
は、それは、好ましくは、１個以上の窒素、酸素又は硫
黄原子を含有する複素環式基、例えば下記の基、チエニ
ル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピ
リジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、オ
キサジニル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、チア
ゾリル、オキサジアゾリル及びチアジアゾリル基より成
る群から選択される基である。Ｒが置換されたアリール
、アリールアルキル、ベンゾイル又は複素環式基を表わ
すときは、置換基は、好ましくは、ハロゲン原子、８個
までの炭素原子を含有するアルキル基、ＣＦ３　、ＣＨ
２　Ｆ、ＣＨＦ２　、ＣＮ、ＮＯ２　基、アルコキシカ
ルボニル、ＣＯＮＨ２　、ＯＣＦ３　基、置換されてい
てもよいフェニル若しくはフェノキシ基及び１〜４個の
炭素原子を含有するアルキルアミノ若しくはジアルキル
アミノ基より成る群から選択される。また、それは、ア
ルキレンジオキシ基を形成するような２個の隣接炭素上
にある２個の置換基よりなり、又は１個以上の置換基、
ＯＲ”　及びＳＲ”　（ここでＲ”　は６個までの炭素
原子を含有するアルキル若しくはアルケニル基又は前記
のようなチエニル、フリル、チアゾリル、オキサゾリル
、ピリジニル、ピラジニル、ピリミジニル、イソオキサ
ゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル及びチアジ
アゾリル基を表わす）よりなっていてもよい。アルキル
アミノ又はジアルキルアミノ基とは、例えば、メチルア
ミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ
、メチルエチルアミノ基などを意味する。
【０００４】さらに、本発明の特定の主題は、Ｘが酸素
原子を表わす式（Ｉ）の化合物；Ｒ’　が水素原子を表
わす式（Ｉ）の化合物；ａｌｃ１　及びａｌｃ２　がそ
れぞれメチル基を表わす式（Ｉ）の化合物；Ｒが８個ま
での炭素原子を含有するアルキル基、特にｎ−ブチル基
を表わす式（Ｉ）の化合物；Ｒがハロゲン原子、特に塩
素及び臭素原子、６個までの炭素原子、好ましくは４個
までの炭素原子を含有するアルキルオキシ基、特にメト
キシ基、フェノキシ基、チアゾールル基、及び１個以上
のハロゲン原子で置換されたアルキル基、特にトリフル
オルメチル基より成る群から選択される１個以上の基で
置換されていてもよいフェニル基を表わすか、又はＲが
２個の隣接炭素原子上にアルキレンジオキシ基が置換し
ているフェニル基、特に３，４−メチレンジオキシ基を
表わす式（Ｉ）の化合物；並びにＲが８個までの炭素原
子、好ましくは４個までの炭素原子を含有する直鎖若し
くは分岐鎖状アルキル基、特にイソプロピル基で又は置
換されていてよいフェニル基、特にトリフルオルメトキ
シフェニル基で置換されていてよいチアゾリル基を表わ
す式（Ｉ）の化合物にある。本発明のさらに特定の主題
は、エノールエーテルの二重結合がＥ配置である式（Ｉ
）の化合物にある。
【０００５】本発明のさらに特別の主題は、後記の実験
の部にその製造を記載した式（Ｉ）の化合物、特に例１
、３、１１、１４、１５、１６、１７、１８、１９及び
２８の化合物にある。
【０００６】また、本発明の主題は、次式（ＩＩ）
【化
７】 ここで、Ｒ、Ｒ’　及びａｌｃ２　は前記の意味を有す
る）の化合物にホルミル化剤を作用させて次式（ＩＩＩ
）
【化８】 の化合物を得、この化合物にアルコキシル化剤を作用さ
せて次式（ＩＡ　）
【化９】 （ここで、ａｌｃ１　は前記の意味を有する）の化合物
を得、所望ならばこの化合物に酸素原子を硫黄原子で置
換できる試薬を作用させて次式（ＩＢ　）
【化１０】 の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製
造法にある。
【０００７】ホルミル化反応は、適当な溶媒中で水素化
ナトリウムのような強塩基を使用し、次いで蟻酸アルキ
ル、好ましくは蟻酸メチルを作用させるか、又はジメチ
ルホルムアミドアセタールを作用させ、次いで酸媒体中
で加水分解するか、又はリチウムジイソプロピルアミド
のような強塩基を作用させ、次いでハロゲン化トリアル
キルシリルを作用させ、次いでこのように形成されたシ
リル化エノールエーテルに四塩化チタンの存在下にオル
ト蟻酸トリアルキルを作用させることにより実施するこ
とができる。アルキル化反応は、標準条件下にアルコー
ルを作用させるか、又は式（ＩＩＩ）の化合物に水素化
ナトリウムを作用させることにより中間体として形成さ
れるエノラートに沃化アルキルを作用させ、又はアセト
ン中で炭酸カリウムの存在下に沃化アルキルを作用させ
ることにより行なわれる。酸素−硫黄交換反応は、チオ
ール酸アルキルを使用して行なわれる。
【０００８】式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）の化合物は新
規な物質であり、それ自体本発明の主題である。式（Ｉ
Ｉ）及び式（ＩＩＩ）の好ましい化合物は、実施例に記
載のもの、特に例１、２、１１、１２、１４、１５、１
６、１７、１８、１９、２８及び２８に記載の式（ＩＩ
）及び式（ＩＩＩ）の化合物である。
【０００９】式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）の化合物は下
記の方法により製造される。ａ）
【化１１】 ｂ）
【化１２】 （ここで、Ａは次式
【化１３】 の基を表わす）ｃ）Ｒが置換されていてもよいチアゾリ
ル基を表わすときは、下記の方法による。
【化１４】
【００１０】式（ＩＶ）、（Ｖ）、（ＶＩＩ）、（ＸＩ
Ｉ）及び（ＸＩＶ）の化合物は、文献に記載の方法によ
り又は後記の製造例１〜４及び１４〜１９に記載の方法
により得られる（Ｃ．Ｅ．カストロ氏他のＪ．　Ｏｒｇ
．　Ｃｈｅｍ．　（１９９６）　３１　ｐ．４０７１−
４０７８　；Ｍ．Ｊ．コックス氏他のＴｅｔｒａｈｅｄ
ｏｒｏｎ　（１９７５）　３１　ｐ．６３３；Ｐｅｓｔ
ｉｃｉｄｅ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　（１９８０）　１１　ｐ
．５２６−５３２　；Ｍ．ロシュ氏他のＣ．　Ｒ．　Ａ
ｃａｄ．　Ｓｃｉｅｎ．　Ｐａｒｉｓ　　Ｃ２７９　（
１９７４）　ｐ．６６３−６６６　；Ｈｅｌｖｅｔｉｋ
ａ　Ａｃｔａ　（１９７４）　５７（５）　ｐ．１３８
１；ライマー氏他のＣｈｅｍ．　Ｒｅｖ．　（１９６０
）　６０　ｐ．１６９−１８４；コリア氏外のＳｙｎｔ
ｈｅｓｉｓ　（１９７６）　ｐ．１９４−１９５参照せ
よ）
【００１１】本発明の化合物は、有害生物の防除に使用
するのを可能ならしめる有用な有害生物防除特性を持っ
ている。例えば、土壌寄生虫、植物寄生虫、家屋の寄生
虫及び温血動物の寄生虫の駆除である。
【００１２】したがって、本発明の主題は、活性成分と
して、前記のような式（Ｉ）の化合物、特に後記の実施
例にその製造を記載した化合物、さらには特に例１、２
、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９及
び２８に記載の化合物のうちの少なくとも１種を含有す
る有害生物防除用組成物にある。
【００１３】式（Ｉ）の化合物は、病原性の菌類に対す
る保護のために使用することができる有用な殺菌性を持
っている。しかして、植物、家屋及び動物の保護に使用
することができる。これらの性質は、人及び動物の衛生
及び医薬の分野で使用することができる。特に、本発明
の化合物は、多くの植物病原菌、特にエリシフェ・グラ
ミニス（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ　ｇｒａｍｉｎｉｓ　）、ス
ファエロセカ・マキュロリス（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃ
ａ　ｍａｃｕｌａｒｉｓ）、スファエロセカ・フリギネ
ア（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）
、ポドスファエラ・ロイコトリシャ（Ｐｏｄｏｓｐｈａ
ｅｒａ　ｌｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ　）、アンシニュラ・
ネカトル（Ｕｎｃｉｎｕｌａ　ｎｅｃａｔｏｒ）、ヘル
ミンソスポリウム（Ｈｅｌｍｉｎｔｈｏｓｐｏｒｉｕｍ
ｕ　）ｓｐｐ　、リンコスポリウム（Ｒｈｙｎｃｈｏｓ
ｐｏｒｉｕｍｕ　）ｓｐｐ　、セプトリア（Ｓｅｐｔｏ
ｒｉａ）ｓｐｐ　、プソイドセルコスポレラ・ヘルポト
リコイデス（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ
　ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉｄｅｓ　）、ジャーマノマ
イセス・グラミニス（Ｇａｅｕｍａｎｎｏｍｙｃｅｓ　
ｇｒａｍｉｎｉｓ　）、ウスチラゴ（Ｕｓｔｉｌａｇｏ
）ｓｐｐ　、セルコスポラ・アラキジコラ（Ｃｅｒｃｏ
ｓｐｏｒａ　ａｒａｃｈｉｄｉｃｏｌａ　）、セルコス
ポリジウム・ペルソナチュウム（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒｉ
ｄｉｕｍ　ｐｅｒｓｏｎａｔｕｍ）、セルコスポラ・ス
ペシーズ（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　Ｓｐｅｃｉｅｓ）、
ボトリチス・シネレア（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒ
ｅａ）、アルテルナリア（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ）ｓｐ
ｐ　、ベンツリア・イナキュアリス（Ｖｅｎｔｕｒｉａ
　ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ　）、プラスモパラ・ビチコー
ラ（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ　ｖｉｔｉｃｏｌａ　）、ブ
レミア・ラクチュカエ（Ｂｒｅｍｉａ　ｌａｃｔｕｃａ
ｅ　）、ペロノスポラ（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　）ｓ
ｐｐ　、プソイドペロノスポラ・ヒュミリ（Ｐｓｅｕｄ
ｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｈｕｍｉｌｉ）、プソイド
ペロノスポラ・キュベンシス（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎ
ｏｓｐｏｒａ　ｃｕｂｅｎｓｉｓ）、フィトフトラ・ｓ
ｐｐ．インフェスタンス（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　
ｓｐｐ．　ｉｎｆｅｓｔａｎｓ　）、フィトフトラ（Ｐ
ｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ）ｓｐｐ．、プシニア・レコン
ジタ（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）、或い
は人の健康に関係する菌類又は酵母、例えばカンジダ・
アルビカンス（Ｃａｎｄｉｄａ　ａｌｂｉｃａｎｓ）又
はトリコフィトン（Ｔｒｙｃｈｏｐｈｙｔｏｎ）ｓｐｐ
　の駆除を可能にする。したがって、本発明の主題は、
前記したような式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活
性成分として含有する殺菌剤組成物にある。
【００１４】本発明の化合物は、有用な殺虫性、殺ダニ
性及び殺線虫性を持っている。それらは、特に農業の分
野において例えば蚤、鱗翅目及び鞘翅目の幼虫を駆除す
るのに使用することができる。また、式（Ｉ）の化合物
は、家屋内の害虫を駆除するのに、特に蠅、蚊及びごき
ぶりを駆除するのに使用することができる。さらに、式
（Ｉ）の化合物は、植物の寄生害虫及び線虫を駆除する
のに使用することができる。また、式（Ｉ）の化合物は
、動物の寄生害虫を駆除するのに、例えばマダニ類（ｔ
ｉｃｋｓ　）、特にブーフィラス（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ
　）種、ヒアロムニア（Ｈｙａｌｏｍｎｉａ　）種、ア
ンブリオムニア（Ａｍｂｌｙｏｍｎｉａ）種又はリピセ
ファラス（Ｒｈｉｐｉｃｅｐｈａｌｕｓ　）種のマダニ
類を駆除し、又はあらゆる種類のダニ類（ｍｉｔｅｓ）
、特にサルコプチック（ｓａｒｃｏｐｔｉｃ　）マイト
、プソロプチック（ｐｓｏｒｏｐｔｉｃ　）マイト及び
コリオプチック（ｃｈｏｒｉｏｐｔｉｃ）マイトを駆除
するのに使用することができる。特に、本発明の主題は
、前記のような式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活
性成分として含有する殺虫剤組成物にある。
【００１５】これらの組成物は、農薬又は獣医薬工業の
通常の方法によって製造される。これらの組成物は、粉
末、顆粒、懸濁液、エマルション、溶液、エーロゾル溶
液、毒餌又はこの種の化合物を使用するために通常使用
されるその他の製剤の形で提供できる。これらの組成物
は、活性成分以外に、一般に、混合物の構成成分の均一
な分散を可能にさせる非イオン性界面活性ビヒクル及び
（又は）剤を含有する。ビヒクルは、水、アルコール、
炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱油、動物油又は植物
油のような液体；タルク、クレー、珪酸塩、珪藻土のよ
うな粉末であってよい。本発明による殺虫剤組成物には
、殺ダニ剤及び殺線虫剤と同じように、これらに１種又
はそれ以上のその他の有害生物防除剤を添加することが
できる。殺ダニ剤及び殺線虫剤は、特に粉剤、顆粒剤、
懸濁剤、乳剤、液剤などの形で提供できる。殺ダニ剤の
用途には、好ましくは、１〜８０％の活性物質を含有す
る葉噴霧用の水和剤、又は１〜５００ｇ／ｌの活性成分
を含有する葉噴霧用の液剤が使用される。また、葉散布
用の粉剤も使用することができる。殺線虫剤用としては
、３００〜５００ｇ／ｌの活性成分を含有する土壌処理
用液剤が使用される。
【００１６】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するものであっ
て、これを何ら制限するものではない。
【００１７】例１：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］
−２−（４−メトキシフェニル）−７−ベンゾフラン酢
酸メチル及び対応するＺ異性体 工程Ａ：α−［（Ｅ＋Ｚ）−ヒドロキシメチレン］−２
−（４−メトキシフェニル）−７−ベンゾフラン酢酸メ
チル ３ｇの後記（製造例１）のように製造した化合物、１４
ｃｃの蟻酸メチル及び３５ｃｃのジメチルホルムアミド
を含有する溶液を、１ｇの水素化ナトリウム（５０％油
中）を２０ｃｃのジメチルホルムアミドに加えてなる懸
濁液に周囲温度で滴下する。混合物を周囲温度で１６時
間撹拌する。これを１Ｎ硝酸溶液に注ぐが、媒質のｐＨ
は酸性でなければならない。酢酸エチルで抽出する。乾
燥し、濃縮した後、所望化合物を得た。これは、そのま
ま次ぎの工程に使用する。 工程Ｂ：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（４
−メトキシフェニル）−７−ベンゾフラン酢酸メチル及
び対応するＺ異性体 ０．５ｇの５０％油中水素化ナトリウムを２０ｃｃのジ
メチルホルムアミドに溶解する。１２．３ｇのα−［（
Ｅ＋Ｚ）−ヒドロキシメチレン］−２−フェニル−７−
ベンゾフラン酢酸メチルを４０ｃｃのジメチルホルムア
ミドに溶解してなる溶液を滴下する。反応混合物を２０
分間撹拌する。６．４ｃｃの沃化メチルを一度に添加す
る。反応混合物を周囲温度で一夜撹拌する。得られた溶
液を水中に注ぎ、エーテルで抽出する。抽出物を乾燥し
、乾固する。６．２ｇの生成物を集め、これをシリカで
クロマトグラフィーし、ヘキサンと酢酸エチルとの混合
物（８−２）で溶離する。このようにして、１７６℃の
融点を持つ２ｇの異性体Ｅ化合物及び１２４℃の融点を
持つ０．３ｇの異性体Ｚ化合物を得た。
【００１８】製造例１：２−（４−メトキシフェニル）
−７−ベンゾフラン酢酸メチル 工程Ａ：（２−ブロムフェノキシ）−４’−メトキシア
セトフェノン ３４ｃｃの２−ブロムフェノール、１５０ｃｃのアセト
ン及び７５ｇの４’−メトキシ−２−ブロムアセトフェ
ノンを１５０ｃｃのアセトン中で混合して調製した混合
物に４４．３ｇの炭酸カリウムをを添加する。この混合
物を１６時間還流する。得られた溶液を水中に注ぐ。水
性相を酢酸エチルで抽出し、乾燥し、ろ過し、乾固させ
る。１０１ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ＝１０４℃。 工程Ｂ：７−ブロム−２−（４−メトキシフェニル）ベ
ンゾフラン １０１ｇの工程Ａで製造した化合物と６５０ｃｃのポリ
りん酸を含有する混合物を１６０℃に１時間もたらす。 次いで、周囲温度に戻し、氷上に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する。抽出物を洗浄し、デカンテーションし、乾燥し
、乾固させる。８２．８ｇの生成物を得た。これをシリ
カでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン−イソプロ
ピルエーテル９８−２）して精製する（この生成物はこ
の溶離剤に溶解しないので酢酸エチルに溶解した）。 このようにして、３６．４ｇの所望化合物を得た。 工程Ｃ：２−（４−メトキシフェニル）−７−ベンゾフ
ランカルボアルデヒド ３６．４ｇの上記工程で製造した化合物と１００ｃｃの
テトラヒドロフランとの混合物に−７０℃で８３ｃｃの
ブチルリチウムを添加する。混合物を−６０℃で１時間
撹拌し、２４．２ｃｃのＮ−ホルミルモルホリンを５０
ｃｃのテトラヒドロフランに溶解したものを添加する。 反応混合物を−６０℃で１６時間撹拌する。塩化アンモ
ニウムを添加する。得られた二相をデカンテーションし
、酢酸エチルで抽出し、次いで乾燥し、濃縮する。３５
．１２ｇの生成物を得た。これをシリカでクロマトグラ
フィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（９−１）で溶
離して精製する。このようにして、１３．８ｇの所望化
合物を得た。 工程Ｄ：２−（４−メトキシフェニル）−７−ベンゾフ
ラン酢酸メチル １５ｇの工程Ｃで製造した化合物、６ｃｃのメチルメチ
ルスルフィニルメチルスルフィド及び２５ｃｃのテトラ
ヒドロフランを含有する混合物に１０．６ｃｃの「トリ
トン（ＴＲＩＴＯＮ）Ｂ」（登録商標）の３５％メタノ
ール溶液を導入する。この溶液を２時間３０分還流する
。これを水中に注ぎ、イソプロピルエーテルで抽出し、
抽出物を乾燥し、濃縮する。２１．９５ｇの生成物を得
た。これをメタノール中で加水分解に付す。この生成物
を、９０．５ｃｃの塩化アセチルを３６６ｃｃのメタノ
ールに溶解して０℃に冷却してなる２００ｃｃの溶液に
溶解する。周囲温度で４８時間撹拌した後、得られた溶
液を水中に注ぎ、炭酸水素ナトリウムを添加する。エー
テルで抽出し、抽出物を乾燥し、乾固させる。１６．５
ｇの生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー
し、ヘキサン−酢酸エチル混合物（９−１）で溶離する
。このようにして、１１ｇの所望化合物を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐｐｍ）２−
ＯＣＨ３　　　　３．７３；　３．８７ｐｐｍ−Ｃ６Ｈ
３−ＣＨ２−ＣＯ　　　４．００ｐｐｍＨ６　　　　　
６．８９ｐｐｍ 芳香族　　　　６．９８（２Ｈ）；７．７８（２Ｈ）；
７．１６〜７．４８ｐｐｍ（３Ｈ）
【００１９】例２：
α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（３−メトキ
シフェニル）−７−ベンゾフラン酢酸メチル及び対応す
るＺ異性体 以下に記載の方法で製造される２−（３−メトキシフェ
ニル）−７−ベンゾフラン酢酸メチルより出発して、例
１におけるようにして実施することにより、所期の化合
物、Ｅ異性体、Ｍｐ＝１１０℃、及び異性体Ｚ化合物、
Ｍｐ＝１３０℃、を得た。
【００２０】製造例２：２−（３−メトキシフェニル）
−７−ベンゾフラン酢酸メチル 工程Ａ：１１ｇの２−ヒドロキシ−３−ヨードベンズア
ルデヒド、８．６ｇの（３−メトキシフェニル）アセチ
レン及び１５０ｃｃのピリジンよりなる混合物を４５分
間還流する。これを周囲温度に戻し、酢酸エチルを添加
し、酸性溶液で洗浄し、次いで乾燥し、濃縮する。１６
ｇの生成物を集め、これをシリカでクロマトグラフィー
（溶離剤：ヘキサン−イソプロピルエーテル７−３）し
て９ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ＝５５〜６０℃。 工程Ｂ：２−（３−メトキシフェニル）−７−ベンゾフ
ラン酢酸メチル ７．４ｇの工程Ａで製造した化合物、４．４ｇのメチル
メチルスルフィニルメチルスルフィド、７５ｃｃのテト
ラヒドロフラン及び７ｃｃのトリトンＢを含有する混合
物を１時間沸騰させる。反応混合物を水中に注ぎ、ジク
ロルメタンで抽出し、抽出物を乾燥し、濃縮する。１０
ｇの生成物を得た。これを２Ｎ塩酸メタノール溶液に溶
解する。得られた溶液を２４時間撹拌し、炭酸水素ナト
リウム溶液で処理し、１時間撹拌し続ける。分離した後
、エーテルで抽出し、抽出物を洗浄し、濃縮する。９ｇ
の生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー（
溶離剤：ヘキサン−酢酸エチル９−１）し、４．３ｇの
所望化合物を得た。そのまま使用する。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐｐｍ）２−
ＯＣＨ３　　　　３．７２（ｓ）；３．８７（ｓ）−Ｃ
６Ｈ５−ＣＨ２−ＣＯ　　　　３．９９（ｓ）Ｈ’６　
　　　６．８８（ｄ，ｍ） Ｈ３　　　　７．０１（ｓ） 芳香族　　　　７．１７〜７．５（７Ｈ）
【００２１】
例３：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−フェニ
ル−７−ベンゾフラン酢酸メチル及び対応するＺ異性体 以下に記載の方法で製造される２−フェニル−７−ベン
ゾフラン酢酸メチルより出発して、例１におけるように
して実施することにより、所期の化合物、Ｅ異性体、Ｍ
ｐ＝１２６．４℃、及び異性体Ｚ化合物、Ｍｐ＝１１０
．５℃、を得た。
【００２２】製造例３：２−フェニル−７−ベンゾフラ
ン酢酸メチル 工程Ａ：２−フェニル−７−ベンゾフランアセトニトリ
ル １１ｇのシアン化カリウムを１１０ｃｃのメタノールに
添加し、次いで２３．５ｇの７−（ブロムメチル）−２
−フェニルベンゾフラン（ＨｅｌｖｅｔｉｃａＣｈｉｍ
ｉｃａＡｃｔａ　　５７（５）、　Ｐ１３８１　（１９
７４）　に記載のように製造）を２５０ｃｃのメタノー
ルに溶解したものを添加する。混合物を５時間還流させ
、次いで分離し、ろ過し、濃縮する。得られた結晶をフ
ルゲン−１，１，３から再結晶する。このようにして、
５．７８ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ＝６５℃。 工程Ｂ：２−フェニル−７−ベンゾフラン酢酸２４．６
８ｇの工程Ａで得た化合物、２００ｃｃのメタノール、
１００ｃｃの水及び１６０ｃｃの１０Ｎ苛性ソダ溶液を
含有する懸濁液を１６時間還流する。メタノールを除去
する。得られた生成物を水に溶解し、塩化メチレンで洗
浄する。１５０ｃｃの１２Ｎ塩酸溶液で酸性化する。得
られた生成物を分離し、水でペースト状にし、乾燥する
。２２ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ＝１３９．１℃。 工程Ｃ：２−フェニル−７−ベンゾフラン酢酸メチル２
０．４５ｇの上記工程で得た化合物、２００ｃｃのメタ
ノール及び６ｇのｐ−トルエンスルホン酸を含有する溶
液を１時間還流する。溶液を乾固させ、次いで水中に注
ぐ。塩化メチレンで抽出し、抽出物を乾燥し、ろ過し、
濃縮する。２１．３３ｇの所望化合物を得た。Ｒｆ＝０
．３３（溶離剤：ヘキサン−塩化メチレン６０−４０）
。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐｐｍ）ＯＣ
Ｈ３　　　　３．７２（ｓ） −Ｃ６Ｈ３−ＣＨ２−ＣＯ　　　　４．００Ｈ’６　　
　　　７．０２（ｓ） Ｈ３　　　　７．４８ 芳香族　　　　７．２　〜７．８５（ｓ）
【００２３】
例４：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（４−
メトキシベンゾイル）−７−ベンゾフラン酢酸メチル及
び対応するＺ異性体 以下に記載の方法で製造される２−（４−メトキシベン
ゾイル）−７−ベンゾフラン酢酸メチルより出発して、
前記の例におけるようにして実施することにより、所期
の化合物を得た。Ｒｆ＝０．０７（溶離剤：ヘキサン−
酢酸エチル７５−２５）。
【００２４】製造例４：２−（４−メトキシベンゾイル
）−７−ベンゾフラン酢酸メチル 工程Ａ：（４−メトキシフェニル）（７−メチル−２−
ベンゾフラニル）ケトン１３．４５ｇの２−ヒドロキシ
−３−メチルベンズアルデヒドのメタノール溶液に９９
ｃｃの１Ｎ苛性ソーダ溶液を０℃で導入する。この混合
物を周囲温度で２時間３０分撹拌する。これを乾固させ
、メタノールで溶解し、乾燥し、乾固させる。生成物を
塩化メチレン−イソプロピルエーテル混合物と酢酸エチ
ル中でペースト状にする。ろ過及び乾燥を行った後、１
５．４ｇの中間体フェナートを得た。これを予め約９５
−１００℃に加熱した６０ｃｃのジオキサン中に注ぐ。 次いで、２０．５３ｇの４’−メトキシ−２−ブロムア
セトフェノンのジオキサン溶液を添加する。反応媒質を
９５℃に４時間保持し、次いで燐酸モノナトリウム緩衝
溶液中に注ぐ。酢酸エチルで抽出した後、抽出物を乾燥
し、乾固させる。得られた生成物をシリカでクロマトグ
ラフィーし、ヘキサン−塩化メチレン混合物（５０−５
０）で溶離することにより精製する。１５．４ｇの所望
化合物を得た。Ｒｆ＝０．１。 工程Ｂ：［７−（ブロムメチル）ベンゾフラニル］（４
−メトキシフェニル）ケトン １５．４ｇの上記工程で製造した化合物と１５０ｃｃの
四塩化炭素を含有する溶液に１３．４ｇのＮ−ブロムス
クシンイミド及び少量のアゾビスジイソブチロニトリル
を添加した。この混合物を露光しながら１８時間還流す
る。これをろ過し、ろ液を乾固させる。得られた生成物
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−塩化メチ
レン混合物（５０−５０）で溶離することにより精製す
る。所望の化合物を得た。Ｒｆ＝０．０８。 工程Ｃ：２−（４−メトキシベンゾイル）−７−ベンゾ
フラン酢酸メチル １０ｇの上記工程で製造した化合物を１５０ｃｃのメタ
ノールに溶解してなる溶液に３．８ｇのシアン化カリウ
ムを添加する。得られた混合物を１２時間還流させる。 塩化メチレンで抽出し、抽出物を水洗し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、乾固させる。８．４８ｇの生成物を得た
。これを１７０ｃｃのメタノール中に注ぐ。５０ｃｃの
水と４５ｃｃの１０Ｎ苛性ソーダ溶液を添加する。この
混合物を４時間還流させ、メタノールを蒸発させ、生じ
た混合物を水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。水性
層を濃塩酸で酸性化し、酢酸エチルで抽出する。抽出物
を乾燥し、乾固させる。７．３７ｇの生成物を得た。 これを７０ｃｃのメタノール中に注ぐ。７００ｍｇのｐ
−トルエンスルホン酸を添加し、全体を１時間１５分還
流する。塩化メチレンで抽出し、抽出物を水洗し、乾固
させる。残留物を８０ｃｃのアセトンで溶解し、８００
ｍｇのｐ−トルエンスルホン酸を添加し、次いで１５分
間撹拌し、水中に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出
物を乾燥し、蒸発乾固する。得られた生成物をシリカで
クロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（
８−２）で溶離することにより精製する。６．６５ｇの
所望化合物を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐｐｍ）２−
ＯＣＨ３　　　　３．７４（ｓ）；３．９２（ｓ）−Ｃ
６Ｈ３−ＣＨ２−ＣＯ　　　　４．０３Ｈ’６　　　　
７．５６（ｓ） 芳香族　　　　７．０２〜８．１５（７Ｈ）
【００２５
】例５〜１３ 既に記載した詳細な操作方法を使用して下記の表１に記
載の化合物を製造した。表１において、ＮＭＲのδＨは
参照物質のテトラメチルシランに対するｐｐｍで表わす
。溶液の全てはＣＤＣｌ３　で調製した。
【００２６】
【表１】
【００２７】例１４：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−［４−ブロム−３−（トリフルオルメチル）フ
ェニル］ベンゾフラン酢酸メチレン及び相当するＺ異性
体 ６００ｍｇの水素化ナトリウムを１２ｃｃのジメチルホ
ルムアミドに加えてなる懸濁液に、下記の製造例に記載
のように製造した２．５９ｇの７−［２−［４−ブロム
−３−トリフルオルメチル）フェニル］ベンゾフラニル
］酢酸メチルを周囲温度で滴下する。８．５ｃｃの蟻酸
メチルを２５ｃｃのジメチルホルムアミドに溶解してな
る溶液を添加し、全体を１時間撹拌する。３．９ｃｃの
沃化メチルを滴下し、次いで３０分間撹拌し、次いで反
応媒体を氷冷燐酸ナトリウム溶液中に注ぐ。イソプロピ
ルエーテルで抽出し、抽出物を乾燥し、溶媒を減圧下に
除去し、残留物をシリカでクロマトグラフィー（溶離剤
：ヘキサン−酢酸エチル８５−１５）し、１１４℃の融
点を持つ０．３２ｇのＺ異性体と１．７６ｇのＥ異性体
を得た。後者をペンタンでペースト状にし、１３４℃の
融点を持つ１．６３ｇのＥ異性体を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）Ｅ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　　３．７５（ｓ）；３．８９（ｓ
）δＨ　　　　７．７５（ｓ） Ｚ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　　３．７８（ｓ）；４．００（ｓ
）δＨ　　　　６．９７（ｓ）
【００２８】製造例１４：７−［２−［４−ブロム−３
−トリフルオルメチル）フェニル］ベンゾフラニル］酢
酸メチル 工程Ａ：４−ブロム−３−トリフルオルメチルヨードベ
ンゼン ６０ｇの４−ブロム−３−（トリフルオルメチル）アニ
リンを５００ｃｃの水に加えてなる懸濁液に１２０ｃｃ
の濃塩酸を添加する。この混合物を８０℃に加熱し、次
いで０℃±５℃に冷却し、２４．１５ｇの亜硝酸ナトリ
ウムを１５０ｃｃの水に溶解してなる溶液を３０分間で
添加する。全体を１時間撹拌し、この溶液に１３０ｃｃ
の水に溶解した１２７．４ｇの沃化ナトリウムを添加す
る。反応混合物を周囲温度で１６時間撹拌し、次いで塩
化メチレンで抽出する。有機相を３Ｎチオ硫酸ナトリウ
ム溶液で、次いで水で洗浄し、溶媒を減圧下に除去する
。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン−酢
酸エチル６−４）することにより精製した後、８３．９
５ｇの所期化合物を得た。 工程Ｂ：［４−ブロム−３−（トリフルオルメチル）フ
ェニルエチニル］トリメチルシラン ３０ｇの工程Ａで得た化合物を９０ｃｃのジメチルホル
ムアミドに溶解してなる溶液に１６．７ｃｃのトリエチ
ルアミン、１１．８３ｃｃのトリメチルシリルアセチレ
ン、３２５ｍｇの沃化銅及び６００ｍｇの二塩化ビス（
トリフェニルホスフィン）パラジウムを添加する。１時
間撹拌した後、反応媒質を氷冷水中に注ぎ、水性相をイ
ソプロピルエーテルで抽出し、乾燥し、溶媒を除去する
。シリカでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン）し
た後、２４．０４ｇの所期化合物を得た。 工程Ｃ：４−ブロム−３−（トリフルオルメチル）フェ
ニルアセチレン ２４ｇの工程Ｂで得た化合物を２４０ｃｃのメタノール
に溶解してなる溶液に１ｇの炭酸カリウムを添加する。 ４５分間撹拌した後、メタノールを一部蒸発させ、塩化
メチレンで希釈し、全体を１０％重炭酸ナトリウム溶液
中に注ぐ。塩化メチレンで抽出し、抽出物を乾燥し、溶
媒を減圧下に除去する。１７．７３ｇの所期化合物を得
た。Ｍｐ＜５０℃。 工程Ｄ：７−［２−［４−ブロム−３−（トリフルオル
メチル）フェニル］ベンゾフラニル］カルボキサアルデ
ヒド ２．３ｇの酸化銅（Ｉ）を７０ｃｃのピリジンに加えて
なる懸濁液に７ｇの工程Ｃで得た化合物及び６．６２ｇ
の３−ヨード−２−ヒドロキシベンズアルデヒドを添加
する。この混合物を１時間３０分加熱撹拌し、濃塩酸溶
液中に注ぎ、ろ過し、塩化メチレンで抽出し、抽出物を
乾燥し、溶媒を減圧下に除去する。残留物をシリカでク
ロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン−塩化メチレン５
−５）し、６ｇの生成物を得た。これをペンタン中でペ
ースト状にし、４．８５ｇの所期化合物を集めた。 工程Ｅ：７−［２−［４−ブロム−３−トリフルオルメ
チル）フェニル］ベンゾフラニル］酢酸メチル４．８４
ｇの工程Ｄで得た化合物、１．６５ｃｃのメチルメチル
スルフィニルメチルスルフィド及び３．５ｃｃのトリト
ンＢの３５％メタノール溶液を含有する溶液を５時間３
０分加熱還流する。この溶液を塩化ナトリウム飽和溶液
中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、抽出物を乾燥し、溶媒
を除去する。７．２２ｇの中間体７−［２−［４−ブロ
ム−３−トリフルオルメチル）フェニル］ベンゾフラニ
ル］−１−［（メチルスルフィニル）メチルチオ］エチ
レンを得た。これを６０ｃｃのメタノールに溶解し、０
℃〜＋５℃に冷却し、３．５Ｎ塩酸メタノール溶液（８
２ｃｃのメタノール中の２１ｃｃの塩化アセチルから調
製）を添加する。周囲温度で４時間撹拌し、反応媒質を
１０％重炭酸ナトリウム水溶液中に注ぎ、イソプロピル
エーテルで抽出し、抽出物を乾燥し、濃縮乾固し、残留
物をシリカでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン−
塩化メチレン５−５）し、ペンタンでペースト状にする
か又は別のクロマトグラフィーした後、２．６５ｇの所
期化合物を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）ＯＣＨ３　　　　３．７５（ｓ） Ｃ６Ｈ３−ＣＨ２−ＣＯ　　　　４．００（ｓ）
【００
２９】例１５：α−［（Ｅ）−（メトキシメチレン）−
２−［４−クロル−３−（メトキシ）フェニル］ベンゾ
フラン酢酸メチレン及び相当するＺ異性体下記の製造例
に記載のように製造した３．８ｇの７−［２−［４−ク
ロル−（３−メトキシ）フェニル］ベンゾフラニル酢酸
メチル、１．１ｇの水素化ナトリウム、１４．２ｃｃの
蟻酸メチル及び１２．７ｃｃの沃化メチルから出発して
、例１４におけるように操作する。５．８ｇの粗生成物
を得た。これをシリカでクロマトグラフィーする（溶離
剤：ヘキサン−塩化メチレン−アセトン９０−５−５）
。１３１．６℃の融点を持つ１．８ｇのＥ異性体と１２
８．１ｇの融点を持つ０．７ｇのＺ異性体を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）Ｅ異性体 ３−ＯＣＨ３　　　　３．７４（ｓ）；　３．８８（ｓ
）　；３．９８（ｓ）δＨ　　　　７．７３（ｓ） Ｚ異性体 ３−ＯＣＨ３　　　　３．７５（ｓ）；　３．９８（ｓ
）　；３．９９（ｓ）δＨ　　　　６．９４（ｓ）
【００３０】製造例１５：７−［２−［４−クロル−（
３−メトキシ）フェニル］ベンゾフラニル酢酸メチル工
程Ａ：［４−クロル−３−メトキシフェニルエチニル］
トリメチルシラン ５ｃｃの４−クロル−３−メトキシブロムベンゼン、５
．２ｃｃのトリメチルシリルアセチレン及び２６０ｍｇ
の二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムか
ら出発して、製造例１４の工程Ｂにおけるように操作を
行う。６．９ｇの所期化合物を得た。 工程Ｂ：４−クロル−３−メトキシフェニルアセチレン
８ｇの上記工程で得た化合物及び０．４６ｇの炭酸カリ
ウムより出発して、例１４の工程Ｃにおけるように操作
を行う。５．２ｇの所期化合物を回収した。 工程Ｃ：７−［２−［４−クロル−（３−メトキシ）フ
ェニル］ベンゾフラニルカルボキサアルデヒド７５ｃｃ
のピリジン中で２．５ｇの酸化銅の存在下に５．２ｇの
上記工程Ｂで得た化合物、７．３ｇの３−ヨード−２−
ヒドロキシベンズアルデヒドより出発して、製造例１４
の工程Ｄにおけるように操作を行なう。９．８ｇの所期
化合物を得た。 工程Ｄ：７−［２−［４−クロル−（３−メトキシ）フ
ェニル］ベンゾフラニル酢酸メチル ７．５ｇの上記工程Ｃで得た化合物、４ｃｃのメチルメ
チルスルフィニルメチルスルフィド及び４．７ｃｃのト
リトンＢの３５％メタノール溶液より出発して、製造例
１４の工程Ｅにおけるように操作を行なう。８ｇの中間
体を得た。これを塩酸メタノール溶液で処理する。シリ
カでクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン−酢酸エチ
ル９−１）した後、４．７ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ
＝９７．７℃。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）２−ＯＣＨ３　　　　４．００（ｓ，５Ｈ）；　
３．７３（ｓ，３Ｈ　）
【００３１】例１６：α−［（
Ｅ）−メトキシメチレン］−７−［２−［４−（２−イ
ソプロピルチアゾリル）ベンゾフラニル］酢酸メチル １７０ｍｇの水素化ナトリウムを２ｃｃのジメチルホル
ムアミドに加えてなる懸濁液に、下記の製造例に記載の
ように製造した５４０ｍｇの７−［２−［４−（２−イ
ソプロピル）チアゾリル］ベンゾフラニル］酢酸メチル
を４ｃｃのジメチルホルムアミドに溶解したものと１．
７ｃｃの蟻酸メチルを添加する。この混合物を周囲温度
で３時間放置し、０．２ｃｃの沃化メチルを添加し、１
時間拡販し、ついでイソプロピルエーテルで抽出し、抽
出物を水洗し、乾燥し、濃縮し、残留物をシリカでクロ
マトグラフィーし（溶離剤：ヘキサン−イソプロピルエ
ーテル７−３、ついで８−２）２４０ｍｇの所期化合物
を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　ｐｐｍ）２−ＯＣＨ
３−Ｏ　　　　３．７２（ｓ）；　３．８７（ｓ）δＨ
　　　　　７．７１（ｓ）
【００３２】製造例１６：７−［２−［４−（２−イソ
プロピル）チアゾリル］ベンゾフラニル］酢酸メチル工
程Ａ：２−ヒドロキシ−３−カルボニルフェニル酢酸メ
チル ２４ｇの２−ヒドロキシフェニル酢酸を５０ｃｃの水中
で５０ｇの苛性ソーダの存在下に１２０℃に加熱する。 １００ｃｃのクロロホルムを添加し、次いで冷却し、５
００ｃｃのクロロホルム及び５００ｃの水で抽出する。 デカンテーションした後、クロロホルム溶液を除去し、
水性相を濃塩酸で酸性化し、クロロホルムで抽出し、抽
出物を減圧下に濃縮し、６ｇの中間体アルデヒドを得た
。これに３０ｃｃの塩酸メタノール溶液を添加し、次い
で減圧下に濃縮する。残留物をシリカでクロマトグラフ
ィーし（溶離剤：ヘキサン−酢酸エチル８５−１５）、
２．９ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＞５０℃。 工程Ｂ：７−（２−アセチルベンゾフラニル）酢酸メチ
ル ５０５ｇの工程Ａで得た化合物を４０ｃｃのジオキサン
中で３．８ｃｃのクロルアセトンとともに５．９ｇの炭
酸カリウムの存在下に１５分間加熱還流する。この混合
物をろ過し、減圧下に濃縮し、残留物をシリカでクロマ
トグラフィー（溶離剤：ヘキサン−酢酸エチル８−２）
した後、４ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝８０℃。 工程Ｃ：７−（２−ブロムアセチル）ベンゾフラニル酢
酸メチル ２．９７ｃｃの１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］
ウンデカ−７−エンの１モル塩化メチレン溶液と臭化ト
リメチルシリルの１モル塩化メチレン溶液を５３０ｍｇ
の工程Ｂで得た化合物に不活性雰囲気下に添加する。全
体４を６時間加熱還流し、上記二つの溶液のそれぞれを
０．５ｃｃづつ添加し、反応媒体を−６０℃に冷却し、
２．２６ｃｃの臭素の１モル塩化メチレン溶液を添加す
る。−６０℃で１５分間撹拌し、次いで減圧下に濃縮し
、残留物をシリカでクロマトグラフィーし（溶離剤：酢
酸エチル−ヘキサン３ー７）、５３０ｍｇの所期化合物
を得た。Ｍｐ＝９５℃。 工程Ｄ：７−［２−［４−（２−イソプロピル）チアゾ
リル］ベンゾフラニル］酢酸メチル ８５０ｍｇの工程Ｃで得た化合物と３１０ｍｇのイソプ
ロピルチオアミドを２５ｃｃのメタノール中で４５分間
加熱還流する。この混合物を減圧下に濃縮し、０ｃｃの
酢酸エチルと１０ｃｃの重炭酸ナトリウム飽和水溶液で
溶解する。乾燥し、再度濃縮した後、残留物をシリカで
クロマトグラフィーし（溶離剤：ヘキサン−酢酸エチル
９−１）、５９０ｍｇの所期化合物を集めた。Ｍｐ＝６
０℃。
【００３３】例１７：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（３，４−メチレンジオキシ）フェニル−７−
ベンゾフラン酢酸メチル及び相当するＺ異性体下記の製
造例に記載のように製造した３．３４ｇの７−［２−［
３，４−メチレンジオキシフェニル）ベンゾフラニル酢
酸メチル、１０５ｇの水素化ナトリウム、１５ｃｃの蟻
酸メチル及び６．９ｃｃのヨードメタンより出発して、
例１におけるように操作を行なう。６．９２ｇの粗生成
物を得た。これをシリカでクロマトグラフィーする（溶
離剤：ヘキサン−塩化メチレン−アセトン９０−５−５
）。１５４℃の融点を持つ１．６６ｇのＥ異性体と１８
９．７℃の融点を持つ０．３２０ｇのＺ異性体を得た。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）Ｅ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　３．７３（ｓ）；　３．８７（ｓ
）δＨ　　　　７．７２（ｓ） Ｚ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　３．７６（ｓ）；　３．９８（ｓ
）δＨ　　　　６．９５（ｓ）
【００３４】製造例１７：７−［２−［３，４−メチレ
ンジオキシフェニル）ベンゾフラニル酢酸メチル工程Ａ
：３，４−メチレンジオキシ−［１，１−ジブロムビニ
ル］ベンゼン ８．９８ｇのカリウムｔ−ブチラートを９０ｃｃのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液に４１．２ｇの臭化
ジブロムメチルトリフェニルホスホニウム、次いで３０
ｃｃのジメチルホルムアミドを添加する。この懸濁液を
２０℃で１時間撹拌し、０℃に冷却し、次いで１２ｇの
ピペロナールを２０ｃｃのテトラヒドロフランに溶解し
たものをゆっくりと添加する。反応媒体を周囲温度に戻
し、３時間撹拌し続ける。これを硫酸水素ナトリウム水
溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、抽出物を乾燥し、
減圧下に濃縮する。１５．９７ｇの所期化合物を得た。 工程Ｂ：３，４−メチレンジオキシフェニルアセチレン
１５．９６ｇの工程Ａで得た化合物を１５０ｃｃのテト
ラヒドロフランに溶解してなる溶液に−６５℃で７３ｃ
ｃのｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．６Ｍ）をゆ
っくりと添加する。この混合物を−６５℃で２時間撹拌
し、次いで燐酸水素ナトリウム水溶液中に注ぐ。有機相
をデカンテーションにより分離し、乾燥し、減圧下に濃
縮する。７．６ｇの所期化合物を得た。 工程Ｃ：７−［２−［３，４−メチレンジオキシフェニ
ル）ベンゾフラニルカルボキサアルデヒド５ｇの上記工
程Ｂで得た化合物、２．６６ｇの酸化銅を６０ｃｃのピ
リジンに加えたもの及び８．０２ｇの２−ヒドロキシ−
３−ヨードベンズアルデヒドより出発して、製造例１４
の工程Ｄにおけるように操作を行う。 ３．５５ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝１５９．７℃。 工程Ｄ：７−［２−［３，４−メチレンジオキシフェニ
ル）ベンゾフラニル酢酸メチル ４．５ｇの上記工程Ｃで得た化合物、３．１ｇのトリト
ンＢ及び２．７２ｇのメチルメチルスルフィニルメチル
スルフィドより出発して、製造例１４の工程Ｅにおける
ように操作を行う。７．５ｇの中間体１−メチルスルフ
ィニル−１−メチルチオ−２−（３，４−メチレンジオ
キシフェニル）ベンゾフラニルエチレンを得た。これを
塩酸メタノール溶液で処理する。３．４６ｇの所期化合
物を得た。Ｍｐ＝６６．４℃。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）ＯＣＨ３−Ｏ　　　　３．７３（ｓ） Ｃ６Ｈ５−ＣＨ２−ＣＯ　　　　３．９８（ｓ）
【００
３５】例１８：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２
−ブチル−７−ベンゾフラン酢酸メチル及び相当するＺ
異性体 ３．２ｇの下記の製造例に記載のように製造した７−［
２−ブチル］ベンゾフラニル酢酸メチル、１．２５ｇの
水素化ナトリウム、１７．６ｇの蟻酸メチル及び８．２
ｃｃのヨードメタンより出発して、例１４におけるよう
に操作を行う。得られた７．５６ｇの粗生成物をシリカ
でクロマトグラフィーする（溶離剤：ヘキサン−塩化メ
チレン−アセトン９０−５−５）。１．８３ｇのＥ異性
体及び０．３５０ｇのＺ異性体を得た。Ｍｐ＝５４．３
℃。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）Ｅ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　３．７１（ｓ）；　３．８５（ｓ
）δＨ　　　　７．６７（ｓ） Ｅ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　３．７４（ｓ）；　３．９５（ｓ
）δＨ　　　　６．９１（ｓ）
【００３６】製造例１８：７−（２−ブチル）ベンゾフ
ラニル酢酸メチル 工程Ａ：７−（２−ブチル）ベンゾフラニルカルボキサ
アルデヒド ３．９ｃｃの１−ヘキシン、２．６６ｇの酸化銅（Ｉ）
を６０ｃｃのピリジンに加えたもの及び８．０２ｇの２
−ヒドロキシ−３−ヨードベンズアルデヒドより出発し
て、製造例１４も工程Ｄにおけるように操作を行う。 ５．０８ｇの所期化合物を得た。 工程Ｂ：７−（２−ブチル）ベンゾフラニル酢酸メチル
４．７２ｇの上記工程Ａで得た化合物、４．１ｇのトリ
トンＢ及び３．６ｃｃのメチルメチルスルフィニルメチ
ルスルフィドより出発して、製造例１４の工程Ｅにおけ
るように操作を行う。７．０ｇの中間体１−メチルスル
フィニル−１−メチルチオ−２−ブチルベンゾフラニル
エチレンを得た。これを塩酸メタノール溶液で処理する
。得られた５．２９ｇの粗生成物をシリカでクロマトグ
ラフィーする（溶離剤：ヘキサン−塩化メチレン８−２
）・３．２２ｇの所期化合物を回収した。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）ＯＣＨ３−Ｏ　　　　３．７１（ｓ） Ｃ６Ｈ５−ＣＨ２−ＣＯ　　　　３．９２（ｓ）
【００
３７】例１９：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２
−［２−［４−（トリフルオルメトキシ）フェニル］−
４−チアゾリル］−７−ベンゾフラン酢酸メチル及び相
当するＺ異性体 ０．６ｇの７−［２−［４−（トリフルオルメトキシフ
ェニル）チアゾリル］ベンゾフラニル］酢酸メチル、０
．１６ｇの水素化ナトリウム、３ｃｃの蟻酸メチル及び
１ｃｃの沃化メチルより出発して、例１４におけるよう
に操作を行う。得られた０．７ｇの粗生成物をシリカで
クロマトグラフィーする（溶離剤：ヘプタン−酢酸エチ
ル８−２）。０．３４ｇのＥ異性体と０．１２ｇのＺ異
性体を得た。Ｅ異性体をヘキサン中で砕いた後、０．２
７ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝１３２℃。 ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３　　２５０ＭＨｚ　　ｐ
ｐｍ）Ｅ異性体 ２−ＯＣＨ３　　　　３．７５（ｓ）；　３．８９（ｓ
）δＨ　　　　７．７４（ｓ）
【００３８】製造例１９：７−［２−［４−（トリフル
オルメトキシフェニル）チアゾリル］ベンゾフラニル］
酢酸メチル ７−（２−ブロムアセチル）ベンゾフラニル酢酸メチル
とトリフルオルメトキシチオアミドより出発して、製造
例１６の工程Ｄにおけるように操作を行う。所期の化合
物を得た。
【００３９】例２０〜４４ 適当な化合物より出発して、前記の例に示すように実施
することにより、下記の化合物を製造した。
【００４０】例２０：（ＲＳ）２−［ヒドロキシ−（３
−メトキシフェニルメチル）］−α−（メトキシメチレ
ン）−７−ベンゾフラン酢酸メチル
【００４１】例２１：（ＲＳ）２−［ヒドロキシ−（４
−メトキシフェニルメチル）］−α−（メトキシメチレ
ン）−７−ベンゾフラン酢酸メチル
【００４２】例２２：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−［［（Ｅ）−ヒドロキシイミノ］フェニルメチ
ル］−７−ベンゾフラン酢酸メチル
【００４３】例２３：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−［［（Ｚ）−ヒドロキシイミノ］フェニルメチ
ル］−７−ベンゾフラン酢酸メチル
【００４４】例２４：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（３−フェノキシフェニル）−７−ベンゾフラ
ン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００４５】例２５：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（４−フェノキシフェニル）−７−ベンゾフラ
ン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００４６】例２６：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−［４−（２−フェニル）チアゾリル］−７−ベ
ンゾフラン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００４７
】例２７：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−［
２−クロル−４，５−メチレンジオキシ］フェニル］−
７−ベンゾフラン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００４８】例２８：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−［４−（２−トリフルオルメチル）チアゾリル
］−７−ベンゾフラン酢酸メチル
【００４９】例２９：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（４−ビフェニリル）−７−ベンゾフラン酢酸
メチル
【００５０】例３０：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（３−ビフェニリル）−７−ベンゾフラン酢酸
メチル
【００５１】例３１：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（１−ナフチル）−７−ベンゾフラン酢酸メチ
ル
【００５２】例３２：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（２−ナフチル）−７−ベンゾフラン酢酸メチ
ル
【００５３】例３３：α−［（Ｅ）−メチルチオメチル
］−２−（４−メトキシフェニリル）−７−ベンゾフラ
ン酢酸メチル
【００５４】例３４：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（４−ニトロフェニル）−７−ベンゾフラン酢
酸メチル及び相当するＺ異性体
【００５５】例３５：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（２−メチルチオ−４−チアゾリル）−７−ベ
ンゾフラン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００５６
】例３６：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（
２−ジエチルアミノ−４−チアゾリル）−７−ベンゾフ
ラン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００５７】例３
７：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−トリフル
オルメチル−７−ベンゾフラン酢酸メチル及び相当する
Ｚ異性体
【００５８】例３８：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−ヘキサフルオルプロピル−７−ベンゾフラン酢
酸メチル及び相当するＺ異性体
【００５９】例３９：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−シクロヘキシル−７−ベンゾフラン酢酸メチル
及び相当するＺ異性体
【００６０】例４０：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−イソプロピル−７−ベンゾフラン酢酸メチル及
び相当するＺ異性体
【００６１】例４１：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−ｔ−ブチル−７−ベンゾフラン酢酸メチル及び
相当するＺ異性体
【００６２】例４２：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−ｓｅｃ−ブチル−７−ベンゾフラン酢酸メチル
及び相当するＺ異性体
【００６３】例４３：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン
］−２−（３，３−ジメチル−１−ブチニル）−７−ベ
ンゾフラン酢酸メチル及び相当するＺ異性体
【００６４
】例４４：α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（
２−クロルエテニル）−７−ベンゾフラン酢酸メチル及
び相当するＺ異性体
【００６５】例１４〜４４の化合物の物性を下記の表２
及び表３に要約する。
【００６６】
【表２】
【００６７】
【表３】
【００６８】例４５：可溶性濃厚液の製造例１の化合物
（Ｅ）を活性成分として含有する可溶性濃厚液を製造し
た。
【００６９】例４６：乳化性濃厚液の製造例１１の化合
物（Ｅ）を活性成分として含有する乳化性濃厚液を製造
した。
【００７０】生物学的活性 Ｉ．殺菌活性 プラスモパラ・ビチコラ（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ　ｖｉ
ｔｉｃｏｌａ　）に対する試験 挿し木から成長させた若いぶどうの木（グレナシュ変種
Ｎ、分枝系７０）をグリーンハウス内（日中温度：３０
℃、夜間温度：２５℃）で土／コンポスト／砂混合物（
１／３−１／３−１／３　）上で栽培する。試験の２日
前に植物を栽培室（同一温度条件、日中の湿度６０％、
夜間８０％）に移す。被検化合物を使用前に「マトリッ
クスＡ」に１００ｐｐｍの濃度で溶解する。処理は、葉
に溶液を一杯になるまっで噴霧することによって行う。 試験直後に採取したプラスモパラ・ビチコラの遊走子の
懸濁液（１ｍｌ当たり５０，０００個の遊走子）を使用
して感染させる。数滴の懸濁液（２０マイクロリットル
）を葉の背軸表面上に付着させる。次いで植物を水蒸気
飽和雰囲気中で２４時間保持し、次いで雰囲気を栽培室
の湿度（日中６０％、夜間８０％）に戻す。感染させて
１０日後に、葉の背軸表面上の胞子のう柄の集合の発育
を測定することによって読み取りを行う。被検化合物の
効能は、未処理対照例と比較して計算した。同種の試験
をシャルドンネぶどうについても行った。上記のマトリ
ックスＡの組成の例は次のようである。 「ソルベッソ（Ｓｏｌｖｅｓｓｏ）１５０　」　　　７
０．５ｇ［ナプソル（ＮＡＰＳＯＬ）ＰＭ１　」　　　
８５０．０ｇ［サーファロックス（ＳＵＲＦＡＲＯＸ）
ＨＲＨ４０Ｃ」　　５２．０ｇ「ＥＣＤ　１６０４」　
　　　２８．０ｇ合計　　　　１０００．０ｇ 得られた結果（１００ｐｐｍの濃度の活性物質でプラス
モパラ・ビチコラに対する効能％として表わす）を下記
の表４に示す。
【００７１】
【表４】
【００７２】ＩＩ．　殺虫活性 ａ）接触及び摂取によるスポドプテラ・リトラリス（Ｓ
ｐｏｄｏｐｔｅｒａ　ｌｉｔｔｏｒａｌｉｓ　）の幼虫
に対する効果の研究Ｌ３段階のスポドプテラ・リトラリ
スの幼虫を使用した。操作は５０％の相対湿度条件下に
２２℃で行う。湿った円形のろ紙片を入れたペトリ皿を
使用し、各皿には２枚の豆の木の葉を入れ、被検化合物
を含有する含水アセトン溶液（５０−５０）で処理する
。７日後に死亡した幼虫を数える。ＬＣ５０濃度を求め
る。結果はｐｐｍで表わされる。 ｂ）ムスカ・ドメスチカ（Ｍｕｓｃａ　ｄｏｍｅｓｔｉ
ｃａ　）に対する致死効果の研究 体重１８〜２０ｍｇの６日令の雌の蠅を使用する。操作
は、５０％の相対湿度条件下に２２℃で行う。被検化合
物は、蠅の背側胸部に１ｇ／リットルのアセトン溶液を
局所適用することによって投与する。薬量ＬＣ５０を求
める。結果はｐｐｍで表わされる。 ｃ）アフィス・クラシボラ（Ａｐｈｉｓ　ｃｒａｃｉｖ
ｏｒａ　）に対する活性の研究 広い豆の葉に被検化合物を含有する２ｃｃの含水アセト
ン溶液（５０／５０）を葉から溶液が流れ落ちるまで噴
霧する。乾燥した後、１５匹のアフィス・クラシボラの
雌の幼虫を葉の上に付着させる。全体をペトリ皿内の湿
ったろ紙上に保つ。接触を開始して２４時間後に、死亡
した幼虫の数を決定する。薬量ＬＣ５０を求める。結果
はｐｐｍで表わされる。
【００７３】ＩＩＩ．本発明の化合物の殺ダニ活性１枚
の葉に付き３０匹のテトラニチュウス・ウルチカエ（Ｔ
ｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ　ｕｒｔｉｃａｅ　）の雌をたか
らせた２枚の葉からなる豆の木を使用し、常時点灯した
照明付き天井の下に置いた換気フード内に入れる。植物
をフィシャーガンで処理する。植物１本当たり４ｍｌの
等容積の水とアセトンとの混合物からなる毒溶液を使用
する。半時間乾燥させた後、ダニを横行させる。死亡率
の検査を３日後に行う。薬量ＬＣ５０を求める。結果は
、下記の基準を考慮して行う。 Ａ：ＬＣ５０＜２５０ｐｐｍ Ｂ：２５０ｐｐｍ＜ＬＣ５０≦１０００ｐｐｍＣ：ＬＣ
５０＞１０００ｐｐｍ 得られた結果を下記の表５に要約する。
【００７４】
【表５】

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　次式（Ｉ） 【化１】 （ここで、Ｒは水素原子、８個までの炭素原子を含有す
    る置換されていてもよいアルキル、アルケニル若しくは
    アルキニル基、８個までの炭素原子を含有する置換され
    ていてもよいシクロアルキル若しくはシクロアルケニル
    基、１８個までの炭素原子を含有する置換されていても
    よいアリール基、２４個までの炭素原子を含有する置換
    されていてもよいアリールアルキル基、置換されていて
    もよいベンゾイル基又は置換されていてもよい複素環式
    基を表わし、ａｌｃ１　及びａｌｃ２　は同一であって
    も異なっていてもよく、８個までの炭素原子を含有する
    置換されていてもよいアルキル基を表わし、Ｘは酸素又
    は硫黄原子を表わし、Ｒ’　はフェニル核の任意の位置
    にあり、水素原子又はハロゲン原子を表わし、二重結合
    の配置はＥ又はＺ又はＥとＺの混合物である）の化合物
    。
  2. 【請求項２】　　Ｘが酸素原子を表わす請求項１記載の
    式（Ｉ）の化合物。
  3. 【請求項３】　　Ｒ’　が水素原子を表わす請求項１又
    は２記載の式（Ｉ）の化合物。
  4. 【請求項４】　　ａｌｃ１　及びａｌｃ２　がそれぞれ
    メチル基を表わす請求項１〜３のいずれかに記載の式（
    Ｉ）の化合物。
  5. 【請求項５】　　Ｒが８個までの炭素原子を含有するア
    ルキル基を表わす請求項１〜４のいずれかに記載の式（
    Ｉ）の化合物。
  6. 【請求項６】　　Ｒがｎ−ブチル基を表わす請求項５記
    載の化合物。
  7. 【請求項７】　　Ｒがハロゲン原子、フェノキシ基、チ
    アゾールル基、６個までの炭素原子を含有するアルキル
    オキシ基及び１個以上のハロゲン原子で置換されたアル
    キル基より成る群から選択される１個以上の基で置換さ
    れたいてもよいフェニル基を表わすか、又はＲが２個の
    隣接炭素原子上にアルキレンジオキシ基が置換している
    フェニル基を表わす請求項１〜４のいずれかに記載の式
    （Ｉ）の化合物。
  8. 【請求項８】　　Ｒが４個までの炭素原子を含有するア
    ルキルオキシ基、ハロゲン原子又は同時にこれらの２個
    の置換基で置換されたフェニル基を表わす請求項７記載
    の式（Ｉ）の化合物。
  9. 【請求項９】　　Ｒがメトキシ基で置換されたフェニル
    基を表わす請求項８記載の式（Ｉ）の化合物。
  10. 【請求項１０】　　Ｒが塩素原子で置換されたフェニル
    基を表わす請求項７記載の式（Ｉ）の化合物。
  11. 【請求項１１】　　Ｒが臭素原子で置換されたフェニル
    基を表わす請求項７記載の式（Ｉ）の化合物。
  12. 【請求項１２】　　Ｒがトリフルオルメチル基で置換さ
    れたフェニル基を表わす請求項７記載の式（Ｉ）の化合
    物。
  13. 【請求項１３】　　Ｒが３，４−メチレンジオキシフェ
    ニル基を表わす請求項７記載の式（Ｉ）の化合物。
  14. 【請求項１４】　　Ｒが８個までの炭素原子を含有する
    直鎖若しくは分岐鎖状アルキル基又は置換されていてよ
    いフェニル基で置換されていてよいチアゾリル基を表わ
    す請求項１〜４のいずれかに記載の式（Ｉ）の化合物。
  15. 【請求項１５】　　Ｒがイソプロピル基で置換されたチ
    アゾリル基を表わす請求項１４記載の式（Ｉ）の化合物
    。
  16. 【請求項１６】　　Ｒがトリフルオルメトキシフェニル
    基で置換されたチアゾリル基を表わす請求項１４記載の
    式（Ｉ）の化合物。
  17. 【請求項１７】　　エノールエーテルの二重結合がＥ配
    置である請求項１〜１６のいずれかに記載の式（Ｉ）の
    化合物。
  18. 【請求項１８】　　化合物名が下記の通りの請求項１７
    記載の式（Ｉ）の化合物。 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（４−メトキ
    シフェニル）−７−ベンゾフラン酢酸メチル、α−［（
    Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（３−メトキシフェニ
    ル）−７−ベンゾフラン酢酸メチル、α−［（Ｅ）−メ
    トキシメチレン］−２−（３−クロルフェニル）−７−
    ベンゾフラン酢酸メチル、α−［（Ｅ）−メトキシメチ
    レン］−２−（２−クロルフェニル）−７−ベンゾフラ
    ン酢酸メチル、α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２
    −［４−ブロム−３−（トリフルオルメチル）フェニル
    ］ベンゾフラン酢酸メチレン、 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−［４−クロル
    −（３−メトキシ）フェニル］−７−ベンゾフラン酢酸
    メチレン、 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−７−［２−［４−
    （２−イソプロピル）チアゾリル］ベンゾフラニル］酢
    酸メチル、 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−（３，４−メ
    チレンジオキシ）フェニル）−７−ベンゾフラン酢酸メ
    チル、 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−ブチル−７−
    ベンゾフラン酢酸メチル、 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−［２−［４−
    （トリフルオルメトキシ）フェニル］−４−チアゾリル
    ］−７−ベンゾフラン酢酸メチル、 α−［（Ｅ）−メトキシメチレン］−２−［４−（２−
    トリフルオルメトキシ）チアゾリル］−７−ベンゾフラ
    ン酢酸メチル
  19. 【請求項１９】　　請求項１〜１８のいずれかに記載の
    式（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、次式（ＩＩ）【
    化２】 ここで、Ｒ、Ｒ’　及びａｌｃ２　は請求項１記載の意
    味を有する）の化合物にホルミル化剤を作用させて次式
    （ＩＩＩ） 【化３】 の化合物を得、この化合物にアルコキシル化剤を作用さ
    せて次式（ＩＡ　） 【化４】 （ここで、ａｌｃ１　は請求項１記載の意味を有する）
    の化合物を得、所望ならばこの化合物に酸素原子を硫黄
    原子で置換できる試薬を作用させて次式（ＩＢ　）【化
    ５】 の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製
    造法。
  20. 【請求項２０】　　新規な工業用化合物としての式（Ｉ
    Ｉ）及び式（ＩＩＩ）の化合物。
  21. 【請求項２１】　　請求項１〜１８のいずれかに記載の
    式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活性成分として含
    有する有害生物防除剤組成物。
  22. 【請求項２２】　　請求項１〜１８のいずれかに記載の
    式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活性成分として含
    有する殺虫剤組成物。
  23. 【請求項２３】　　請求項１〜１８のいずれかに記載の
    式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活性成分として含
    有する殺ダニ剤組成物。
  24. 【請求項２４】　　請求項１〜１８のいずれかに記載の
    式（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活性成分として含
    有する殺菌剤組成物。
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