JPH04287956A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH04287956A
JPH04287956A JP3578291A JP3578291A JPH04287956A JP H04287956 A JPH04287956 A JP H04287956A JP 3578291 A JP3578291 A JP 3578291A JP 3578291 A JP3578291 A JP 3578291A JP H04287956 A JPH04287956 A JP H04287956A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
external
external lead
semiconductor device
welding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3578291A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Nakayama
修 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP3578291A priority Critical patent/JPH04287956A/ja
Publication of JPH04287956A publication Critical patent/JPH04287956A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、主として金属封止型
半導体装置の内部リードと外部リードの接合方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】図4は金属封止型半導体装置の断面図を
示すもので銅からなるステム5に予めロウ付けされた内
部リード2は、半導体チップ6から金線8により結線さ
れており、更に、その状態のステムとパイプ状外部リー
ド1を有するキャップ7とを電気溶接により接合、内部
を封止した構造となっている。更に、図4A部及び図5
に示す様にパイプ状外部リード1に挿入された内部リー
ドを外部から一対の電極3によっては加圧し、つぶすと
共に両電極間に電流を流すことにより電気的接続を得る
。尚、前記内部リード2及びステム5の表面には半導体
チップ6が接合しやすい様に表面に金メッキが施されて
いる。図3は従来の半導体装置のかしめ部の正面図及び
右側面図である。
【0003】次にその作用について説明する。内部リー
ド2と外部リード1は、加圧により圧接されると共に、
印加電流により内部リード2の表面の金メッキにより金
ロウ接合を形成する。これにより、内部リード2と外部
リード1は電気的接合を行なうことが出来る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体装置は以
上の様な構造となっているので、リードに外力が加わっ
た時、又は接合面に油等汚れが付着した場合、金ロウ接
合の形成が不充分なため、電気的接触を損なう等の問題
点があった。
【0005】この発明は上記の様な問題点を解消するた
めになされたもので、内部リードと外部リードの接触が
良好に得られる構造の半導体装置を得ることを目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、外部リードを平坦につぶした後、その平坦面をY
AGレーザ溶接,電気溶接等で内部リードと外部リード
を溶接したものである。
【0007】
【作用】この発明における半導体装置は、内部リードと
外部リードが溶接接合されるので電気的接続が良好とな
る。
【0008】
【実施例】実施例1.図1は、この発明による半導体装
置のかしめ部の断面正面図及び右側面図であり、図にお
いて、1はニッケル,コバールからなる外部リード、2
はコバール,ニッケル等からなるパイプ状の内部リード
であり、B部が溶接により内部リード2と外部リード1
が接合されている。その方法として、図5に示す従来と
同様に一対の治具で加圧,つぶした後、図2の様にYA
Gレーザ光により、平坦部の一部を溶接する。図2にお
いて、4はレーザ照射口であり、又点線はそのレーザ光
を表わし、矢印方向に移動させることにより、広範囲に
溶接する。
【0009】次にその作用について説明する。図1の様
に、平坦部のB部は、外部リード1と内部リード2はY
AGレーザ溶接により溶融接合する。
【0010】なお、上記実施例では溶接の方法をYAG
レーザ溶接によるものを示したが、他の例えば電気溶接
,ガスレーザ溶接等によって行なっても同様の効果を奏
する。
【0011】
【発明の効果】以上の様に、この発明によれば、溶融接
合するので、外力,接合面への汚染よる影響が小さい良
好な電気的接続を得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例によるかしめ部の断面正面
図及び右側面図である。
【図2】この発明の一実施例を示すレーザ溶接時のかし
め部断面正面図及び右側面図である。
【図3】従来の半導体装置のかしめ部の断面正面図及び
右側面図である。
【図4】金属封止型半導体装置の断面正面図である。
【図5】従来の半導体装置をかしめする時のかしめ部断
面正面図及び右側面図である。
【符号の説明】
1  外部リード 2  内部リード 3  かしめ用電極 4  レーザ照射口 5  ステム 6  半導体チップ 7  キャップ本体 8  金線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  パイプ状の外部リードに線状の内部リ
    ードを挿入した後、外部から加圧・変形させることによ
    り、内部リードと外部リードの電気的接続を得る構造の
    リードを有する半導体装置において、前記外部リードを
    相対する治具で平坦につぶした後、平坦部をYAG等の
    レーザ光,電機スポット法,超音波法等により溶接する
    ことを特徴とする半導体装置。
JP3578291A 1991-03-01 1991-03-01 半導体装置 Pending JPH04287956A (ja)

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JP3578291A JPH04287956A (ja) 1991-03-01 1991-03-01 半導体装置

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