JPH04283926A - エッチング処理方法 - Google Patents
エッチング処理方法Info
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- JPH04283926A JPH04283926A JP4784391A JP4784391A JPH04283926A JP H04283926 A JPH04283926 A JP H04283926A JP 4784391 A JP4784391 A JP 4784391A JP 4784391 A JP4784391 A JP 4784391A JP H04283926 A JPH04283926 A JP H04283926A
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- etching
- hydrofluoric acid
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- acid aqueous
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 30
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 27
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- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フッ酸水溶液を使用し
てシリコン酸化膜をエッチングするエッチング処理方法
に関する。
てシリコン酸化膜をエッチングするエッチング処理方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】フッ酸水溶液を使用してシリコン酸化膜
をエッチングする場合に、従来は、エッチング時間の調
整あるいはフッ素イオン濃度の調整によってエッチング
精度の向上を図っている。
をエッチングする場合に、従来は、エッチング時間の調
整あるいはフッ素イオン濃度の調整によってエッチング
精度の向上を図っている。
【０００３】ところが、エッチング装置の自動化に伴い
、エッチング時間を調整することは困難になった。また
、フッ素イオン濃度の調整にはかなりの時間を必要とす
るため、フッ素イオン濃度を一定に調整することは非現
実的であり、現状では濃度管理範囲を設けて、その範囲
内に濃度が入ればよいとしている。
、エッチング時間を調整することは困難になった。また
、フッ素イオン濃度の調整にはかなりの時間を必要とす
るため、フッ素イオン濃度を一定に調整することは非現
実的であり、現状では濃度管理範囲を設けて、その範囲
内に濃度が入ればよいとしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】エッチング時間の調整
が困難であり、また、フッ素イオン濃度を一定に調整す
ることが現実的に困難であるため、十分なエッチング精
度が得られていない。
が困難であり、また、フッ素イオン濃度を一定に調整す
ることが現実的に困難であるため、十分なエッチング精
度が得られていない。
【０００５】本発明の目的は、この欠点を解消すること
にあり、フッ酸水溶液のフッ素イオン濃度が変動しても
十分なエッチング精度が得られるエッチング処理方法を
提供することにある。
にあり、フッ酸水溶液のフッ素イオン濃度が変動しても
十分なエッチング精度が得られるエッチング処理方法を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、フッ酸水
溶液の注入されたエッチング処理槽（１）と、前記のフ
ッ酸水溶液の温度を昇降する温度昇降手段（２）と、前
記のフッ酸水溶液のフッ素イオン濃度を測定するフッ素
イオン濃度計（３）と、前記のフッ酸水溶液の温度を測
定する温度計（４）と、前記のフッ素イオン濃度計（３
）の検出するフッ素イオン濃度に対応して前記のフッ酸
水溶液の温度設定値を出力する温度設定値出力手段（５
）と、この温度設定値出力手段（５）の出力する温度設
定値に応答して前記の温度昇降手段（２）を制御する温
度制御手段（６）からなるエッチング処理装置を有し、
被エッチング物をこのエッチング処理槽（１）に浸漬し
てエッチングする際に、このフッ素イオン濃度計（３）
の濃度値が変化した時、温度設定値出力手段（５）は、
エッチングレートが一定となるように温度設定値を変更
するエッチング処理方法によって達成される。
溶液の注入されたエッチング処理槽（１）と、前記のフ
ッ酸水溶液の温度を昇降する温度昇降手段（２）と、前
記のフッ酸水溶液のフッ素イオン濃度を測定するフッ素
イオン濃度計（３）と、前記のフッ酸水溶液の温度を測
定する温度計（４）と、前記のフッ素イオン濃度計（３
）の検出するフッ素イオン濃度に対応して前記のフッ酸
水溶液の温度設定値を出力する温度設定値出力手段（５
）と、この温度設定値出力手段（５）の出力する温度設
定値に応答して前記の温度昇降手段（２）を制御する温
度制御手段（６）からなるエッチング処理装置を有し、
被エッチング物をこのエッチング処理槽（１）に浸漬し
てエッチングする際に、このフッ素イオン濃度計（３）
の濃度値が変化した時、温度設定値出力手段（５）は、
エッチングレートが一定となるように温度設定値を変更
するエッチング処理方法によって達成される。
【０００７】
【作用】エッチングレートはエッチング液の温度によっ
ても変化するので、エッチング液であるフッ酸水溶液中
のフッ素イオン濃度が変化しても、その変化に応答して
フッ酸水溶液の温度を変化させればエッチングレートを
一定にすることができる。図２に、１例として、シリコ
ン酸化膜のエッチングレートが一定の６００Å／ｍｉｎ
である時のフッ酸水溶液のフッ素イオン濃度と温度と
の関係を示す。
ても変化するので、エッチング液であるフッ酸水溶液中
のフッ素イオン濃度が変化しても、その変化に応答して
フッ酸水溶液の温度を変化させればエッチングレートを
一定にすることができる。図２に、１例として、シリコ
ン酸化膜のエッチングレートが一定の６００Å／ｍｉｎ
である時のフッ酸水溶液のフッ素イオン濃度と温度と
の関係を示す。
【０００８】図１に、エッチング処理装置の原理説明図
を示す。図中、１はエッチング処理槽であり、フッ酸水
溶液が注入されている。２はフッ酸水溶液の温度昇降手
段であり、３はフッ酸水溶液中のフッ素イオン濃度を測
定するフッ素イオン濃度計であり、４はフッ酸水溶液の
温度を測定する温度計である。
を示す。図中、１はエッチング処理槽であり、フッ酸水
溶液が注入されている。２はフッ酸水溶液の温度昇降手
段であり、３はフッ酸水溶液中のフッ素イオン濃度を測
定するフッ素イオン濃度計であり、４はフッ酸水溶液の
温度を測定する温度計である。
【０００９】５は温度設定値出力手段であり、エッチン
グレートが一定となるときのフッ素イオン濃度とフッ酸
水溶液温度との関係が入力されており、フッ素イオン濃
度計の出力する濃度に応答してフッ酸水溶液の温度設定
値を出力する。
グレートが一定となるときのフッ素イオン濃度とフッ酸
水溶液温度との関係が入力されており、フッ素イオン濃
度計の出力する濃度に応答してフッ酸水溶液の温度設定
値を出力する。
【００１０】６は温度制御手段であり、温度設定値出力
手段５の出力する温度設定値に温度計４の温度、すなわ
ちフッ酸水溶液の温度が一致するように、温度昇降手段
２を制御する。
手段５の出力する温度設定値に温度計４の温度、すなわ
ちフッ酸水溶液の温度が一致するように、温度昇降手段
２を制御する。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の一実施例に
係るエッチング処理方法を説明する。
係るエッチング処理方法を説明する。
【００１２】図３にエッチング処理装置の構成図を示す
。図中、図１で示したものと同一のものは同一記号で示
してあり、７はフッ酸水溶液を循環する循環ポンプであ
り、８は循環量を制御する流量制御手段であり、９はフ
ィルタである。
。図中、図１で示したものと同一のものは同一記号で示
してあり、７はフッ酸水溶液を循環する循環ポンプであ
り、８は循環量を制御する流量制御手段であり、９はフ
ィルタである。
【００１３】温度昇降手段２はマイクロコンピュータに
よって制御することができる。図４に示すフローチャー
トを同時に参照してマイクロコンピュータによる制御を
説明する。
よって制御することができる。図４に示すフローチャー
トを同時に参照してマイクロコンピュータによる制御を
説明する。
【００１４】予め、マイクロコンピュータのＲＯＭ（読
み出し専用メモリ）に、エッチングレートが一定となる
ときのフッ酸水溶液のフッ素イオン濃度と温度との関係
（図２参照）を記憶させておく。フッ素イオン濃度計３
からの濃度信号を入力し、ＲＯＭに記憶されているテー
ブルをルックアップしてそのフッ素イオン濃度に対応す
るフッ酸水溶液の温度設定値を読み出す。この温度設定
値と温度計４から入力される温度信号とが一致するよう
に温度昇降手段２に制御信号を出力する。
み出し専用メモリ）に、エッチングレートが一定となる
ときのフッ酸水溶液のフッ素イオン濃度と温度との関係
（図２参照）を記憶させておく。フッ素イオン濃度計３
からの濃度信号を入力し、ＲＯＭに記憶されているテー
ブルをルックアップしてそのフッ素イオン濃度に対応す
るフッ酸水溶液の温度設定値を読み出す。この温度設定
値と温度計４から入力される温度信号とが一致するよう
に温度昇降手段２に制御信号を出力する。
【００１５】図５に、エッチング処理装置のエッチング
レートの変動幅を示す。図中、Ａをもって示すグラフは
従来の方法を使用した場合を示し、Ｂをもって示すグラ
フは本発明に係るエッチング処理装置を使用した場合を
示す。エッチングレートの変動幅が縮小され、エッチン
グ精度が向上している。
レートの変動幅を示す。図中、Ａをもって示すグラフは
従来の方法を使用した場合を示し、Ｂをもって示すグラ
フは本発明に係るエッチング処理装置を使用した場合を
示す。エッチングレートの変動幅が縮小され、エッチン
グ精度が向上している。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明に係るエッ
チング処理方法においては、フッ酸水溶液のフッ素イオ
ン濃度が変化しても、フッ酸水溶液の温度を調整してエ
ッチングレートが一定になるように制御しているので、
フッ酸水溶液のフッ素イオン濃度に濃度管理範囲が設け
られていても、エッチング精度を向上することができる
。
チング処理方法においては、フッ酸水溶液のフッ素イオ
ン濃度が変化しても、フッ酸水溶液の温度を調整してエ
ッチングレートが一定になるように制御しているので、
フッ酸水溶液のフッ素イオン濃度に濃度管理範囲が設け
られていても、エッチング精度を向上することができる
。
【図１】本発明に係るエッチング処理方法の原理説明図
である。
である。
【図２】エッチングレートが一定になるときのフッ酸水
溶液のフッ素イオン濃度と温度との関係を示すグラフで
ある。
溶液のフッ素イオン濃度と温度との関係を示すグラフで
ある。
【図３】本発明に係るエッチング処理方法の構成図であ
る。
る。
【図４】コンピュータ制御のフローチャートである。
【図５】エッチングレートの変動幅を示すグラフである
。
。
１ エッチング処理槽
２ 温度昇降手段
３ フッ素イオン濃度計
４ 温度計
５ 温度設定値出力手段
６ 温度制御手段
Claims (1)
- 【請求項１】 フッ酸水溶液の注入されたエッチング
処理槽（１）と、前記フッ酸水溶液の温度を昇降する温
度昇降手段（２）と、前記フッ酸水溶液のフッ素イオン
濃度を測定するフッ素イオン濃度計（３）と、前記フッ
酸水溶液の温度を測定する温度計（４）と、前記フッ素
イオン濃度計（３）の検出するフッ素イオン濃度に対応
して前記フッ酸水溶液の温度設定値を出力する温度設定
値出力手段（５）と、該温度設定値出力手段（５）の出
力する温度設定値に応答して前記温度昇降手段（２）を
制御する温度制御手段（６）からなるエッチング処理装
置を有し、被エッチング物を該エッチング処理槽（１）
に浸漬してエッチングする際に、該フッ素イオン濃度計
（３）の濃度値が変化した時、温度設定値出力手段（５
）は、エッチングレートが一定となるように温度設定値
を変更することを特徴とするエッチング処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4784391A JP2896938B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | エッチング処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4784391A JP2896938B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | エッチング処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283926A true JPH04283926A (ja) | 1992-10-08 |
| JP2896938B2 JP2896938B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=12786653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4784391A Expired - Lifetime JP2896938B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | エッチング処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2896938B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP4784391A patent/JP2896938B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2896938B2 (ja) | 1999-05-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990209 |